美國ionpure edi模塊的進(jìn)水指標(biāo)要求： ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水 ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。 ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm。 ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，edi比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。 ◎溫度：5～35℃。 ◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。 ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。 ◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。 ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。 ◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。 ◎H2S：<0.01ppm。 ◎二氧化硅：<0.5ppm。 ◎色度：<5APHA。 ◎二氧化碳的總量：<10ppm。 ◎ SDI 15min：<1.0。上海純超環(huán)保出售原裝進(jìn)口美國IONPURE EDI模塊。批發(fā)美國IONPURE EDI模塊推薦廠家

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點(diǎn)如下:

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊的凈水基本過程

  ·連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定

  ·容易實(shí)現(xiàn)全自動控制

  ·無須用酸堿再生

  ·不會因再生而停機(jī)

  ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施

  ·產(chǎn)水率高(可達(dá)95%)

  ·無須酸堿儲備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施

  ·占地面積小

  ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿

  ·降低運(yùn)行及維護(hù)成本

  ·設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施

  ·安裝簡單、費(fèi)用低廉

  ·設(shè)備初投資大 天津批發(fā)美國IONPURE EDI模塊推薦廠家美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號出售。

美國ionpureEDI模塊的進(jìn)水指標(biāo)：

◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。

◎電導(dǎo)率：<40μS/cm

◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，EDI最 佳工作的pH范圍為8.0～9.0。

◎溫度：5～35℃。

◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。

◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。

◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。

◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。

◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。

◎H2S：<0.01ppm。

◎二氧化硅：<0.5ppm。

◎色度：<5APHA。

◎二氧化碳的總量：<10ppm。

◎ SDI15min：<1.0。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (僅按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況：

     1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流，小流量運(yùn)行，積聚的熱量得不到散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量都不同程度的下降。

     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，最終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機(jī)沒有保護(hù)，EDI的膜片和通道滋生有機(jī)物，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，最終無法使用。

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離子進(jìn)入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊，則從模塊底部出來；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

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