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山東專業(yè)美國IONPURE EDI模塊報價

來源: 發(fā)布時間:2023-04-05

  美國ionpure IP-LXM30Zedi模塊可以極其可靠地生產出質量穩(wěn)定的高純水,而不會由于再生而中斷運行。美國ionpure IP-LXM30Z edi模塊可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。


美國ionpure IP-LXM30Zedi模塊產品的特色:

· 采用雙O-型密封圈進行密封,確保膜堆在運行中不發(fā)生泄漏;

· 產水水質等同甚至優(yōu)于混床出水,無需使用化學藥劑;

· 連續(xù)產水且水質穩(wěn)定無波動,不似批處理設備呈周期變化;

· 不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐;

· 具有優(yōu)良的電絕緣性能;

· 在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續(xù)運行;

· 采用專利注冊的“全填充”技術,不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng);

· 運行成本***降低。 購買美國IONPURE EDI模塊認準原裝產品。山東專業(yè)美國IONPURE EDI模塊報價

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超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應原件﹐DC電源供應器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設備之后并提供下列優(yōu)勢。 ***穩(wěn)定及符合工業(yè)級需求之比較好原件 ****避免漏水之運轉設計 *機簡易之配管及回路設計需求 *提供完整之電源供應原件 *可提供單一膜塊**電源供應 *可顯示個別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設計比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設計比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫**膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無廢水排放 浙江口碑好美國IONPURE EDI模塊報價美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質量經(jīng)得起檢驗。

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(1) 西門子EDI模塊,進水電導率的影響。

    在相同的操作電流下,隨著原水電導率的增加西門子EDI模塊對弱電解質的去除率減小,出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大,導致水的解離程度增強,極限電流增大,產生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。



(2) 西門子EDI模塊,工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大,產水水質不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流,由于水電離產生的H+和OH-離子量過多,除用于再生樹脂外,大量富余離子充當載流離子導電,同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴散,結果使產水水質下降。

IONPURE EDI配管簡單,只需配進水母管、產品水出管和濃縮水返回管,而其他品牌EDI需進水母管、產品水出管、濃縮水返回管、循環(huán)水管和電極水管; IONPURE EDI無循環(huán)泵控制電盤,而其他品牌EDI需循環(huán)泵控制電盤; IONPURE EDI不需注入鹽水循環(huán),因此不會在陽極產生氯氣,破壞膜塊內膜片,而其他品牌EDI會在陽極產生氯氣,破壞膜片,影響人員健康; IONPURE EDI**膜塊電源控制,單一膜塊需維護或故障時不影響其它膜塊組運轉,而其他品牌EDI所有膜塊共用一個電源控制,單一膜塊故障時需整個系統(tǒng)停止運轉; IONPURE EDI有高溫**膜塊可供選用,而其他品牌EDI無高溫**膜塊設計。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎咨詢。

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IONPURE LX系列模塊特點 ? 雙“O”型圈密封,保證無泄漏運行; ? 不需要濃水循環(huán); ? 不需要注入鹽水; ? 超級電氣絕緣; ? 100psi,113°F(45°C) 連續(xù)運行。 可靠、耐用的工業(yè)設計 IONPURE公司從1986年發(fā)明了連續(xù)電解去離子技術(簡稱CEDI)開始,一直致力于新產品的開發(fā)與技術改進,其中包括為工業(yè)特殊應用而設計的LX系列模塊,其突出的優(yōu)點如下: ? 比較大的可靠性; ? **的“濃水槽”樹脂填充技術,無需循環(huán)泵和鹽水注入; ? 很大的低運行成本; ? 操作方便; 由于LX系列模塊可以有效果穩(wěn)定的運行,因此廣泛應用于化工、電力、電子、食品、飲料和實驗室等行業(yè)。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保性價比出眾??诒妹绹鳬ONPURE EDI模塊推薦廠家

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    根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài),EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1.

  清洗時,EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI,從“產水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。(正洗)

2.

***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液,循環(huán)30分鐘。

      沖洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,將水箱中水沖洗至中性,然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

第三步:堿洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。


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