各國標(biāo)準(zhǔn)中所采用的原理是一致，對于氟硅酸含量較低的測定主要采用分光光度法，原理為：硅酸鹽與鉬酸鹽反應(yīng)形成硅鉬雜多酸(黃色)，用還原液將硅鉬雜多酸還原，在波長795 nm處測量藍(lán)色絡(luò)合物的吸光度。各國標(biāo)準(zhǔn)中所不同的是將硅鉬雜多酸還原所用的還原劑，國標(biāo)和日本標(biāo)準(zhǔn)中采用以亞硫酸根為主還原液，而俄羅斯標(biāo)準(zhǔn)中則采用抗壞血酸為還原劑。另外測定波長在各標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定也有所不同，國標(biāo)中只規(guī)定波長795 nm，日本標(biāo)準(zhǔn)除規(guī)定波長795 nm外，還可以采用波長680nm，俄羅斯標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定波長650～700nm。對于氟硅酸含量較高的測定是采用在測定主含量時連續(xù)測定的方法，該方法在測定時利用了酸堿滴定法的原理。氫氟酸在制造光學(xué)玻璃和陶瓷時有重要的應(yīng)用。四川純氫氟酸怎么樣

由于氫氟酸溶解氧化物的能力，它在鋁和鈾的提純中起著重要作用。氫氟酸也用來蝕刻玻璃，可以雕刻圖案、標(biāo)注刻度和文字；半導(dǎo)體工業(yè)使用它來除去硅表面的氧化物，在煉油廠中它可以用作異丁烷和正丁烯的烷基化反應(yīng)的催化劑，除去不銹鋼表面的含氧雜質(zhì)的“浸酸”過程中也會用到氫氟酸。氫氟酸也用于多種含氟有機(jī)物的合成，比如Teflon（聚四氟乙烯）還有氟利昂一類的致冷劑。氫氟酸和熔融氫氧化鈉都能用于微絲表面玻璃包覆層的去除，室溫下氫氟酸去除厚度為10 μm的玻璃包覆層的時間大約為150s，熔融氫氧化鈉大約需要10 s；玻璃的成分和結(jié)構(gòu)是影響玻璃包覆純銅微絲耐腐蝕性能的重要因素。采用熔融紡絲法制備了玻璃包覆純銅微絲，對微絲表面玻璃包覆層的去除進(jìn)行了實驗研究，評價了微絲在氫氟酸和熔融氫氧化鈉中的腐蝕行為，分析了玻璃包覆純銅微絲在強(qiáng)酸和強(qiáng)堿中的耐腐蝕性能，探討了其腐蝕機(jī)理。上海氫氟酸哪家好在使用氫氟酸時必須使用防腐蝕容器和防護(hù)措施。

氟化氫氣體易溶于水，其水溶液稱為氫氟酸。市售商品常為氟化氫氣體35%-50%的水溶液，較高濃度可達(dá)75%,為無色澄清的發(fā)煙液體。有刺激性氣味，易揮發(fā)，在空氣中發(fā)白煙。屬中等強(qiáng)度的無機(jī)酸，腐蝕性極強(qiáng)，能侵蝕玻璃和硅酸鹽而生成氣態(tài)的四氟化硅。也能與金屬、金屬氧化物及氫氧化物作用生成各種鹽類，但作用不及鹽酸那樣劇烈。金、鉑、鉛、石蠟及某些塑料等與它不起作用，故可制作容器。氟化氫氣體很易聚合，形成（HF）2（HF）3···等鏈形分子，在液態(tài)時,聚合度增大。需貯存于鉛制、蠟制或塑料制的容器中。有劇毒，皮膚觸及則潰爛。

