精餾塔釜液返回洗滌塔；塔頂餾出液進入脫氣塔脫除SO2、SiF4等輕組分。脫氣塔釜液為產(chǎn)品。HF二級冷凝器的未凝氣和脫氣塔塔頂排出的未凝氣一起進入硫酸吸收塔，在此用硫酸吸收其中大部分HF，然后依次進入一、第二水洗塔，生成氟硅酸。未被吸收的氣體進入尾氣塔，洗掉其中的大部分酸性氣體后，未被吸收的氣體排空。尾氣塔的洗滌液和地面沖洗酸性水送至廢液處理裝置，處理后的合格污水排入排水系統(tǒng)。將工業(yè)無水氫氟酸經(jīng)化學(xué)預(yù)處理后，進入精餾塔通過精餾操作，得到的氟化氫氣體經(jīng)冷卻后，在吸收塔中用超純水吸收，并采用控制噴淋密度、氣液比等方法使電子級氫氟酸進一步純化，隨后經(jīng)0.2μm以下超濾工序，之后在密閉潔凈環(huán)境條件下( 百級以下) 進行灌裝得到之后產(chǎn)品———電子級氫氟酸。氫氟酸的儲存溫度應(yīng)當(dāng)在至℃之間。成都純氫氟酸生產(chǎn)廠

氫氟酸（Hydrofluoric Acid）是氟化氫氣體的水溶液，清澈，無色、發(fā)煙的腐蝕性液體，有劇烈刺激性氣味。氫氟酸是一種弱酸，具有極強的腐蝕性，能強烈地腐蝕金屬、玻璃和含硅的物體。如吸入蒸氣或接觸皮膚會造成難以防治的灼傷。實驗室一般用螢石（主要成分為氟化鈣）和濃硫酸來制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于陰涼處。市售通常濃度：溶質(zhì)的質(zhì)量分數(shù)40%，工業(yè)級；質(zhì)量分數(shù)40%，電子級。為高度危害毒物。較濃時的密度1.18g/cm3。隨著HF溶液質(zhì)量分數(shù)的提高，HF對碳鋼的腐蝕速率是先升高后降低 。正因如此，它必須儲存在塑料（理論上講，放在聚四氟乙烯做成的容器中會更好）、蠟質(zhì)制或鉛制的容器中。氫氟酸沒有還原性。如果要長期儲存，不只需要一個密封容器，而且容器中應(yīng)盡可能將空氣排盡。青島無水氫氟酸咨詢氫氟酸應(yīng)該只在開放區(qū)域或?qū)I(yè)實驗室中使用。

提到耐氫氟酸防腐涂料的施工，我們一定要先了解下氫氟酸，這很關(guān)鍵。氫氟酸是一種不一般的酸，是氟化氫氣體的水溶液，是一種弱酸，清澈，無色、發(fā)煙的腐蝕性液體，能強烈地腐蝕金屬、玻璃和含硅的物體。這種酸具有腐蝕性，施工時保護不當(dāng)，會對身體造成損害。因此，在施工時工人一定要采取好保護措施。耐氫氟酸防腐涂料都含有哪些成分呢？成膜物質(zhì)：應(yīng)用本公司主主開發(fā)的涂料技術(shù)，制成以有機與無機聚合而成互穿網(wǎng)絡(luò)聚合物作為成膜物質(zhì)。填料：采用酚醛樹脂、重晶石、納米鉻粉、納米微粉等配以適當(dāng)?shù)念伭?、溶劑、助劑。加入耐磨增強劑?/p>

各國標準中所采用的原理是一致，一般對于氟硅酸含量較低的測定主要采用分光光度法，原理為：硅酸鹽與鉬酸鹽反應(yīng)形成硅鉬雜多酸(黃色)，用還原液將硅鉬雜多酸還原，在波長795 nm處測量藍色絡(luò)合物的吸光度。各國標準中所不同的是將硅鉬雜多酸還原所用的還原劑，國標和日本標準中采用以亞硫酸根為主還原液，而俄羅斯標準中則采用抗壞血酸為還原劑。另外測定波長在各標準中規(guī)定也有所不同，國標中只規(guī)定波長795 nm，日本標準除規(guī)定波長795 nm外，還可以采用波長680nm，俄羅斯標準中規(guī)定波長650～700nm。對于氟硅酸含量較高的測定是采用在測定主含量時連續(xù)測定的方法，該方法在測定時利用了酸堿滴定法的原理。氫氟酸儲存或使用時必須禁止吸煙。

各國基本都是采用氯化鉀消除氟硅酸鹽的干擾，用氫氧化鈉標準滴定溶液，以酚酞的指標劑進行滴定。我國標準中的測定方法是將產(chǎn)品的總酸度測出后，再分別測出氟硅酸、硫酸含量。用總酸度數(shù)值分別減去氟硅酸含量、硫酸含量，之后結(jié)果以氟化氫表示。日本標準中的計算方法與我國標準有所不同但兩個標準之后測定結(jié)果是一致的。另外從相關(guān)資料了解到，在測定氫氟酸含量過程中，我國和日本的測定標準中都加入冰塊降溫，兩者目的都是使產(chǎn)品中的氟硅酸與鉀鹽反應(yīng)物的溶解程度降到較低，確保在滴定過程氟硅酸鉀不溶解。但我國采用的是在制樣過程中加入冰塊的方法，而日本標準中是在加入硝酸鉀溶液后再加入冰塊。我國標準中在制備試驗溶液時加入冰塊，除了保證氟硅酸鉀不溶解，同時還能避免在稱樣過程中樣品的揮發(fā)。在使用氫氟酸時必須避免暴露于長時間高溫環(huán)境中。成都純氫氟酸生產(chǎn)廠

在處理含氫氟酸的制品時，必須按照廠家的說明書進行。成都純氫氟酸生產(chǎn)廠

在氫氟酸產(chǎn)業(yè)中，工業(yè)級氫氟酸產(chǎn)能基本飽和，未來發(fā)展機遇相對較小。而電子級氫氟酸下游產(chǎn)業(yè)處于快速發(fā)展階段，且由于生產(chǎn)門檻較高，國內(nèi)產(chǎn)能供不應(yīng)求，行業(yè)未來發(fā)展前景較好，因此吸引較多企業(yè)投建產(chǎn)能。應(yīng)用于集成電路 ( I C)和超大規(guī)模集成電路 (VLSI)芯片的清洗和腐蝕 ,是微電子行業(yè)制作過程中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)化工材料之一 ,還可用作分析試劑和制備高純度的含氟化學(xué)品。在國內(nèi)基本上是作為蝕刻劑和清洗劑用于微電子行業(yè) ,其他方面用量較少。氫氟酸和氟化氫的區(qū)別在于：氫氟酸是混合物，是由氟化氫稀釋而來的，而氟化氫是純凈物。成都純氫氟酸生產(chǎn)廠

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