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天津原裝美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-10-28

美國西門子(IONPURE)EDI模塊工作主要有三個(gè)過程:

     a.  淡水進(jìn)入淡水室后,淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換,從而從水中脫離;

     b. 被交換的離子受電性吸引作用,陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移,陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移,并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后,由于陽離子無法穿過陰離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無法穿過陽離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊;此外,由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除,那么淡水的純度將不斷提高,在由模塊出來的時(shí)候,其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保免費(fèi)咨詢。天津原裝美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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美國Ionpure EDI模塊混床在運(yùn)行過程中,其內(nèi)部的樹脂分為飽和區(qū),交換區(qū),新生區(qū)。飽和區(qū)的樹脂已經(jīng)被離子飽和,不再具有從進(jìn)水中交換離子的功能;交換區(qū)的樹脂處于部分飽和狀態(tài),離子交換主要在交換區(qū)完成;新生區(qū)的樹脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運(yùn)行,飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動,新生區(qū)的空間將減少,直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證,而新生區(qū)被穿透的時(shí)候,也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降,混床是需要用藥品再生。浙江美國IONPURE EDI模塊供貨商美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保原裝進(jìn)口。

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(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下,隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小,出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大,導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng),極限電流增大,產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大,產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流,由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多,除用于再生樹脂外,大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電,同時(shí)由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴(kuò)散,結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。

西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水,而不會由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境:應(yīng)安裝在室內(nèi),避免陽光直射,室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃(95oF)。






                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進(jìn)水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進(jìn)水溫度

45℃(113?F)

名義流量時(shí)的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%,取決于進(jìn)水條件 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量保證。

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IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達(dá)到了高流量的工業(yè)化要求-不僅在電子工業(yè),而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域,這些系統(tǒng)提供的流量可達(dá)2000gpm及以上。事實(shí)上,由于***技術(shù)的開發(fā),EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素,而不是EDI系統(tǒng)的自身。


二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO-EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用,簡化了運(yùn)行操作,降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求,但我們可以預(yù)期,隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高,RO-EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會得到進(jìn)一步的提高。 購買請美國IONPURE EDI模塊咨詢上海純超環(huán)保。浙江廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊量大從優(yōu)

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    根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài),EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1.

  清洗時(shí),EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI,從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。(正洗)

2.

***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液,循環(huán)30分鐘。

      沖洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,將水箱中水沖洗至中性,然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步:堿洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。


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