ITO膜層的主要成份是氧化銦錫。在厚度只有幾千埃的情況下,氧化銦透過(guò)率高,氧化錫導(dǎo)電能力強(qiáng),液晶顯示器所用的ITO玻璃正是一種具有高透過(guò)率的導(dǎo)電玻璃。由于ITO具有很強(qiáng)的吸水性,所以會(huì)吸收空氣中的水份和二氧化碳并產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)而變質(zhì),俗稱“霉變”,因此在存放時(shí)要防潮。ITO層在活性正價(jià)離子溶液中易產(chǎn)生離子置換反應(yīng),形成其它導(dǎo)電和透過(guò)率不佳的反應(yīng)物質(zhì),所以在加工過(guò)程中,盡量避免長(zhǎng)時(shí)間放在活性正價(jià)離子溶液中。ITO層由很多細(xì)小的晶粒組成,晶粒在加溫過(guò)程中會(huì)裂變變小,從而增加更多晶界,電子突破晶界時(shí)會(huì)損耗一定的能量,所以ITO導(dǎo)電玻璃的ITO層在600度以下會(huì)隨著溫度的升高,電阻也增大。ITO蝕刻液是一種無(wú)色透明的液體。江蘇TIO制程藥水供貨公司
ITO導(dǎo)電膜玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上,利用磁控濺射的方法沉積二氧化硅(SiO2)和氧化銦錫(通稱ITO)薄膜加工制作成的。ITO是一種具有良好透明導(dǎo)電性能的金屬化合物,具有禁帶寬、可見(jiàn)光譜區(qū)光透射率高和電阻率低等特性,普遍地應(yīng)用于平板顯示器件、太陽(yáng)能電池、特殊功能窗口涂層及其他光電器件領(lǐng)域,是目前LCD、PDP、OLED、觸摸屏等各類平板顯示器件獨(dú)特的透明導(dǎo)電電極材料。作為平板顯示器件的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料,其隨著平板顯示器件的不斷更新和升級(jí)而具有更加廣闊的市場(chǎng)空間。江蘇TIO制程藥水供貨公司ITO蝕刻液是一種無(wú)色透明的液體,無(wú)刺激性氣味,有輕微腐蝕性。
TIO蝕刻液的原料:①氟化銨:分子式為NH4F,白色晶體,易潮解,易溶于水和甲醇,較難溶于乙醇,能升華,在蝕刻液中起腐蝕作用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。②草酸:在蝕刻液中作還原劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。③硫酸鈉:在蝕刻液中作為填充劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。④氫氟酸:即氟化氫的水溶液,為無(wú)色液體,能在空氣中發(fā)煙,有強(qiáng)烈腐蝕性和毒性,能侵蝕玻璃,需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中,可作為蝕刻玻璃的主要原料,一般選用工業(yè)品。⑤硫酸:純品為無(wú)色油狀液體,含雜質(zhì)時(shí)呈黃、棕等色。用水稀釋時(shí),應(yīng)將濃硫酸慢慢注入水中,并隨時(shí)攪和,而不能將水倒入濃硫酸中,以防濃硫酸飛濺而引發(fā)事故,可作為腐蝕助劑,一般選用工業(yè)品。⑥硫酸銨:一般選用工業(yè)品。⑦甘油:一般選用工業(yè)品。⑧水:自來(lái)水。
ITO酸性蝕刻液的蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染;而堿性蝕刻液的蝕刻速率快(可達(dá)70μm/min以上),側(cè)蝕小;溶銅能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低。由以上特性決定,酸性蝕刻液用途可用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作;而堿性蝕刻液一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻。而總的來(lái)說(shuō),堿性與酸性蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。ITO蝕刻液可以說(shuō)是通過(guò)侵蝕材料的特性來(lái)進(jìn)行雕刻的一種液體。
ITO導(dǎo)電玻璃穩(wěn)定性:耐堿為浸入60℃、濃度為10%氫氧化鈉溶液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。耐酸為浸入250C、濃度為6%鹽酸溶液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。耐溶劑為在250C、二甲基酮、無(wú)水乙醇或100份去離子水加3分EC101配制成的清洗液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。附著力:在膠帶貼附在膜層表面并迅速撕下,膜層無(wú)損傷;或連撕三次后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。熱穩(wěn)定性:在300°C的空氣中,加熱30分鐘后,ITO導(dǎo)電膜方塊電阻值應(yīng)不大于原方塊電阻的300%。ITO堿性蝕刻液的密度太低會(huì)加重側(cè)蝕。江蘇TIO制程藥水供貨公司
ITO蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量的特性。江蘇TIO制程藥水供貨公司
ITO酸性蝕刻液用途可用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作;而堿性蝕刻液一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻。而總的來(lái)說(shuō),堿性與酸性蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。ITO酸性蝕刻液的蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染;而堿性蝕刻液的蝕刻速率快,側(cè)蝕??;溶銅能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低。江蘇TIO制程藥水供貨公司
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