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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-02-07

市場(chǎng)上銷(xiāo)售的ITO顯影液多是濃縮型液體,使用時(shí)需要按比例稀釋?zhuān)琁TO顯影液的濃度多以ITO顯影液的稀釋比來(lái)表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與ITO顯影液濃度成正比關(guān)系,即ITO顯影液濃度越大,顯影速度越快。當(dāng)ITO顯影液濃度過(guò)大時(shí),往往因顯影速度過(guò)快而使顯影操作不易控制。特別是它對(duì)圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng),容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病。同時(shí)空白部位的氧化膜和封孔層也會(huì)受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。ITO顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。ITO蝕刻液應(yīng)用用于ITO制程,蝕刻精度高。網(wǎng)格黑化批發(fā)商

ITO蝕刻廢液的處理具體特點(diǎn):第1、印制板廠的廢蝕刻液不必再由外單位拉走,在廠內(nèi)就可直接銅回收和廢蝕刻液的循環(huán)使用。實(shí)現(xiàn)了清潔生產(chǎn),不會(huì)對(duì)環(huán)境造成任何污染,符合國(guó)家法律政策。第二、印制板廠蝕刻機(jī)的氨洗水,也同時(shí)獲得了再生回用,或可實(shí)現(xiàn)無(wú)污染排放。第三、很大程度減輕了印制板廠廢水處理站的運(yùn)行負(fù)荷,降低運(yùn)行成本。第四、變廢為寶,為企業(yè)帶來(lái)良好的經(jīng)濟(jì)效益。第五、自主研制、開(kāi)發(fā)、制造、安裝、調(diào)試,全套設(shè)備采用PLC數(shù)字控制,易操作管理。第六、落實(shí)了國(guó)家《清潔生產(chǎn)促進(jìn)法》,樹(shù)立科學(xué)發(fā)展觀,創(chuàng)造人和自然的和諧發(fā)展,實(shí)現(xiàn)“資源再生,循環(huán)經(jīng)濟(jì)”的可持續(xù)經(jīng)濟(jì)發(fā)展目標(biāo),有著非常重要的意義。江蘇顯示屏蝕刻藥劑專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)廠家ITO蝕刻液可以說(shuō)是通過(guò)侵蝕材料的特性來(lái)進(jìn)行雕刻的一種液體。

已經(jīng)使用的蝕刻液類(lèi)型有六種類(lèi)型:酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過(guò)硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅,工藝體系,根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,在生產(chǎn)過(guò)程中通過(guò)補(bǔ)加鹽酸+空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來(lái)實(shí)現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn)。ITO蝕刻液是通過(guò)侵蝕材料的特性來(lái)進(jìn)行雕刻的一種液體。從理論上講,凡能氧化銅而生成可溶性銅鹽的試劑,都可以用來(lái)蝕刻敷銅箔板,但權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,蝕刻系數(shù)、溶銅容量、溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等方面。

ITO導(dǎo)電膜玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上,利用磁控濺射的方法沉積二氧化硅(SiO2)和氧化銦錫(通稱ITO)薄膜加工制作成的。ITO是一種具有良好透明導(dǎo)電性能的金屬化合物,具有禁帶寬、可見(jiàn)光譜區(qū)光透射率高和電阻率低等特性,普遍地應(yīng)用于平板顯示器件、太陽(yáng)能電池、特殊功能窗口涂層及其他光電器件領(lǐng)域,是目前LCD、PDP、OLED、觸摸屏等各類(lèi)平板顯示器件獨(dú)特的透明導(dǎo)電電極材料。作為平板顯示器件的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料,其隨著平板顯示器件的不斷更新和升級(jí)而具有更加廣闊的市場(chǎng)空間。ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量。

溫度對(duì)各種ITO蝕刻液速率的影響:1.堿性氯化銅蝕刻液。蝕刻速率與溫度有很大關(guān)系,蝕刻速率隨著溫度的升高而加快。蝕刻液溫度低于40℃,蝕刻速率很慢,而蝕刻速率過(guò)慢會(huì)增大側(cè)蝕量,影響蝕刻質(zhì)量;溫度高于60℃,蝕刻速率明顯增大,但NH3的揮發(fā)量也很大程度增加,導(dǎo)致污染環(huán)境并使蝕刻液中化學(xué)組分比例失調(diào)。故溫度一般控制在45~55℃為宜。2.酸性氯化銅蝕刻液。隨著溫度的升高,蝕刻速率加快,但是溫度也不宜過(guò)高,一般控制在45~55℃范圍內(nèi)。溫度太高會(huì)引起HCl過(guò)多地?fù)]發(fā),造成溶液組分比例失調(diào)。另外,如果蝕刻液溫度過(guò)高,某些抗蝕層會(huì)被損壞。ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎?a href="http://www.trtjmpt.com/zdcbsx/7zljszvn69/14793657.html" target="_blank">網(wǎng)格黑化批發(fā)商

ITO顯影液的濃度是指NaOH、Na2SiO3總含量。網(wǎng)格黑化批發(fā)商

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