清洗

隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國(guó)IonpureEDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?

-硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)；

-在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢（例如，硅）；

-在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢；

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢；

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國(guó)IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說(shuō)明將同時(shí)提供給用戶。

例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒,消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。 購(gòu)買美國(guó)IONPURE EDI模塊選擇上海純超環(huán)保沒(méi)錯(cuò)的。北京批發(fā)美國(guó)IONPURE EDI模塊的特點(diǎn)

美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊在運(yùn)行過(guò)程中存在一個(gè)平衡狀態(tài),即:進(jìn)離子總數(shù)＝出離子總數(shù),宏觀表現(xiàn)就是３個(gè)工作區(qū)間相對(duì)穩(wěn)定,不發(fā)生上下移動(dòng)。如果模塊的工作條件發(fā)生變化,則需要比較長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)達(dá)到平衡狀態(tài)。

     美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)在運(yùn)行中可調(diào)因素大致有進(jìn)水流量、濃水流量、電壓等。

     進(jìn)水流量增加,模塊的工作壓力也相應(yīng)增加,如果超過(guò)模塊的處理范圍,出水水質(zhì)會(huì)***變差。所以當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較高時(shí),適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)進(jìn)水的流量是必需的。當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較小時(shí),也可以在美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)壓力允許的范圍內(nèi)增加進(jìn)水的流量,以提高產(chǎn)水的效率。 廣東批發(fā)美國(guó)IONPURE EDI模塊供貨商上海純超環(huán)保出售質(zhì)量美國(guó)IONPURE EDI模塊。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

IONPUREIP-LXM45Z EDI模塊設(shè)備的進(jìn)水指標(biāo)：

     ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水；

     ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm；

     ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm；

     ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0；      

     ◎溫度： 5～35℃；

      ◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）；

     ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm；

     ◎有機(jī)物（ TOC）：<0.5ppm；

      ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm；

      ◎變價(jià)金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。；

      ◎H2S：<0.01ppm；

     ◎二氧化硅：<0.5ppm；

     ◎色度：<5APHA；

     ◎二氧化碳的總量：<10ppm；

     ◎ SDI 15min：<1.0。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號(hào)出售。

西門子EDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹(shù)脂的壽命縮短，增加運(yùn)行成本，嚴(yán)重影響生產(chǎn)。

導(dǎo)致西門子EDI模塊故障的主要原因：

  1、西門子EDI模塊長(zhǎng)期在大電流，低于額定流量情況下運(yùn)行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量下降，嚴(yán)重會(huì)碳化漏水。

  2、西門子EDI模塊長(zhǎng)期沒(méi)有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無(wú)法調(diào)節(jié)，電壓上升。

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超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應(yīng)原件﹐DC電源供應(yīng)器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設(shè)備之后并提供下列優(yōu)勢(shì)。 ***穩(wěn)定及符合工業(yè)級(jí)需求之比較好原件 ****避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì) *機(jī)簡(jiǎn)易之配管及回路設(shè)計(jì)需求 *提供完整之電源供應(yīng)原件 *可提供單一膜塊**電源供應(yīng) *可顯示個(gè)別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫**膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機(jī)再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無(wú)廢水排放 北京批發(fā)美國(guó)IONPURE EDI模塊的特點(diǎn)

上海純超環(huán)保科技有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治、展望未來(lái)、有夢(mèng)想有目標(biāo)，有組織有體系的公司，堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來(lái)的道路上大放光明，攜手共畫(huà)藍(lán)圖，在上海市市轄區(qū)等地區(qū)的環(huán)保行業(yè)中積累了大批忠誠(chéng)的客戶粉絲源，也收獲了良好的用戶口碑，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ)，也希望未來(lái)公司能成為*****，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息，斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將**上海純超環(huán)?？萍己湍黄饠y手步入輝煌，共創(chuàng)佳績(jī)，一直以來(lái)，公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針，員工精誠(chéng)努力，協(xié)同奮取，以品質(zhì)、服務(wù)來(lái)贏得市場(chǎng)，我們一直在路上！