IC除銹劑除了除銹功能外，還具有防銹功能。是由強力IC除銹劑和高效緩蝕劑組成，在快速除銹的同時，對工件的材質(zhì)不造成腐蝕，可作為鹽酸及硫酸的環(huán)保替代品。除銹效果迅速，可迅速除去金屬表面的銹斑。還能滲透溶解碳酸鹽等沉積物（如水垢），并將其它的不溶性物質(zhì)在反應(yīng)過程中分解脫落。沒有類似濃鹽酸的發(fā)煙現(xiàn)象和使用上的危險?？裳杆偃コ砻婕傲悴考芙饘僦破芳傲悴考壬系匿P斑。使用前搖勻，將噴嘴對準需除銹的地方，對于難觸及區(qū)域使用隨罐所附細管，將細管裝在噴頭上。IC封裝藥水防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸。南京IC剝錫藥水供應(yīng)公司

表面顆粒度會引起圖形缺陷、外延前線、影響布線的完整性以及鍵合強度和表層質(zhì)量。顆粒的去除與靜電排斥作用有關(guān)，所以硅片表面呈正電時，容易降低顆粒去除效率，甚至出現(xiàn)再沉淀。傳統(tǒng)的濕法化學清洗中所需要解決的主要問題有：化學片的純度、微粒的產(chǎn)生、金屬雜質(zhì)的污染、干燥技術(shù)的困難、廢水廢氣的處理等。尋求解決上述問題的過程中，發(fā)現(xiàn)改用氣相清洗技術(shù)是一個有效途徑。隨著微電子新材料的使用和微器件特征尺寸的進一步減小，迫切需要一種更具選擇性更環(huán)保、更容易控制的清潔清洗技術(shù)，IC清潔劑在后道工序中銅引線、焊盤、鍵合等都需要進行有機污染物的清洗，用濕法清洗也很難達到目的。無錫芯片封裝藥水庫存充足STM-C190變色防止劑，STM-C190可直接取代磷酸三鈉中和處理制程。

IC除銹活化劑溶液，其特征在于：包含百分比含量為15-40%的硫酸，百分比含量為2-20%的鹽酸，百分比含量為5-25%的過一硫酸氫鉀，百分比含量為0。1-1%的脂肪醇聚氧乙烯醚，其余為水。本發(fā)明具有危害性較小，適用性較廣，除銹活化速度快的優(yōu)點。性能優(yōu)良：本品可快速去除金屬表面上的油、銹和非金屬表面上的油污，無氫脆和過腐蝕現(xiàn)象，并有防灰功能。本品對鐵離子容忍性大，使用壽命極長，并可循環(huán)添加使用。工藝簡單：除油去銹、活化同步進行，一步完成，只需綜合處理 → 水洗兩道工序。

IC封裝藥液具有剝鎳鍍層功能，有機封閉劑：屬于干性防銹/防變色劑，適用于等產(chǎn)品后防變色，防腐蝕處理。環(huán)保，無鉻，符合國家檢測標準。防變色劑又稱防腐蝕劑，IC除銹劑。封閉劑：是通過化學品與金屬之間發(fā)生的一種物理反應(yīng)，使其金屬表面轉(zhuǎn)化成不易被氧化的狀態(tài)，延長金屬使用壽命的方法。封閉的原理：可用薄膜理論來解釋，即認為封閉是由于金屬與氧化性質(zhì)作用，作用時在金屬表面生成一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的物理膜。這層膜成單獨相存在，通常是氧化金屬的化合物。STM-C150除銹活化劑單劑操作，配比濃度20-40%。

因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外，集成電路制造步驟如高溫擴散、離子植入前等均需要進行濕法清洗或干法清洗工作。干、濕法清洗工作是在不破壞晶圓表面特性及電特性的前提下，有效地使用化學溶液或氣體去除殘留在晶圓上之微塵、金屬離子及有機物之雜質(zhì)。污染物雜質(zhì)的分類：IC制程中需要一些有機物和無機物參與完成，另外，制作過程總是在人的參與下在凈化室中進行，這樣就不可避免的產(chǎn)生各種環(huán)境對硅片污染的情況發(fā)生。根據(jù)污染物發(fā)生的情況，大致可將污染物分為顆粒、有機物、金屬污染物及氧化物。IC封裝藥水可以高效去除其表面的松香焊藥，吸塑膠以及墻上粘貼的膠紙，并且有很好的光亮效果。無錫IC封裝表面處理液生產(chǎn)商

IC封裝藥水耐腐蝕性能提高5-20倍。南京IC剝錫藥水供應(yīng)公司

IC清潔劑在諸多的清洗工序中，只要其中某一工序達不到要求，則將前功盡棄，導致整批芯片的報廢，所以可以毫不夸張地說，沒有有效的清洗技術(shù)，便沒有集成電路和超大規(guī)模集成電路的現(xiàn)在。傳統(tǒng)清洗技術(shù)主要使用酸、堿、雙氧水、甲苯、三氯乙烯、氟利昂等化學試劑，成本高，而且有毒，有腐蝕性，危害安全與健康并污染環(huán)境，特別是氟利昂等ODS物質(zhì)研究破壞地球臭氧層，危及人類生態(tài)環(huán)境，是國際上限期禁止生產(chǎn)和使用的物質(zhì)。多年來，國內(nèi)外科學家就致力于研究無毒，無腐蝕性的清洗工藝，但尚未取得突破。南京IC剝錫藥水供應(yīng)公司