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蘇州TIO清潔劑供應信息

來源: 發(fā)布時間:2022-03-24

銅網(wǎng)格黑化藥液按質(zhì)量百分含量包括如下組分:亞硒酸0.05~5%,過硫酸鹽0~10%,穩(wěn)定劑0.01~1%,阻止劑0.01~1%,其余為水。金屬網(wǎng)格的黑化方法使用該黑化藥液對金屬網(wǎng)格進行浸泡。銅網(wǎng)格黑化藥液緩解了目前涂布黑化層的物理黑化方式繁瑣、消影效果一般,容易影響金屬導電性能的缺陷。銅網(wǎng)格黑化藥液通過亞硒酸、穩(wěn)定劑和阻止劑的相互配合不但能夠起到很好的黑化效果,明顯降低金屬的反射率和亮度,目視不明顯,達到消影效果,而且黑化后線路完整、不影響其導電性能。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的快速發(fā)展而不斷增長。蘇州TIO清潔劑供應信息

顯影液的主要成分是顯影劑。為了完善性能,通常還加一些其他成分,諸如促進顯影的促進劑,防止顯影劑氧化的保護劑,防灰霧生成的灰霧阻止劑和防灰霧劑等。通過對各組分不同用量的調(diào)配可以得到不同性能的顯影液,如微粒顯影液、高反差顯影液等。工業(yè)上說的顯影劑,是針對半導體晶片而言。系列有顯影劑、光刻膠等。ITO顯影液的用途:銀鹽膠片顯影用的藥液稱顯影液。用于黑白膠片顯影的顯影液稱黑白顯影液,用于彩色膠片顯影的稱彩色顯影液。江蘇銅黑化供貨商ITO顯影劑在使用中,顯影劑與保護劑、促進劑、阻止劑等配成顯影液使用。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:酸性氯化銅蝕刻液。1、Cu2+含量的影響。溶液中的Cu2+含量對蝕刻速率有一定的影響。一般情況下,溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時,蝕刻速率較低;在2mol/L時速率較高。隨著蝕刻反應的不斷進行,蝕刻液中銅的含量會逐漸增加。當銅含量增加到一定濃度時,蝕刻速率就會下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率,必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內(nèi)。2、Cu+含量的影響。根據(jù)蝕刻反應機理,隨著銅的蝕刻就會形成一價銅離子。較微量的Cu+就會明顯的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個低的范圍內(nèi)。

市場上銷售的ITO顯影液多是濃縮型液體,使用時需要按比例稀釋,ITO顯影液的濃度多以ITO顯影液的稀釋比來表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與ITO顯影液濃度成正比關(guān)系,即ITO顯影液濃度越大,顯影速度越快。當ITO顯影液濃度過大時,往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制。特別是它對圖文基礎的腐蝕性增強,容易造成網(wǎng)點縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病。同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。ITO顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。ITO顯影劑兩液顯影主要作用是用于加強陰影部分的影紋,減低高影調(diào)部分的密度。

ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。市場上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當溫度22℃,顯影時間為60秒時,PD型顯影液濃度對PS版性能的影響。當顯影液濃度過大時,往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制;特別是它對圖文基礎的腐蝕性增強,容易造成網(wǎng)點縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊??;同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。當顯影液的濃度偏低時,堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點糊死等現(xiàn)象。ITO蝕刻液應用用于ITO制程,蝕刻精度高。蘇州銅發(fā)黑規(guī)格型號

ITO彩色顯影劑有CD-2、CD-3、CD-4等。蘇州TIO清潔劑供應信息

影響ITO蝕刻液側(cè)蝕的因素很多,下面概述幾點:1)蝕刻速率:蝕刻速率慢會造成嚴重側(cè)蝕。蝕刻質(zhì)量的提高與蝕刻速率的加快有很大關(guān)系。蝕刻速度越快,板子在蝕刻液中停留的時間越短,側(cè)蝕量越小,蝕刻出的圖形清晰整齊。2)蝕刻液的PH值:堿性蝕刻液的PH值較高時,側(cè)蝕增大。為了減少側(cè)蝕,一般PH值應控制在8.5以下。3)蝕刻液的密度:堿性蝕刻液的密度太低會加重側(cè)蝕,選用高銅濃度的蝕刻液對減少側(cè)蝕是有利的。6)銅箔厚度:要達到較小側(cè)蝕的細導線的蝕刻,盡量采用(超)薄銅箔。而且線寬越細,銅箔厚度應越薄。因為,銅箔越薄在蝕刻液中的時間越短,側(cè)蝕量就越小。蘇州TIO清潔劑供應信息

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