四氟化碳（CF4）是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體，廣用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超凈、多品種、多規(guī)模，各國為推動本國微電子工業(yè)的發(fā)展，越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言，CF4以其相對低廉的價格長期占據(jù)著蝕刻氣體的市場，因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體。優(yōu)良四氟化碳價格便宜

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體，廣用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超凈、多品種、多規(guī)格，各國為推動本國微電子工業(yè)發(fā)展，越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言，CF4以其相對低廉的價格長期占據(jù)著蝕刻氣體場，因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿?。蘇州四氟化碳廠家供貨四氟化碳常溫下不與銅、鎳和鎢反應(yīng)。

    四氟化碳在常溫常壓下為無色無臭有輕微醚味的氣體?？諝庵胁蝗紵?，是比較穩(wěn)定的無毒物質(zhì)。但是在高溫時，或與可燃?xì)怏w一同燃燒時，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能與二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，，水中溶解度為(重量)。有輕微的水解作用。四氟化碳一般認(rèn)為是惰性低毒物質(zhì)，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。

在使用四氟化碳的同時，也要注意使用四氟化碳的注意事項，如在泄漏時，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進(jìn)行隔離，嚴(yán)格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴(kuò)散。如有可能，即時使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗后再用。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險。也要注意使用四氟化碳的注意事項。

在實驗室內(nèi)，四氟化碳可以由二氧化碳、一氧化碳或光氣與四氟化硫的氟化作用來獲取。商業(yè)上可由氟與二氯二氟甲烷或氯三氟甲烷的反應(yīng)制備。另一個方法是用碳電極電解氟化物MF、MF2。四氟化碳，像其他氟代烴一樣，是十分穩(wěn)定的，這是因為C-F鍵很強(qiáng)，鍵能為515kJ.mol-1（參見環(huán)境影響）。因此不與酸及氫氧化物反應(yīng)，但是會跟堿金屬發(fā)生危險反應(yīng)。熱分解會產(chǎn)生劇毒的氣體（碳酰氟、一氧化碳，如果有水存在，還會產(chǎn)生腐蝕性的氟化氫）。四氟化碳微溶于水（約20mg.l-1），但可與乙醇及石油醚混溶。人能不能再四氟化碳里面呼吸？安全四氟化碳優(yōu)化價格

四氟化碳如何正確使用？優(yōu)良四氟化碳價格便宜

一種四氟化碳?xì)怏w濃度檢測校正方法，包括：

通過雙光路檢測系統(tǒng)利用雙波長紅外差分檢測法測量出不同溫度下的四氟化碳?xì)怏w濃度值；

將測量出的所述四氟化碳?xì)怏w濃度值和對應(yīng)的溫度值輸入至RBF神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練；

將對測試樣本測量所得的四氟化碳?xì)怏w濃度值輸入至訓(xùn)練好的所述RBF神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行測試并開展反演計算，得到校正后的四氟化碳?xì)怏w實際濃度值。

推薦地，在本發(fā)明實施例提供的上述四氟化碳?xì)怏w濃度檢測校正方法中，通過雙光路檢測系統(tǒng)利用雙波長紅外差分檢測法測量出四氟化碳?xì)怏w濃度值，包括：所述紅外光源發(fā)出的紅外光束經(jīng)準(zhǔn)直后進(jìn)入內(nèi)置有四氟化碳?xì)怏w的所述氣體采樣室；被四氟化碳?xì)怏w吸收特定波長的紅外光束作為測量光；波長不受四氟化碳?xì)怏w影響的紅外光束作為參考光；

在所述測量光經(jīng)所述濾光片透射后，檢測所述測量光的光強(qiáng)；在所述參考光經(jīng)所述第二濾光片透射后，檢測所述參考光的光強(qiáng)；

優(yōu)良四氟化碳價格便宜

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