在我國現(xiàn)行《工業(yè)氫氟酸》標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品中氫氟酸含量主要依據(jù)使用要求而確定，標(biāo)準(zhǔn)中Ⅰ型產(chǎn)品確定為三個濃度，分別為不小于40%、55%和70%。Ⅱ型產(chǎn)品確定為四個濃度，分別為不小于30%、40%、50%和55%。我國標(biāo)準(zhǔn)中Ⅰ型、Ⅱ型產(chǎn)品氟硅酸和不揮發(fā)酸含量要求差別很大主要原因：兩類別在不同用途中對氟硅酸和不揮發(fā)酸含量的要求不同。Ⅰ型產(chǎn)品：主要用于氟鹽的生產(chǎn)原料，為保證下游產(chǎn)品的質(zhì)量，應(yīng)對此項指標(biāo)進(jìn)行相對較嚴(yán)格的控制。標(biāo)準(zhǔn)對該指標(biāo)在三個規(guī)格的產(chǎn)品中，確定了相同的指標(biāo)參數(shù)，其含量為不大于0.05%。Ⅱ型產(chǎn)品：規(guī)定的用途中雖然包括了氟鋁酸鈉、氟化鋁等氟鹽的生產(chǎn)，但這些氟鹽產(chǎn)品的用途主要是冶金行業(yè)的添加劑，如煉鋁助熔劑等，所以對氫氟酸產(chǎn)品中氟硅酸含量的要求不高。由于Ⅱ型產(chǎn)品用途相對較廣，通常也用于蝕刻玻璃金屬及金屬表面處理方面的產(chǎn)品，對氟硅酸含量的要求同樣相對較低，所以在Ⅱ型產(chǎn)品中氟硅酸含量較高，四個規(guī)格的產(chǎn)品分別為不大于2.5％、5.0％、8.0％和10.0％。氫氟酸的儲存應(yīng)當(dāng)使用專業(yè)容器進(jìn)行，并避免陽光直射。

氟化氫是一種有毒氣體，溶于水形成氫氟酸。氫氟酸是一種弱酸，具有特殊腐蝕性，所謂特殊腐蝕性，是指它能腐蝕其他強(qiáng)酸所不能腐蝕的玻璃、單晶硅等半導(dǎo)體材料。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中有重要應(yīng)用。氫氟酸的生產(chǎn)并不困難，其主要原料是螢石，而我國螢石的探明儲量與南非并列世界一位，按說是具有得天獨厚優(yōu)勢的。但應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的氫氟酸可不是普通的氫氟酸，是超凈高純的電子級氫氟酸。普通工業(yè)級氫氟酸，洗個玻璃還行，用來洗半導(dǎo)體，基本上只能生產(chǎn)出廢品來。因為普通工業(yè)級氫氟酸，含有大量雜質(zhì)，這些雜質(zhì)對芯片生產(chǎn)是致命的。在使用氫氟酸的過程中，必須保持周圍環(huán)境的干燥和安全。55%氫氟酸廠商

氫氟酸通常存在于氟石和融融巖石等礦物中。四川純氫氟酸怎么樣

由于氫氟酸溶解氧化物的能力，它在鋁和鈾的提純中起著重要作用。氫氟酸也用來蝕刻玻璃，可以雕刻圖案、標(biāo)注刻度和文字。隨著電子產(chǎn)品的發(fā)展，對產(chǎn)品的純度也越來越高。一般稱之為濕電子化學(xué)品。等級從EL級到UPSSS級不等。不同行業(yè)作用也有差異。隨著大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展，雖然圖形加工的線寬越來越細(xì)，對轉(zhuǎn)移圖形的重視精度和尺寸的要求越來越高，形成精細(xì)圖形的刻蝕多采用干法刻蝕，但 越來越復(fù)雜的器件結(jié)構(gòu)和新材料的引入對獨特刻蝕工藝的要求使其必須采用濕法刻蝕或干濕相結(jié)合的刻蝕。多柵結(jié)構(gòu)的器件大都采用稀釋氫氟酸刻蝕柵氧來盡可能減小對硅基片的損傷，提高器件的性能。四川純氫氟酸怎么樣

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