IC清潔劑作溶劑可作各種反應(yīng)溶媒，潤滑劑稀釋劑等。特點：無色、無味、無毒、不燃燒，ODP值為零；表面張力低、黏度小、蒸發(fā)潛熱小。用途：特殊用途的溶劑、清洗劑、漂洗劑、無水流體、去焊劑和熱傳遞介質(zhì)，主要用于電子儀表和激光盤片的清洗，顆粒雜物的去除，光學系統(tǒng)及精密場合下清洗。優(yōu)點：由于性能接近CFCs，可使用原有清洗設(shè)備，不需要增加設(shè)備投資，也不需要對工藝做大的改變。一定環(huán)保，安全。使用范圍：電子元件側(cè)漏液，電子零部件（IC，LSI部件）或者電子裝置的氣密性測試。IC封裝藥水潤滑性、耐磨性能優(yōu)良，緩蝕率高。蘇州芯片制程藥劑供應(yīng)

正確的選擇IC清潔劑、設(shè)計清洗環(huán)節(jié)及清洗方法可有效保留電路板與芯片的使用價值與經(jīng)濟價值。以集成電路為關(guān)鍵的電子信息產(chǎn)業(yè)已成為我國的一大產(chǎn)業(yè)成為改造和拉動傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的強大引擎和技術(shù)基礎(chǔ)。當今世界經(jīng)濟競爭中，擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的IC已成為經(jīng)濟發(fā)展的命脈、國際競爭的籌碼和安全的保障。集成電路制造過程中清洗硅片表面的污染和雜質(zhì)是清洗的主要目的，在制造過程中，幾乎每道工序都涉及到清洗，而且集成電路的集成度越高，制造工序越多，所需的清洗工序也越劍。IC除膠清洗劑零售價IC封裝藥水使用壽命長，平時操作一般只需添加，無需更換。

IC封裝藥液由于連續(xù)處理過程中濃度不斷變化，要定期測定PH值，確定IC-502清洗劑含量濃度，保持在規(guī)定的濃度范圍內(nèi)，及時補充添加，以確保清洗效果。工件油污清洗干凈后用清水沖洗，水洗后的工件再做后續(xù)處理。工件如需防銹，油污清洗干凈后直接烘干，不需要水洗，用水沖洗會影響防銹效果。定期清理脫脂槽，定期倒槽排渣。IC芯片容易生銹，不但影響外觀質(zhì)量，還會影響噴漆、粘接等工藝的正常進行，如不及時處理，更會造成材料的報廢，導致不必要的經(jīng)濟損失。

IC封裝藥液使用浸泡、滌刷或噴灑方式均可，浸泡方法較佳。除銹后應(yīng)用大量水沖洗其殘留物，如果除銹后需防銹，則需應(yīng)大量水沖洗后，用5%氫氧化鈉溶液進行中和鈍化、擦干后再噴灑IC除銹劑進行保護。IC除銹劑所釋放出的氣體易燃，所以IC除銹劑應(yīng)遠離高溫、火花、火焰以及產(chǎn)生靜電的場所。應(yīng)在通風良好的環(huán)境下使用。不用時保持容器密閉。避免兒童接觸。避免皮膚和眼睛接觸和吸入。在除銹之前，對于有油的工件，我們一般需要對進行除油處理，將在除油劑溶液中泡幾分鐘，直到除油處理完成后取出，用清水沖洗干凈，即可開始進行除銹。IC封裝藥水不影響鍍層的導電性、可焊性，保持鍍層外觀潔白光亮。

硅晶圓經(jīng)過SC-1和SC-2溶液清洗后，由于雙氧水的強氧化力，在晶圓表面上會生成一層化學氧化層。為了確保閘極氧化層的品質(zhì)，此表面氧化層必須在晶圓清洗過后加以去除。另外，在IC制程中采用化學汽相沉積法(CVD)沉積的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相應(yīng)的清洗過程中有選擇的去除?；瘜W清洗是利用各種化學試劑和有機溶劑去除附著在物體表面上的雜質(zhì)的方法。在半導體行業(yè)，化學清洗是指去除吸附在半導體、金屬材料以及用具表面上的各種有害雜質(zhì)或油污的工藝過程。IC封裝藥水使其金屬表面轉(zhuǎn)化成不易被氧化的狀態(tài)，延長金屬使用壽命的方法。江蘇IC除銹活化液費用

IC封裝藥水經(jīng)金防變色劑處理后的銀鍍層抗變色能力持久，經(jīng)測試1-3年不變色、不生銹。蘇州芯片制程藥劑供應(yīng)

IC清潔劑水清洗技術(shù)是今后清洗技術(shù)的發(fā)展方向，須設(shè)置純凈水源和排放水處理車間。IC清潔劑以水作為清洗介質(zhì)，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑?？梢猿ニ軇┖头菢O性污染物。其清洗工藝特點是：安全性好，不燃燒、不炸裂，基本無毒；清洗劑的配方組成自由度大，對極性與非極性污染物都容易清洗掉，清洗范圍廣；多重的清洗機理。水是極性很強的極性溶劑，除了溶解作用外，還有皂化、乳化、置換、分散等共同作用，使用超聲比在有機溶劑中有效得多；作為一種天然溶劑，其價格比較低廉，來源普遍。蘇州芯片制程藥劑供應(yīng)

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