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上海TIO去膜藥劑

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-02-25

市場上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時(shí)需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來表示。ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當(dāng)溫度22℃,顯影時(shí)間為60秒時(shí),PD型顯影液濃度對(duì)PS版性能的影響。當(dāng)顯影液濃度過大時(shí),往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制;特別是它對(duì)圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng),容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病;同時(shí)空白部位的氧化膜和封孔層也會(huì)受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。當(dāng)顯影液的濃度偏低時(shí),堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。ITO堿性蝕刻液的密度太低會(huì)加重側(cè)蝕。上海TIO去膜藥劑

影響ITO酸性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:Cl-含量的影響。溶液中氯離子濃度與蝕刻速率有著密切的關(guān)系,當(dāng)鹽酸濃度升高時(shí),蝕刻時(shí)間減少。在含有6N的HCl溶液中蝕刻時(shí)間至少是在水溶液里的1/3,并且能夠提高溶銅量。但是,鹽酸濃度不可超過6N,高于6N鹽酸的揮發(fā)量大且對(duì)設(shè)備腐蝕,并且隨著酸濃度的增加,氯化銅的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是:在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應(yīng)時(shí),生成的Cu2Cl2不易溶于水,則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜,這種膜能夠阻止反應(yīng)的進(jìn)一步進(jìn)行。過量的Cl-能與Cu2Cl2絡(luò)合形成可溶性的絡(luò)離子(CuCl3)2-,從銅表面上溶解下來,從而提高了蝕刻速率。TIO制程藥劑供貨商ITO顯影劑是指將感光材料經(jīng)曝光后產(chǎn)生的潛影顯現(xiàn)成可見影像的藥劑。

ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。市場上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時(shí)需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當(dāng)溫度22℃,顯影時(shí)間為60秒時(shí),PD型顯影液濃度對(duì)PS版性能的影響。當(dāng)顯影液濃度過大時(shí),往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制;特別是它對(duì)圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng),容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病;同時(shí)空白部位的氧化膜和封孔層也會(huì)受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。當(dāng)顯影液的濃度偏低時(shí),堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。

ITO酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機(jī)理是:酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量的特性;同時(shí),它的溶銅量大;酸性蝕刻液也較容易再生與回收,從而減少污染。有研究表明,酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3,以硝酸為基礎(chǔ)的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側(cè)蝕,達(dá)到蝕刻的線條側(cè)壁接近垂直,其蝕刻效果非常好。結(jié)合以上特性,酸性蝕刻液一般用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作。ITO顯影液用于黑白膠片顯影的顯影液稱黑白顯影液。

ITO蝕刻液的分類:已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型:酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅,工藝體系,根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,在生產(chǎn)過程中通過補(bǔ)加鹽酸+空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來實(shí)現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn)。ITO蝕刻液由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水組成。ITO顯影液是半導(dǎo)體、顯示面板、太陽能電池制作過程中關(guān)鍵的原材料之一。江蘇TIO制程藥劑供應(yīng)信息

ITO蝕刻液是一種無色透明的液體。上海TIO去膜藥劑

銅網(wǎng)格黑化藥液按質(zhì)量百分含量包括如下組分:亞硒酸0.05~5%,過硫酸鹽0~10%,穩(wěn)定劑0.01~1%,阻止劑0.01~1%,其余為水。金屬網(wǎng)格的黑化方法使用該黑化藥液對(duì)金屬網(wǎng)格進(jìn)行浸泡。銅網(wǎng)格黑化藥液緩解了目前涂布黑化層的物理黑化方式繁瑣、消影效果一般,容易影響金屬導(dǎo)電性能的缺陷。銅網(wǎng)格黑化藥液通過亞硒酸、穩(wěn)定劑和阻止劑的相互配合不但能夠起到很好的黑化效果,明顯降低金屬的反射率和亮度,目視不明顯,達(dá)到消影效果,而且黑化后線路完整、不影響其導(dǎo)電性能。上海TIO去膜藥劑

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