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TIO制程藥劑采購(gòu)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-07-24

ITO蝕刻液是通過(guò)侵蝕材料的特性來(lái)進(jìn)行雕刻的一種液體,是一種銅版畫(huà)雕刻用原料。從理論上講,凡能氧化鋼而生成可溶性銅鹽的試劑,都可以用來(lái)蝕刻敷銅箔板,但是ITO蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。對(duì)于ITO蝕刻液用法的理解,我們可以用個(gè)比較通俗的說(shuō)法,那就是使用具有腐蝕性的一些化學(xué)材料對(duì)某種物品進(jìn)行腐蝕,將不需要的部分腐蝕掉,從而將其雕刻成所需要的目標(biāo)物品的過(guò)程。那這個(gè)具有腐蝕性的化學(xué)材料,就稱(chēng)為ITO蝕刻液了ITO顯影液在市場(chǎng)上銷(xiāo)售的多是濃縮型液體。TIO制程藥劑采購(gòu)

ITO蝕刻液由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水組成。ITO蝕刻液的分類(lèi):已經(jīng)使用的蝕刻液類(lèi)型有六種類(lèi)型:酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過(guò)硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅,工藝體系,根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,在生產(chǎn)過(guò)程中通過(guò)補(bǔ)加鹽酸+空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來(lái)實(shí)現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn)。TIO制程藥劑采購(gòu)ITO顯影液主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、顯示面板、太陽(yáng)能電池等行業(yè)。

ITO蝕刻廢液的處理法:目前通行的做法是,在各印制板廠內(nèi)儲(chǔ)存起來(lái),放在密封的池子或儲(chǔ)罐內(nèi)等待外單位拉走處理。外單位一般是經(jīng)當(dāng)?shù)丨h(huán)保部門(mén)審批過(guò)有資質(zhì)的回收公司,他們把廢液拉回去后,使用化學(xué)方法(中和法、電解法、置換法)回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品。這些方法,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯,有二次污染污染物排放。特別是堿性蝕刻,由于有大量的氨離子存在,一旦處理不當(dāng)往外排放,勢(shì)必對(duì)水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。

ITO蝕刻液由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水組成。1、氟化銨:分子式為NH4F,白色晶體,易潮解,易溶于水和甲醇,較難溶于乙醇,能升華,在蝕刻液中起腐蝕作用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。2、草酸:在蝕刻液中作還原劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。3、硫酸鈉:在蝕刻液中作為填充劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。4、氫氟酸:即氟化氫的水溶液,為無(wú)色液體,能在空氣中發(fā)煙,有強(qiáng)烈腐蝕性和毒性,能侵蝕玻璃,需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中,可作為蝕刻玻璃的主要原料,一般選用工業(yè)品。5、硫酸:純品為無(wú)色油狀液體,含雜質(zhì)時(shí)呈黃、棕等色。用水稀釋時(shí),應(yīng)將濃硫酸慢慢注入水中,并隨時(shí)攪和,而不能將水倒入濃硫酸中,以防濃硫酸飛濺而引發(fā)事故,可作為腐蝕助劑,一般選用工業(yè)品。6、硫酸銨:一般選用工業(yè)品。7、甘油:一般選用工業(yè)品。8、水:自來(lái)水。ITO蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量的特性。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:堿性氯化銅蝕刻液。1、氯化銨含量的影響:通過(guò)蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過(guò)量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會(huì)降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對(duì)蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。2、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長(zhǎng);在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。ITO酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。蘇州TIO銅網(wǎng)格黑化現(xiàn)貨

ITO蝕刻液由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水組成。TIO制程藥劑采購(gòu)

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:堿性氯化銅蝕刻液。溶液pH值的影響。蝕刻液的pH值應(yīng)保持在8.0~8.8之間,當(dāng)pH值降到8.0以下時(shí),一方面對(duì)金屬抗蝕層不利;另一方面,蝕刻液中的銅不能被完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子,溶液要出現(xiàn)沉淀,并在槽底形成泥狀沉淀,這些泥狀沉淀能在加熱器上結(jié)成硬皮,可能損壞加熱器,還會(huì)堵塞泵和噴嘴,給蝕刻造成困難。如果溶液pH值過(guò)高,蝕刻液中氨過(guò)飽和,游離氨釋放到大氣中,導(dǎo)致環(huán)境污染;同時(shí),溶液的pH值增大也會(huì)增大側(cè)蝕的程度,從而影響蝕刻的精度。TIO制程藥劑采購(gòu)

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