陽極氧化膜的孔隙直徑為0.01-0.03μm，染料的單分子為0.0015-0.003μm，染料向孔內(nèi)擴(kuò)散，與氧化鋁通過氫鍵、離子鍵等結(jié)合使膜層著色，封孔后固定。氧化膜的孔隙可以通過電流密度來控制，控制活化控制孔徑。控制氧化時(shí)間來控制氧化膜的厚度。陽極氧化是一種電解過程，可在鋁表面上沉積化學(xué)穩(wěn)定的氧化物層。所得的氧化膜比鋁的天然氧化物覆蓋層厚且強(qiáng)。它堅(jiān)硬，多孔，透明，是金屬表面不可或缺的一部分，因此不會(huì)剝離或剝落。一旦沉積，可以在密封之前以多種方式對(duì)氧化膜進(jìn)行著色。導(dǎo)電氧化(又叫化學(xué)氧化)不需要通電。嘉興陽極氧化多少

陽極的鋁或其合金氧化 ，表面上形成氧化鋁薄層 ，其厚度為5～20微米 ，硬質(zhì)陽極氧化膜可達(dá)60～200微米 。陽極氧化后的鋁或其合金，提高了其硬度和耐磨性，可達(dá)250～500千克／平方毫米，良好的耐熱性 ，硬質(zhì)陽極氧化膜熔點(diǎn)高達(dá)2320K ，優(yōu)良的絕緣性 ，耐擊穿電壓高達(dá)2000V ，增強(qiáng)了抗腐蝕性能 ，在ω＝0.03NaCl鹽霧中經(jīng)幾千小時(shí)不腐蝕。有色金屬或其合金（如鋁、鎂及其合金等）都可進(jìn)行陽極鋁氧化處理，這種方法普遍用于機(jī)械零件，飛機(jī)汽車部件，精密儀器及無線電器材，日用品和建筑裝飾等方面。嘉興陽極氧化多少陽極氧化的目的是生產(chǎn)厚的氧化鋁表面層。

鋁及鋁合金型材的成分及熱處理狀態(tài)對(duì)所生成的陽極氧化膜的外觀及性能有很大的影響。如進(jìn)行硫酸陽極氧化時(shí)，銅含量高的鋁合金型材，由于Cu、Al的溶解使膜層比較疏松、多孔；含硅高的鋁合金膜層灰暗。含銅大于5%或含硅大于7.5%的鋁合金不宜進(jìn)行鉻酸陽極氧化。含銅或硅含量高的鋁合金型材不能按膏規(guī)的方法進(jìn)行硬質(zhì)陽極氧化，而必須選用高頻硬質(zhì)氧化電源進(jìn)行。對(duì)于裝飾性陽極氧化，對(duì)鋁及鋁合金材質(zhì)的要求就較高。一般只有純鋁、包鋁、鋁鎂、鋁錳合金才能染著較鮮艷的色彩。

鋁陽極氧化著色的技巧：陽極氧化采用人工方法讓鋁及其鋁合金表面生產(chǎn)一層氧化膜并施以不同的顏色，來提高鋁材的耐磨性，延長(zhǎng)使用壽命并增加色澤。噴砂氧化加強(qiáng)染色前的清洗，產(chǎn)品有氧化槽中取出后要充分清洗，鋁陽極氧化表示尤其工件的夾縫、盲孔處，不然殘留的酸在染色時(shí)會(huì)慢慢流出來，讓染色溶液的ph偏離正常范圍，并讓其部位的顏色和別的地方有明顯的差別，甚至有可能腐蝕氧化膜。氧化鋁的表面在自然條件下就保持一層10100埃的氧化膜，人工氧化膜根據(jù)不同的目的讓膜厚度控制在0.5-250微米。人工膜生產(chǎn)的方法有化學(xué)氧化法和電化學(xué)氧化法?；瘜W(xué)氧化將表面凈化處理后的鋁或鋁合金在含有氧化劑的氧化溶液中進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，形成一層陽極氧化膜?；钚詣┑淖饔檬鞘龟枠O氧化膜在生產(chǎn)過程中部分溶解，產(chǎn)生孔隙，使氧化繼續(xù)進(jìn)行，陽極氧化膜得以增厚。陽極氧化通常在硫酸、草酸或鉻酸等電解質(zhì)溶液中進(jìn)行。鋁陽極氧化稱以鋁作陽極、鉛等金屬做陽極，在直流電場(chǎng)的作用下，陰離子向陽極移動(dòng)，并在陽極產(chǎn)生新生氧于陽極的鋁作用，生成氧化膜。硬質(zhì)陽極氧化膜熔點(diǎn)高達(dá)2320K。

阻擋層是又無水的氧化鋁所組成，薄而致密，具有高的硬度和阻止電流通過的作用。阻擋層厚約0.03-0.05μm，為總膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外層主要是又非晶型的氧化鋁及小量的水合氧化鋁所組成，此外還含有電解液的陽離子。當(dāng)電解液為硫酸時(shí)，膜層中硫酸鹽含量在正常情況下為13%-17%。氧化膜的大部分優(yōu)良特性都是由多孔外層的厚度及孔隙率所覺決定的，它們都與陽極氧化條件密切相關(guān)。直流電硫酸陽極氧化：在硫酸電解液中陽極氧化，作為陽極的鋁制品，在陽極化初始的短暫時(shí)間內(nèi)，其表面受到均勻氧化，生成極薄而有非常致密的膜。硬質(zhì)陽極氧化是鋁及鋁合金表面生成厚而堅(jiān)硬氧化膜的一種工藝方法。嘉興陽極氧化多少

陽極氧化需要的時(shí)間往往要幾十分鐘。嘉興陽極氧化多少

硬質(zhì)陽極氧化：一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對(duì)來說溫度越低硬質(zhì)越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對(duì)較?。挥操|(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)陽極氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場(chǎng)合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場(chǎng)合。?嘉興陽極氧化多少