2．酸洗

   1）配制2.0%鹽酸溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸，邊加邊攪拌均勻（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后，啟動清洗泵運(yùn)行30分鐘，運(yùn)行流量和壓力為正常運(yùn)行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運(yùn)行時流量的一半。

   3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。

3．消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水，緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液，配制0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循環(huán)10分鐘，使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎來電。浙江全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊價格

化學(xué)物質(zhì)使用 ● 系統(tǒng)不需注入 水循環(huán), 完全毋需使用化學(xué)物質(zhì) ● 在濃縮水層運(yùn)用**分層式樹脂排列技術(shù)來降低膜組電阻值 ● 濃縮水之電導(dǎo)度通常會介于20-100μS/cm 控制難易度 ● 原水流入濃縮水層后直接回收, 毋需使用循環(huán)泵浦 ● 配管極為簡易, *有3支配管(進(jìn)水管, 產(chǎn)品水出水管及濃縮水出水管) ● 無循環(huán)泵浦控制電盤 ● 只需利用電源開關(guān)ON/OFF控制即可, 毋需使用PLC程控 ● 配管及控制簡易, 大幅下降整體設(shè)置及維護(hù)成本 回收率 ● 濃縮水之水質(zhì)優(yōu)于原水許多(電導(dǎo)度通常介于20-100μS/cm) ● 可回收至RO前繼續(xù)使用 其它優(yōu)勢 ● 不需注入鹽水循環(huán), 因此不會在陽極產(chǎn)生任何氯氣(Chlorine)破壞膜塊內(nèi)膜片 ● **膜塊電源控制, 單一膜塊需維護(hù)或故障時不影響其它膜塊組運(yùn)轉(zhuǎn) ● 另有高溫**膜塊可供選用 上海銷售美國IONPURE EDI模塊供貨商美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保滿足客戶的不同需求。

美國ionpure LXM45ZEDI模塊裝置包括陰/陽離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過,不允許陽離子通過,而陽離子交換膜只允許陽離子透過,不允許陰離子通過。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個處理單元,并構(gòu)成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰陽電極形成電場。來水水流流經(jīng)淡水室,水中的陰 陽離子在電場作用下通過陰陽離子交換膜被***,進(jìn)入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂**地提高了離子被***的速度。同時,水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持比較好狀態(tài)。

(1) 西門子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 上海純超環(huán)保出售質(zhì)量美國IONPURE EDI模塊。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。

     進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。

(6) 西門子EDI模塊，進(jìn)水中CO2的影響。

     進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。

(7) 西門子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。

     高的TEA將會降西門子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門子EDI模塊運(yùn)行電流，而過高的運(yùn)行電流會導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對極膜壽命不利。

另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對西門子EDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響。 浙江全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊價格

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