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鹽城酸性蝕刻液劑

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-09-17

退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→退錫→水洗→烘干→接板3鎳金板工藝流程退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→酸洗→水洗→烘干→接板4簡單工藝原理蝕銅反應(yīng):在蝕刻過程中,板面上的銅被蝕刻液中的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子氧化,其反應(yīng)如下:Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl再生反應(yīng):(1)所生成的[Cu(NH3)2]1+為Cu1+的絡(luò)離子,不具有蝕刻能力,在有過量NH3和Cl-的情況下,能很快被空氣中O2氧化,生成具有蝕刻能力的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子,完成再生反應(yīng)。2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2O2→2Cu(NH3)4Cl2+H2O蘇州圣天邁帶您了解蝕刻液!鹽城酸性蝕刻液劑

蝕刻液由什么組成?由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水、三氯化鐵、活性添加劑等組成。1、氟化銨:分子式為NH4F,白色晶體,易潮解,易溶于水和甲醇,較難溶于乙醇,能升華,在蝕刻液中起腐蝕作用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。2、草酸:在蝕刻液中作還原劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。3、硫酸鈉:在蝕刻液中作為填充劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。4、氫氟酸:即氟化氫的水溶液,為無色液體,能在空氣中發(fā)煙,有強(qiáng)烈腐蝕性和毒性,能侵蝕玻璃,需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中,可作為蝕刻玻璃的主要原料,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。圣天邁蝕刻液可根據(jù)設(shè)備、工藝、和物料特性進(jìn)行參數(shù)調(diào)整。為客戶提供**合適的蝕刻液產(chǎn)品。江蘇線路板蝕刻液品牌蝕刻液的作用有很多。

電解蝕刻的原理電解蝕刻實(shí)際就是電解某種金屬材料,如電解銅、鐵等。具體的做法是將要蝕刻的制件做陽極,用耐蝕金屬材料做輔助陰極。然后把陽極連接電源的正極,輔助陰極連接電源的負(fù)極。當(dāng)電流通過電極和電解質(zhì)溶液時(shí),在電極的表面及電解質(zhì)溶液中發(fā)生電化學(xué)反應(yīng),利用這種反應(yīng)將要溶解去除的部分金屬去除掉,達(dá)到金屬腐蝕的目的。根據(jù)法拉第定律,電流的通過量與金屬的溶解量成正比也就是被蝕刻的金屬越多,消耗的電量就越大。根據(jù)電化學(xué)原理,電解蝕刻裝置的電源接通后,在陽極上發(fā)生氧化反應(yīng)、在輔助陰極上發(fā)生還原反應(yīng)。

蝕刻液-蘇州圣天邁電子科技有限公司酸銨:一般選用工業(yè)品。⑦甘油:一般選用工業(yè)品。⑧水:自來水。(2)配方①熱水12g,氟化銨15g,草酸8g,硫酸銨10g,甘油40g,硫酸鋇15g;②氟化銨15g,草酸7g,硫酸銨8g,硫酸鈉14g,甘油35g,水10g;③氫氟酸60(體積數(shù),下同),硫酸10,水30。(3)配制方法配制蝕刻液①和②時(shí),將上述原料與60℃熱水混合,攪拌均勻即可。配置時(shí)不要使溶液濺到皮膚上,而且操作時(shí)應(yīng)戴上口罩。配制蝕刻液③時(shí),按配方將氫氟酸和硫酸混合,然后將混合液倒入水中(不能將水倒入混合液),并不斷攪拌。蘇州圣天邁專業(yè)生產(chǎn)蝕刻液。

蝕刻液-添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是:在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應(yīng)時(shí),生成的Cu2Cl2不易溶于水,則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜,這種膜能夠阻止反應(yīng)的進(jìn)一步進(jìn)行。過量的Cl-能與Cu2Cl2絡(luò)合形成可溶性的絡(luò)離子(CuCl3)2-,從銅表面上溶解下來,從而提高了蝕刻速率。b、Cu+含量的影響:根據(jù)蝕刻反應(yīng)機(jī)理,隨著銅的蝕刻就會形成一價(jià)銅離子。較微量的Cu+就會***的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個低的范圍內(nèi)。c、Cu2+含量的影響:溶液中的Cu2+含量對蝕刻速率有一定的影響。一般情況下,溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時(shí),蝕刻速率較低;在2mol/L時(shí)速率較高。隨著蝕刻反應(yīng)的不斷進(jìn)行,蝕刻液中銅的含量會逐漸增加。當(dāng)銅含量增加到一定濃度時(shí),蝕刻速率就會下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率,必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內(nèi)。買蝕刻液,找蘇州圣天邁!江蘇氫氟酸蝕刻液配方

在蝕刻液中起腐蝕作用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。鹽城酸性蝕刻液劑

蝕刻液-蘇州圣天邁電子科技有限公司,且溶液控制困難;在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。b、溶液pH值的影響:蝕刻液的pH值應(yīng)保持在8.0~8.8之間,當(dāng)pH值降到8.0以下時(shí),一方面對金屬抗蝕層不利;另一方面,蝕刻液中的銅不能被完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子,溶液要出現(xiàn)沉淀,并在槽底形成泥狀沉淀,這些泥狀沉淀能在加熱器上結(jié)成硬皮,可能損壞加熱器,還會堵塞泵和噴嘴,給蝕刻造成困難。如果溶液pH值過高,蝕刻液中氨過飽和,游離氨釋放到大氣中,導(dǎo)致環(huán)境污染;同時(shí),溶液的pH值增大也會增大側(cè)蝕的程度,從而影響蝕刻的精度。c、氯化銨含量的影響:通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+鹽城酸性蝕刻液劑