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無錫直銷四氟化碳價格走勢

來源: 發(fā)布時間:2022-05-09

四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,廣用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蝕刻。同時,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強,CF4還可用于金屬冶煉和塑料等行業(yè)。就目前而言,CF4以其相對低廉的價格將會長期占據(jù)著蝕刻氣體的市場,因此具有廣的發(fā)展?jié)摿?。常溫常壓下比較穩(wěn)定,但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。無錫直銷四氟化碳價格走勢

    四氟化碳的合成方法:由碳與氟反應(yīng),或一氧化碳與氟反應(yīng),或碳化硅與氟反應(yīng),或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng),或二氟二氯甲烷與氟化氫反應(yīng),或四氯化碳與氟化銀反應(yīng),或四氯化碳與氟化氫反應(yīng),都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行,反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體,再通過冷凍,用硅膠除去氣體中的水分,經(jīng)精餾而得成品;預(yù)先稱取5~10g的碳化硅粉末和,置于鎳盤中,使硅和碳化硅充分接觸后,將鎳盤放入蒙乃爾合金反應(yīng)管中,向反應(yīng)管內(nèi)通入氟氣,氟氣先和單質(zhì)硅反應(yīng),反應(yīng)放熱后,氟開始和碳化硅進行反應(yīng),通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣,使反應(yīng)繼續(xù)進行,生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝,然后慢慢地氣化后,將其通過裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅,隨后通過硅膠和五氧化二磷干燥塔得到產(chǎn)品;以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。在裝有活性炭的反應(yīng)爐中,緩緩?fù)ㄈ敫邼夥鷼猓⑼ㄟ^加熱器加熱、供氟速率和反應(yīng)爐冷卻控制反應(yīng)溫度。產(chǎn)品經(jīng)除塵,堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質(zhì)、再經(jīng)脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進行間歇粗餾,通過控制精餾溫度,除去O2、N2、H2,得到高純CF4。 上海市直銷四氟化碳價格走勢性狀:無色無味氣體 2.熔點(℃):-183.6 3.沸點(℃):-127.8。

在實驗室內(nèi),四氟化碳可以由二氧化碳、一氧化碳或光氣與四氟化硫的氟化作用來獲取。商業(yè)上可由氟與二氯二氟甲烷或氯三氟甲烷的反應(yīng)制備。另一個方法是用碳電極電解氟化物MF、MF2。四氟化碳,像其他氟代烴一樣,是十分穩(wěn)定的,這是因為C-F鍵很強,鍵能為515kJ.mol-1(參見環(huán)境影響)。因此不與酸及氫氧化物反應(yīng),但是會跟堿金屬發(fā)生危險反應(yīng)。熱分解會產(chǎn)生劇毒的氣體(碳酰氟、一氧化碳,如果有水存在,還會產(chǎn)生腐蝕性的氟化氫)。四氟化碳微溶于水(約20mg.l-1),但可與乙醇及石油醚混溶。

    四氟化碳一般認(rèn)為是惰性低毒物質(zhì),在高濃度下是窒息劑,其毒性不及四氯化碳。安全防護四氟化碳為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用,但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。可以用聚四氟乙烯,環(huán)氧樹脂和醋酸纖維。尼龍在高溫,有水和空氣時變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用,但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。 四氟化碳不燃燒,有低毒性和窒息性。

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產(chǎn),鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài),印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時,由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業(yè);如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。溫度較低時,四氟化碳與二氧化碳不發(fā)生作用。上海正規(guī)四氟化碳質(zhì)量代理商

將鎳盤放入蒙乃爾合金反應(yīng)管中。無錫直銷四氟化碳價格走勢

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產(chǎn),鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài),印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時,由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業(yè);如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。

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