市場上銷售的ITO顯影液多是濃縮型液體,使用時需要按比例稀釋,ITO顯影液的濃度多以ITO顯影液的稀釋比來表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與ITO顯影液濃度成正比關系,即ITO顯影液濃度越大,顯影速度越快。當ITO顯影液濃度過大時,往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制。特別是它對圖文基礎的腐蝕性增強,容易造成網(wǎng)點縮小、殘損、亮調小網(wǎng)點丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病。同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。ITO顯影液濃度大,還易有結晶析出。ITO黑白顯影劑是硫酸對甲氨基苯酚、對苯二酚等。蘇州顯示屏蝕刻藥劑制造商
影響ITO蝕刻液側蝕的因素很多,下面概述幾點:1)蝕刻方式:浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側蝕,潑濺和噴淋式蝕刻側蝕較小,尤以噴淋蝕刻效果較好。2)蝕刻液的種類:不同的蝕刻液化學組分不同,其蝕刻速率就不同,蝕刻系數(shù)也不同。例如:酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3,堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)可達到4。近來的研究表明,以硝酸為基礎的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側蝕,達到蝕刻的線條側壁接近垂直。這種蝕刻系統(tǒng)正有待于開發(fā)。太倉TIO制程藥水ITO顯影液主要應用于半導體、顯示面板、太陽能電池等行業(yè)。
影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:溶液pH值的影響。蝕刻液的pH值應保持在8.0~8.8之間,當pH值降到8.0以下時,一方面對金屬抗蝕層不利;另一方面,蝕刻液中的銅不能被完全絡合成銅氨絡離子,溶液要出現(xiàn)沉淀,并在槽底形成泥狀沉淀,這些泥狀沉淀能在加熱器上結成硬皮,可能損壞加熱器,還會堵塞泵和噴嘴,給蝕刻造成困難。如果溶液pH值過高,蝕刻液中氨過飽和,游離氨釋放到大氣中,導致環(huán)境污染;同時,溶液的pH值增大也會增大側蝕的程度,從而影響蝕刻的精度。
ITO導電玻璃制造工藝:(1)電化學擴散工藝:在玻璃上用電化學擴散方法可獲得摻雜超導薄膜。玻璃在電化學處理裝置中與熔融金屬或化合物接觸,在一定的電場作用下,熔融金屬或化合物中的離子會擴散到玻璃表面,玻璃中的一價堿金屬離子離解處來,等量地擴散至陰極表面,使玻璃表面的化學組成發(fā)生變化。性能隨之改變。(2)高溫噴涂和等離子體噴涂工藝:這種技術是將粉末狀金屬或非金屬、無機材料加熱至熔化或未熔化狀態(tài),并進一步加溫使其霧化,形成高溫高速焰流噴向需噴涂的玻璃基體。采用這種方式可以先在基體上制備YBaGUOx等涂層,在經(jīng)過熱處理可成為超導性材料。ITO顯影液的主要成分是顯影劑。
ITO顯影液是一種化學用品的成分,主要是用硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀等硼酸、對苯二酚配合組成的一種特殊的用材。像對苯二酚對皮膚、粘膜有強烈的腐蝕作用,吸入、食入、經(jīng)皮吸收均會影響。常用的黑白顯影劑是硫酸對甲氨基苯酚(米吐爾)、對苯二酚(幾奴尼)等。常用的彩色顯影劑有CD-2、CD-3、CD-4等。在使用中,顯影劑與保護劑、促進劑、阻止劑等配成ITO顯影液使用。當ITO顯影液的濃度偏低時,堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調小白點糊死等現(xiàn)象。ITO顯影液是一種重要的濕電子化學品。蘇州觸摸屏生產藥劑銷售價
ITO酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制的特性。蘇州顯示屏蝕刻藥劑制造商
TIO蝕刻液的基本信息:(1)配方。①熱水12g,氟化銨15g,草酸8g,硫酸銨10g,甘油40g,硫酸鋇15g;②氟化銨15g,草酸7g,硫酸銨8g,硫酸鈉14g,甘油35g,水10g;③氫氟酸60(體積數(shù),下同),硫酸10,水30。(2)配制方法。配制蝕刻液①和②時,將上述原料與60℃熱水混合,攪拌均勻即可。配置時不要使溶液濺到皮膚上,而且操作時應戴上口罩。配制蝕刻液③時,按配方將氫氟酸和硫酸混合,然后將混合液倒入水中(不能將水倒入混合液),并不斷攪拌。(3)使用方法。使用刻蝕液①或②時,把要蝕刻的玻璃洗凈、晾干,建議用電爐或紅外線燈將玻璃稍微加熱,以便于蝕刻。蝕刻時,用毛筆蘸蝕刻液書寫文字或圖案于玻璃上,2min蝕刻工作即完成。制作毛玻璃時,將玻璃洗凈、晾干,用刷子均勻涂上腐蝕液即可。蘇州顯示屏蝕刻藥劑制造商
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