西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會由于再生而中斷運行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運行環(huán)境：應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進水溫度

45℃(113?F)

名義流量時的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進水條件 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保信譽保證。山東全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊量大從優(yōu)

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

批發(fā)美國IONPURE EDI模塊供貨商美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點：

  1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料；

  2、膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜；

  3、采用進口EDI**均粒樹脂和國產(chǎn)EDI**均粒樹脂；

  4、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

  5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

  6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件；

  7、出廠比較高試壓7bar不漏水；

  8、電阻低、功耗??；

  9、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實；

  10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

  11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。

(1)進水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專業(yè)銷售。

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保按客戶的需求發(fā)貨。北京供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊的特點

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美國Ionpure EDI模塊混床在運行過程中，其內(nèi)部的樹脂分為飽和區(qū)，交換區(qū)，新生區(qū)。飽和區(qū)的樹脂已經(jīng)被離子飽和，不再具有從進水中交換離子的功能；交換區(qū)的樹脂處于部分飽和狀態(tài)，離子交換主要在交換區(qū)完成；新生區(qū)的樹脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運行，飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動，新生區(qū)的空間將減少，直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證，而新生區(qū)被穿透的時候，也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降，混床是需要用藥品再生。山東全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊量大從優(yōu)

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