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上海優(yōu)良四氟化碳廠家價(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-13

 四氟化碳有  制冷、氣體絕緣、干蝕刻氣、氟化劑、表面處理劑、激光氣體泄漏檢驗(yàn)劑等用途。四氟化碳為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用,但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。    可以用聚四氟乙烯,環(huán)氧樹(shù)脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷?,有水和空氣時(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用,但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。四氟化碳是穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一。上海優(yōu)良四氟化碳廠家價(jià)格

隨著半導(dǎo)體等現(xiàn)代行業(yè)的快速發(fā)展,四氟化碳由于其穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)而被廣泛應(yīng)用,由于能夠強(qiáng)烈的吸收紅外輻射和極高的穩(wěn)定性,使得四氟化碳成為一種全球變暖潛力值和生命周期極高的溫室氣體。具有低能耗和高效率的等離子體處理法被廣泛應(yīng)用于四氟化碳分解中,表面波等離子體的大面積、無(wú)極放電、放電容器形狀多樣等優(yōu)點(diǎn)使其成為處理四氟化碳的良好方法。設(shè)計(jì)了一套大面積表面波等離子體反應(yīng)器,在低氣壓下激發(fā)等離子體用于處理四氟化碳,考察了微波功率、氣體流量、氧氣比例等影響因素對(duì)分解率的影響。無(wú)錫口碑好四氟化碳哪里有常溫常壓下穩(wěn)定,避免強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。

    四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來(lái)源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常環(huán)境下是相對(duì)惰性的,在不通風(fēng)的地方會(huì)引起窒息。在射頻等離子體環(huán)境中,氟自由基表現(xiàn)為典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高純度的四氟化碳能很好的控制加工過(guò)程,使尺寸和形狀得到更好的控制,這不同于其他的鹵烴遇到空氣或氧氣時(shí)不利于各種特殊的控制(如半導(dǎo)體各項(xiàng)異性控制)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子燭刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽(yáng)氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。

    四氟化碳又稱(chēng)四氟甲烷,被視為一種無(wú)機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定,但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w,如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大,有開(kāi)裂危險(xiǎn)。通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,可廣用于硅、二氧化硅,磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽(yáng)能電池的生產(chǎn),激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面都有著大量的應(yīng)用。 四氟化碳不燃燒,有低毒性和窒息性。

    四氟化碳的用途有哪些?四氟化碳是不燃燒的無(wú)色、無(wú)味的壓縮氣體,充裝于四氟化碳鋼瓶中,飽和蒸汽壓約壓力2000psig。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽(yáng)能電池的生產(chǎn),激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài),印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業(yè);如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。 四氟化碳是無(wú)色、無(wú)臭、不燃的易壓縮性氣體,揮發(fā)性較高。上海直銷(xiāo)四氟化碳質(zhì)量代理商

只有適當(dāng)?shù)臈l件下,四氟化碳才能與氧化劑和還原劑進(jìn)行反應(yīng)。上海優(yōu)良四氟化碳廠家價(jià)格

    四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體,用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超凈、多品種、多規(guī)模,各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)的發(fā)展,越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言,CF4以其相對(duì)低廉的價(jià)格長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體的市場(chǎng),因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?上海優(yōu)良四氟化碳廠家價(jià)格