低固態(tài)含量助焊劑：免清洗技術(shù)具有簡(jiǎn)化工藝流程、節(jié)省制造成本和污染少的優(yōu)點(diǎn)。近十年來(lái)，免清洗焊接技術(shù)、免清洗焊劑和免清洗焊膏的普遍使用，是20世紀(jì)末電子產(chǎn)業(yè)的一大特點(diǎn)。取代CFCs的途徑是實(shí)現(xiàn)免清洗。PCB抄板之溶劑清洗技術(shù)，溶劑清洗主要是利用了溶劑的溶解力除去污染物。采用IC清潔劑清洗，由于其揮發(fā)快，溶解能力強(qiáng)，故對(duì)設(shè)備要求簡(jiǎn)單。根據(jù)選用的清洗劑，可分為可燃性清洗劑和不可燃性清洗劑，前者主要包括有機(jī)烴類和醇類（如有機(jī)烴類、醇類、二醇酯類等），后者主要包括氯代烴和氟代烴類（如HCFC和HFC類）等。IC封裝藥水穩(wěn)定性好，防腐蝕性強(qiáng)，保護(hù)效果好，金屬表面不褪色，從保護(hù)金屬元件的穩(wěn)定性。無(wú)錫IC除膠清潔供應(yīng)公司

IC封裝藥液清潔ACF用，對(duì)已上溫并硬化的TYPE上的MELAMINE，URETHANE都可以膨脹分離。特別是對(duì)HITACHI。SONY的ACF有良好的除去效果。去除能力強(qiáng)，并且效果好無(wú)揮發(fā)性，容易保存無(wú)刺激性氣味。半導(dǎo)體IC制程主要以20世紀(jì)50年代以后發(fā)明的四項(xiàng)基礎(chǔ)工藝(離子注入、擴(kuò)散、外延生長(zhǎng)及光刻)為基礎(chǔ)逐漸發(fā)展起來(lái)，由于集成電路內(nèi)各元件及連線相當(dāng)微細(xì)，因此制造過(guò)程中，如果遭到塵粒、金屬的污染，很容易造成晶片內(nèi)電路功能的損壞，形成短路或斷路等，導(dǎo)致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。南京IC除銹活化哪里有賣IC封裝藥水與磷酸酯類物質(zhì)相比，本劑具有好于磷酸酯類物質(zhì)”三倍以上的防腐蝕效果。

IC清潔劑對(duì)金屬不腐蝕，可蒸餾回收，反復(fù)使用，比較經(jīng)濟(jì)；毒性較低，對(duì)環(huán)境污染少；清洗與漂洗可用同一種介質(zhì)，使用方便。烴類清洗工藝的缺點(diǎn)，主要的是安全性問(wèn)題，要有嚴(yán)格的安全方法措施。醇類清洗工藝特點(diǎn)：醇類中乙醇和異丙醇是工業(yè)中常用得有機(jī)極性溶劑，甲醇毒性較大，一般做添加劑。醇類清洗工藝特點(diǎn)是：對(duì)離子類污染物有很好的溶解能力，清洗松香焊劑效果非常好，對(duì)油脂類溶解能力較弱；與金屬材料和塑料等相容性好，不產(chǎn)生腐蝕和容脹；干燥快，容易晾干或送風(fēng)干燥，可不必使用熱風(fēng)；脫水性好，常用做脫水劑。

IC清潔劑作溶劑可作各種反應(yīng)溶媒，潤(rùn)滑劑稀釋劑等。特點(diǎn)：無(wú)色、無(wú)味、無(wú)毒、不燃燒，ODP值為零；表面張力低、黏度小、蒸發(fā)潛熱小。用途：特殊用途的溶劑、清洗劑、漂洗劑、無(wú)水流體、去焊劑和熱傳遞介質(zhì)，主要用于電子儀表和激光盤片的清洗，顆粒雜物的去除，光學(xué)系統(tǒng)及精密場(chǎng)合下清洗。優(yōu)點(diǎn)：由于性能接近CFCs，可使用原有清洗設(shè)備，不需要增加設(shè)備投資，也不需要對(duì)工藝做大的改變。一定環(huán)保，安全。使用范圍：電子元件側(cè)漏液，電子零部件（IC，LSI部件）或者電子裝置的氣密性測(cè)試。IC封裝藥水潤(rùn)滑性、耐磨性能優(yōu)良，緩蝕率高。

使用IC除銹劑時(shí)應(yīng)注意些什么？IC除銹劑的儲(chǔ)存，請(qǐng)放在陰涼處，并置于兒童接觸不到的地方。表面處理后會(huì)伴隨一層鈍化膜，厚度約為1微米，是一種由無(wú)機(jī)酸制成的產(chǎn)品與鋼鐵IC除銹劑的反應(yīng)，可起到鋼的保護(hù)作用。IC除銹劑使用一段時(shí)間后應(yīng)浮在泡沫表面并及時(shí)沉淀，并進(jìn)行濃度試驗(yàn)和分析，以補(bǔ)充IC除銹劑，保證清潔效果(見濃度控制方法)。加工工件整齊分離，以方便干燥。請(qǐng)將工件干燥或干燥，不要用水沖洗。噴漆或防銹油在工作后盡快。如果要達(dá)到好的效果，可以選擇使用公司強(qiáng)大的生產(chǎn)清潔防銹油。IC封裝藥水適用于金屬表面，塑料表面，玻璃表面等的清洗和光亮。南京IC除銹活化哪里有賣

IC封裝藥水適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy不含H2O2，藥液維護(hù)容易。無(wú)錫IC除膠清潔供應(yīng)公司

表面顆粒度會(huì)引起圖形缺陷、外延前線、影響布線的完整性以及鍵合強(qiáng)度和表層質(zhì)量。顆粒的去除與靜電排斥作用有關(guān)，所以硅片表面呈正電時(shí)，容易降低顆粒去除效率，甚至出現(xiàn)再沉淀。傳統(tǒng)的濕法化學(xué)清洗中所需要解決的主要問(wèn)題有：化學(xué)片的純度、微粒的產(chǎn)生、金屬雜質(zhì)的污染、干燥技術(shù)的困難、廢水廢氣的處理等。尋求解決上述問(wèn)題的過(guò)程中，發(fā)現(xiàn)改用氣相清洗技術(shù)是一個(gè)有效途徑。隨著微電子新材料的使用和微器件特征尺寸的進(jìn)一步減小，迫切需要一種更具選擇性更環(huán)保、更容易控制的清潔清洗技術(shù)，IC清潔劑在后道工序中銅引線、焊盤、鍵合等都需要進(jìn)行有機(jī)污染物的清洗，用濕法清洗也很難達(dá)到目的。無(wú)錫IC除膠清潔供應(yīng)公司

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