四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常環(huán)境下是相對惰性的,在不通風(fēng)的地方會引起窒息。在射頻等離子體環(huán)境中,氟自由基表現(xiàn)為典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高純度的四氟化碳能很好的控制加工過程,使尺寸和形狀得到更好的控制,這不同于其他的鹵烴遇到空氣或氧氣時不利于各種特殊的控制(如半導(dǎo)體各項異性控制)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子燭刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。 它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳,也可以被視為一種無機(jī)化合物。江浙滬新能源四氟化碳價格走勢
四氟化碳是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定,可以長時間停留在大氣層中,是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年,全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500(二氧化碳的系數(shù)是1)。雖然結(jié)構(gòu)與氟氯烴相似,但四氟化碳不會破壞臭氧層。這是因為導(dǎo)致臭氧層破壞的是氟氯烴中的氯原子,它被紫外線輻射擊中時會分離。碳-氟鍵比較強(qiáng),因此分離的可能性比較低。吸入四氟化碳的后果與濃度有關(guān),包括頭疼、惡心、頭昏眼花及心血管系統(tǒng)的破壞(主要是心臟)。長時間接觸會導(dǎo)致嚴(yán)重的心臟破壞。四氟化碳的密度比較高,可以塡滿地面空間范圍,在不通風(fēng)的地方會導(dǎo)致窒息。無錫口碑好四氟化碳價格走勢四氟化碳沒有腐蝕性。
在常溫常壓下四氟化碳為無色無臭有輕微醚味的氣體,在空氣中不燃燒,具有可壓縮性,揮發(fā)性較高,是一種比較穩(wěn)定的無毒有機(jī)化合物。但是在高溫時,或與可燃?xì)怏w一同燃燒時,會分解出有毒的氟化物。對于硅和二氧化硅體系,采用CF4-O2反應(yīng)離子刻蝕時,通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例,可以獲得45:1的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),四氟化碳還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
在實驗室內(nèi),四氟化碳可以由二氧化碳、一氧化碳或光氣與四氟化硫的氟化作用來獲取。商業(yè)上可由氟與二氯二氟甲烷或氯三氟甲烷的反應(yīng)制備。另一個方法是用碳電極電解氟化物MF、MF2。四氟化碳,像其他氟代烴一樣,是十分穩(wěn)定的,這是因為C-F鍵很強(qiáng),鍵能為515kJ.mol-1(參見環(huán)境影響)。因此不與酸及氫氧化物反應(yīng),但是會跟堿金屬發(fā)生危險反應(yīng)。熱分解會產(chǎn)生劇毒的氣體(碳酰氟、一氧化碳,如果有水存在,還會產(chǎn)生腐蝕性的氟化氫)。四氟化碳微溶于水(約20mg.l-1),但可與乙醇及石油醚混溶。四氟化碳對肝臟、腦神經(jīng)系統(tǒng)有損害。
四氟化碳(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體,廣用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超凈、多品種、多規(guī)模,各國為推動本國微電子工業(yè)的發(fā)展,越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言,CF4以其相對低廉的價格長期占據(jù)著蝕刻氣體的市場,因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?R-14制冷劑,別名R14、氟利昂14、PFC-14,商品名稱有Freon 14等。上海市直銷四氟化碳推薦企業(yè)
四氯化碳與氟化氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進(jìn)行。江浙滬新能源四氟化碳價格走勢
四氟化碳在常溫下,四氟化碳是無色、無臭、不燃的易壓縮性氣體,揮發(fā)性較高,是穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一,不易溶于水。四氟化碳無毒,但是燃燒后會產(chǎn)生有毒物質(zhì)。四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體,充裝于四氟化碳鋼瓶中,飽和蒸汽壓約壓力2000psig。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產(chǎn),激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài),印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 江浙滬新能源四氟化碳價格走勢