根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1．

  清洗時，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

***步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡化了運行操作，降低了總的固定投資費用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會得到進(jìn)一步的提高。

  將來會如何變化？我們會看到在所有的工業(yè)單元中降低對化學(xué)藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A(yù)計，在3到5年的時間內(nèi)，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會采用RO／EDI系統(tǒng)，剩余15％的部分則是應(yīng)用在預(yù)處理的費用較高或者不能抵消非化學(xué)方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場合。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現(xiàn)在已完全確立了其市場地位，而且獲得了工業(yè)界的***接受，此項技術(shù)的發(fā)展將取決于工業(yè)界對采用非化學(xué)方法制取純水的不斷需求。

(1) 西門子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎選購。

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、IONPUREEDI模塊進(jìn)水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無效。

  7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。上海供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊多少錢

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安全

1)避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學(xué)物質(zhì)，過氧化氫是氧化劑。

2)將整個管線降壓以避免高壓化學(xué)藥劑噴濺。

3) EDI系統(tǒng)在高電壓下運行，在任何維護(hù)工作前，確保整流器不通電并鎖定。

清洗化學(xué)品規(guī)范

  所有化學(xué)品應(yīng)必須達(dá)到推薦使用的等級或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%), ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%:ACS級,或達(dá)到水系統(tǒng)清洗的商用濃度。鹽酸(HCl)ACS或技術(shù)級氫氧化鈉(NaOH):球狀, NF, ACS或凈化級; 或50%w/w 溶液。 浙江美國IONPURE EDI模塊的特點

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