四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時(shí)，由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉。鎮(zhèn)江***四氟化碳質(zhì)量代理商

    四氟化碳用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體，用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳是微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。四氟化碳常溫常壓下穩(wěn)定，避免強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。不燃?xì)怏w，遇高熱后容器內(nèi)壓增大，有開裂危險(xiǎn)?；瘜W(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 揚(yáng)州優(yōu)良四氟化碳哪里有或四氯化碳與氟化氫反應(yīng)，都能生成四氟化碳。

四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干.高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體是極大規(guī)模集成電路行業(yè)必須的清洗、蝕刻氣體。隨著極大規(guī)模集成電路技術(shù)的提升，芯片制程向14納米甚至7納米的邁進(jìn)，其對電子氣體的純度要求越來越高。為此，黎明院借助國家科技重大專項(xiàng)平臺(tái)，突破產(chǎn)物合成、精制提純、雜物分析、潔凈充裝等關(guān)鍵技術(shù)，攻克了高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質(zhì)的純化、分析等技術(shù)難題，

四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體，充裝于四氟化碳鋼瓶中，飽和蒸汽壓約壓力2000psig。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。四氟化碳也可作為低溫制冷劑、低溫絕緣介質(zhì)。

四氟甲烷（Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane），亦稱四氟化碳、全氟化碳，PFC-14（R-14），化學(xué)式CF4，商品名稱Reflube 14，相對分子量88.00。在常溫下，四氟甲烷是無色、無臭、不燃，不溶于水的可壓縮性氣體。沸點(diǎn)-128℃，熔點(diǎn)-183.6℃。液體密度（-130℃）1.613g/cm3，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.74MPa，蒸氣壓（-150.7℃）13.33kPa，介電常數(shù)（25℃，0.5MPa）1.0006。揮發(fā)性較高，是穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一，在900攝氏度時(shí)，不與鋼、鎳、鎢、鉬反應(yīng)，在碳弧溫度下緩慢分解，微溶于水，在25攝氏度及0.1MPa下其溶解度為0.0015％（重量比），然而與可燃性氣體燃燒時(shí)， 會(huì)分解產(chǎn)生有毒氟化物，危險(xiǎn)性類別為第2.2類不燃?xì)怏w。四氟化碳，又稱為四氟甲烷。南京安全四氟化碳廠家哪家好

四氟化碳不溶于水，常壓下25℃時(shí)為0.0015，溶于氯仿和苯。鎮(zhèn)江***四氟化碳質(zhì)量代理商

隆鑫氣體自2011年成功實(shí)現(xiàn)高純六氟乙烷的進(jìn)口替代之后，每年都會(huì)有新產(chǎn)品研發(fā)成功，2014年有6款新產(chǎn)品研發(fā)成功，近幾年保持每年研發(fā)推出2-3種新氣體的節(jié)奏，從產(chǎn)品突破到實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)一般需要1-2年的時(shí)間。公司現(xiàn)有特種氣體產(chǎn)品230余種，其中高純四氟化碳、高純六氟乙烷、光刻氣、高純二氧化碳、高純一氧化碳、高純氨、高純一氧化氮等近20種產(chǎn)品在國內(nèi)集成電路、顯示面板等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了進(jìn)口替代，目前已經(jīng)成為國內(nèi)電子氣體的公司。二氧化碳爆破始于二十世紀(jì)五十年代，八十年代在美國開始發(fā)展，主要是想避免因爆破產(chǎn)生火焰引起的事故而專門為高瓦斯礦井的采煤工作面研發(fā)的。2015年，隨著科技的發(fā)展，國內(nèi)二氧化碳爆破器材廠商逐步涌現(xiàn)（主要部件仍然依靠進(jìn)口，國產(chǎn)故障率略高) ，但當(dāng)前其成熟度不足，仍處在不斷成長和發(fā)展階段。

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