清洗

隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國(guó)IonpureEDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?

-硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)；

-在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢（例如，硅）；

-在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢；

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢；

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國(guó)IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說(shuō)明將同時(shí)提供給用戶。

例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒,消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎咨詢。北京美國(guó)IONPURE EDI模塊廠家報(bào)價(jià)

美國(guó)西門(mén)子（IONPURE）EDI模塊工作主要有三個(gè)過(guò)程：

     a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

     b. 被交換的離子受電性吸引作用，陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽(yáng)離子無(wú)法穿過(guò)陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無(wú)法穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽(yáng)離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來(lái)的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 四川美國(guó)IONPURE EDI模塊價(jià)格美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷多年。

美國(guó)ionpure edi模塊的進(jìn)水指標(biāo)要求： ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水 ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。 ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm。 ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，edi比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。 ◎溫度：5～35℃。 ◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。 ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。 ◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。 ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。 ◎變價(jià)金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。 ◎H2S：<0.01ppm。 ◎二氧化硅：<0.5ppm。 ◎色度：<5APHA。 ◎二氧化碳的總量：<10ppm。 ◎ SDI 15min：<1.0。

 美國(guó)西門(mén)子（IONPURE）EDI模塊混床在運(yùn)行過(guò)程中，其內(nèi)部的樹(shù)脂分為飽和區(qū)，交換區(qū)，新生區(qū)。飽和區(qū)的樹(shù)脂已經(jīng)被離子飽和，不再具有從進(jìn)水中交換離子的功能；交換區(qū)的樹(shù)脂處于部分飽和狀態(tài)，離子交換主要在交換區(qū)完成；新生區(qū)的樹(shù)脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運(yùn)行，飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動(dòng)，新生區(qū)的空間將減少，直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證，而新生區(qū)被穿透的時(shí)候，也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降，混床需要用藥品再生。美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保值得推薦。

(1) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2) 西門(mén)子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至最 高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保廠家供應(yīng)。四川美國(guó)IONPURE EDI模塊價(jià)格

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(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。

  進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。

(6)進(jìn)水中CO2的影響。

  進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹(shù)脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。

(7)總陰離子含量(TEA)的影響。

  高的TEA將會(huì)降EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提EDI模塊運(yùn)行電流，而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對(duì)極膜壽命不利。

  另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)IONPUREEDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響 北京美國(guó)IONPURE EDI模塊廠家報(bào)價(jià)

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