IonpureIP-LXM30Z EDI模塊技術(shù)的市場占有率目前正迅速地擴大，它如同RO的早期市場開發(fā)一樣，其***的銷售策略已經(jīng)贏得了大量的供應商，并獲得了一批可為用戶提供服務的地方**。接下來就由小編一一為大家解析吧！一、IonpureIP-LXM30Z EDI模塊市場

  目前世界上有許多水處理公司可以銷售RO－EDI系統(tǒng)，任何一個有名的化學水處理設備供應商（或作為水處理系統(tǒng)的咨詢顧問），都會一致地將EDI視為那些要求降低酸堿使用的客戶的一個解決方案。

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3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當?shù)那逑春拖?，直接導致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、西門子EDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、西門子EDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴重下降，清洗無效。

  7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 IP-LXM45Z模塊美國IONPURE EDI模塊廠家直供美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號出售。

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。

清洗 隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為： - 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量經(jīng)得起檢驗。

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學再生,可連續(xù)運行,進而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下:

美國ionpure IP-LXM30Z模塊的凈水基本過程

  ·連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定

  ·容易實現(xiàn)全自動控制

  ·無須用酸堿再生

  ·不會因再生而停機

  ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設施

  ·產(chǎn)水率高(可達95%)

  ·無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設施

  ·占地面積小

  ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿

  ·降低運行及維護成本

  ·設備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設施

  ·安裝簡單、費用低廉

 ·設備初投資大 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保推薦咨詢。天津原裝美國IONPURE EDI模塊推薦廠家

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清洗

隨著工作時間的累積，需要對美國IonpureEDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：

-硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)；

-在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；

-在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢；

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。

例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒,消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。 美國IONPURE EDI模塊好貨源好價格

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