氟化氫是一種有毒氣體，溶于水形成氫氟酸。氫氟酸是一種弱酸，具有特殊腐蝕性，所謂特殊腐蝕性，是指它能腐蝕其他強酸所不能腐蝕的玻璃、單晶硅等半導(dǎo)體材料。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中有重要應(yīng)用。氫氟酸的生產(chǎn)并不困難，其主要原料是螢石，而我國螢石的探明儲量與南非并列世界一位，按說是具有得天獨厚優(yōu)勢的。但應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的氫氟酸可不是普通的氫氟酸，是超凈高純的電子級氫氟酸。普通工業(yè)級氫氟酸，洗個玻璃還行，用來洗半導(dǎo)體，基本上只能生產(chǎn)出廢品來。因為普通工業(yè)級氫氟酸，含有大量雜質(zhì)，這些雜質(zhì)對芯片生產(chǎn)是致命的。使用氫氟酸應(yīng)當(dāng)使用質(zhì)量可靠的試劑和設(shè)備。廣東40%氫氟酸生產(chǎn)廠商

氫氟酸座為氟化工行業(yè)的關(guān)鍵中間體，其中制冷劑等約占比50%左右，2019年起，下游制冷劑需求持續(xù)疲弱，有部分新增氫氟酸產(chǎn)能投產(chǎn)，供過于求下氫氟酸價格呈現(xiàn)出單邊下滑的態(tài)勢，期間價格只受制冷劑行情的季節(jié)性變化和偶爾開工受限影響小幅波動。2021以來，受全球整體螢石供給下降影響，整體價格小幅度下降，隨著國外逐步企業(yè)復(fù)工，供需恢復(fù)，整體價格回到每噸11500元左右。就我國氫氟酸進(jìn)出口狀況而言，目前我國氫氟酸主要以出口為主，2021年出口金額穩(wěn)定在4億元左右，主要出口地為日本、韓國和中國臺灣等地，就進(jìn)口情況而言，隨著優(yōu)越氫氟酸整體（電子級氫氟酸）需求持續(xù)增長，進(jìn)口量持續(xù)增長，2021年我國電子級氫氟酸進(jìn)口金額為0.4746億美元，占比總進(jìn)口金額的99.3%以上，主要進(jìn)口來源為韓國、日本等。重慶電子級氫氟酸制造廠在使用氫氟酸時必須使用一定質(zhì)量的防護(hù)設(shè)備。

電子級氫氟酸生產(chǎn)方法的難點：1. 分析控制與產(chǎn)品檢測要求高。制備電子級氫氟酸所應(yīng)用的測試儀器如下: (1)電感耦合等離子高頻質(zhì)譜分析儀( ICP - MS)；(2)電感耦合等離子原子發(fā)射分析儀( ICP - AES)；(3)原子吸收分光光度計；(4)氧原子發(fā)生無焰原子吸收分析儀；(5)離子色譜分析儀；(6)激光散射液體微粒計數(shù)器；(7)水表面雜質(zhì)分析系統(tǒng)；(8)原子間力顯微鏡；(9)光學(xué)顯微鏡微粒計數(shù)器；(10)掃描電子顯微鏡；(11)光學(xué)膜厚測定和表面仿形儀；(12)表面張力測定儀；(13) 空氣中塵埃微粒測定儀；(14)水電阻率測定儀。2. 對水質(zhì)要求高，要求水的電阻率≥18.0MΩ·cm。高純水是生產(chǎn)電子氫氟酸中不可缺少的原料,也是包裝容器的清洗劑,其純度將直接影響到電子級氫氟酸的產(chǎn)品質(zhì)量。高純水的主要控制指標(biāo)是電阻率和固體顆粒,其他輔助指標(biāo)有可氧化的總碳量(TOC)、細(xì)菌、被溶解的二氧化硅、離子濃度等。目前,高純水的生產(chǎn)工藝較為成熟,較常見是先通過離子交換柱和微過濾器,得到普通純水,然后再采用反滲透、電滲析等各類膜技術(shù)進(jìn)一步處理,之后配合殺細(xì)菌和超微過濾便可得到高純水。

生產(chǎn)氫氟酸有采用螢石及磷礦石兩種原料路線。而以螢石為原料的硫酸法是工業(yè)上普遍采用的方法。將干燥后的螢石粉和硫酸按配比1：(1.2-1.3)混合，經(jīng)高溫分解、粗餾、精餾及水吸收而制得氫氟酸。［安全與防護(hù)］氫氟酸屬一級無機酸性腐蝕物品，危規(guī)編號：91035。用聚乙烯塑料桶或四氟乙烯塑料桶包裝。每桶凈重20kg或25kg。量少可用塑料瓶盛裝，每瓶0.5kg包裝，包裝上應(yīng)有“劇毒的物品“或“腐燭性物品“標(biāo)志。不可與氧化劑，有機物、易燃物、堿、金屬粉等共貯混運。失火時可用黃砂、二氧化碳滅火器撲教，禁用柱狀水撲救。氫氟酸腐蝕性極強，蒸氣極毒，較高容許濃度為1mg/m3。皮膚誤觸時、應(yīng)立即用大量清水沖洗，或立即用3%堿液，10%碳酸銨溶液沖洗。嚴(yán)重時應(yīng)送醫(yī)院防治。氫氟酸一般可溶于水和乙醇。

即使我國克服了所有困難生產(chǎn)出符合要求的高純氟化氫，想替代日本公司也是很難的，因為芯片生產(chǎn)企業(yè)需要重新調(diào)試生產(chǎn)工藝，以便測試新原料對產(chǎn)品生產(chǎn)的影響。據(jù)估算調(diào)試工藝的時限大概是兩個月的時間。一般的芯片企業(yè)不被逼到一定程度，不會下定決心更換原料的。半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中所要用到的氫氟酸并不是普通的氫氟酸，而是超高精純的電子級氫氟酸。由于普通工業(yè)級氫氟酸含有大量雜質(zhì)，倘若用來生產(chǎn)半導(dǎo)體，基本上只能生產(chǎn)出廢品來。因為芯片生產(chǎn)容不得過多的雜質(zhì)，普通工業(yè)級氫氟酸含有的雜質(zhì)對芯片生產(chǎn)影響十分大。那么問題來了，半導(dǎo)體生產(chǎn)中所需的高純氟化氫要求多純呢？據(jù)了解，日本生產(chǎn)的較高純度的氫氟酸純度為99.9%，這個純度的高純氟化氫，在目前較先進(jìn)的芯片生產(chǎn)工藝中都能夠完全適配，這也是韓國極度依賴從日本進(jìn)口高純氟化氫的重要原因了。廢氫氟酸必須依照法律和規(guī)定妥善處理。山東40%氫氟酸多少錢

在使用氫氟酸時必須格外小心和謹(jǐn)慎。廣東40%氫氟酸生產(chǎn)廠商

通過相關(guān)資料了解到，國內(nèi)外相關(guān)產(chǎn)品各標(biāo)準(zhǔn)在相同項目的測定方法基本是一致的。如氫氟酸含量采用以酚酞為指示劑，以氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液為滴定劑的酸堿中和滴定法；氟硅酸含量的測定采用在鉀鹽存在下使其生成氟硅酸鹽后分離，沉淀溶解后用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液滴定。對于低含量的氟硅酸的測定，一般采用硅鉬藍(lán)分光光度法進(jìn)行測定；硫酸含量的測定是將氫氟酸分離后，用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液滴定。日本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的灼燒殘渣含量的測定為700℃下灼燒后穩(wěn)重的方法。相關(guān)資料了解，日本標(biāo)準(zhǔn)JIS K1405－1995《氫氟酸》相對于其它國外標(biāo)準(zhǔn)，技術(shù)要求、指標(biāo)項目、試驗方法等方面均處于先進(jìn)水平。但由于日本標(biāo)準(zhǔn)主要是針對本國的生產(chǎn)、使用要求而制定的，與我國對氫氟酸的要求存在一定的差異。但對我國標(biāo)準(zhǔn)有借鑒作用。廣東40%氫氟酸生產(chǎn)廠商

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