微射流在碳納米管分散中的應用,從結(jié)構(gòu)上看碳納米管是由一層或者多層石墨層片按照一定螺旋角卷曲而成的、直徑為納米量級的圓柱殼體。碳納米管由于典型的一維管狀結(jié)構(gòu),性能穩(wěn)定,軸向上的性能極為優(yōu)異的力學性質(zhì)和導電性。正是由于這種高導電性,高結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性等優(yōu)勢,使其在鋰離子電極材料的應用不只可以直接作為負極材料發(fā)揮結(jié)構(gòu)穩(wěn)定等優(yōu)勢,也可以作為導電添加劑提高正極材料的性能,較大程度上提高了電極材料及鋰離子電池的性能。微射流均質(zhì)機操作簡單,界面直觀,方便不同技能水平的操作者。深圳小型微射流均質(zhì)機作用
處理納米乳液和脂質(zhì)體的效果區(qū)別:1 .粒徑,脂質(zhì)體為雙分子層粒子柔性較強,做小粒徑所需的能量并不大;納米乳液,多為水油兩相混合,也不需要很大的能量,對于均質(zhì)方面,微射流均質(zhì)機和均質(zhì)機都可以滿足脂質(zhì)體樣品減小粒徑的要求,不過微射流均質(zhì)機相對均質(zhì)機而言,可以處理粒徑要求更小的樣品。2. PDI,脂質(zhì)體、納米乳樣品對粒徑的分布要求非常高,PDI需達到0.2或0.1以下,反應了樣品均一程度,對于這種情況。微射流交互容腔的優(yōu)勢明顯:微射流金剛石交互容腔活塞直徑更小,通道行程長,樣品通過通道均質(zhì)時高壓持續(xù)時間長、壓力穩(wěn)定,能量轉(zhuǎn)換率高,在通道里面所受到的力相同,得到的PDI分布較小,比較均勻。江蘇定制型微射流均質(zhì)機微射流均質(zhì)機使產(chǎn)品顆粒更細致、均勻。
微射流均質(zhì)機,主要部件:金剛石交互容腔(微射流均質(zhì)腔)。微射流金剛石交互容腔是一個整體式的內(nèi)部結(jié)構(gòu)固定的Y或者Z型的微通道,孔道大小在50um到幾百微米之間,為金剛石材質(zhì)。工作時樣品通過動力部分加壓,經(jīng)過金剛石交互腔前端通道部分加速,到金剛石微孔道處射流速度可達500m/s,高速射流經(jīng)過金剛石微通道時經(jīng)過高頻剪切、撞擊、物料粒子間對射和巨大的壓力,較終使得物料粒徑細化均一。微射流均質(zhì)機均質(zhì)壓力的調(diào)節(jié)通過調(diào)節(jié)電機頻率控制流速??p隙通道固定,流速越大,壓力越高,剪切、碰撞力越強,均質(zhì)效果也就越好。微射流均質(zhì)過程中由于存在巨大的撞擊破碎力,會產(chǎn)生熱量,均質(zhì)壓力越高,產(chǎn)熱越多。對于溫度敏感的樣品處理,可以配置換熱器幫助降溫。
微射流高壓均質(zhì)機,又稱微射流均質(zhì)機、高壓微射流均質(zhì)機、微射流納米分散機、微流化器,是一種配備微射流金剛石交互容腔的第二代高壓均質(zhì)機。微射流高壓均質(zhì)機是一種基于動態(tài)高壓微射流技術(shù)的流體處理設備,可用于納米級材料精細化粒徑控制過程,適用于制藥、化妝品、生物技術(shù)、精細化工、新能源材料等所有需要精致粒徑控制的領域。工作原理:微射流高壓均質(zhì)機可以簡化分為兩部分:動力單元與主要處理單元(微射流金剛石交互容腔),其中,動力單元為物料加壓、加速產(chǎn)生高速液體射流提供動力;微射流金剛石交互容腔作為主要處理單元,是物料處理受力發(fā)生的場所。微射流均質(zhì)機對原材料精細處理發(fā)揮關(guān)鍵作用。
工作原理:由于高壓均質(zhì)腔的內(nèi)部具有特別設計的幾何形狀,因此在增壓機構(gòu)的作用下,高壓 溶液快速的通過均質(zhì)腔,物料會同時受到高速剪切,高速撞擊,空穴現(xiàn)象以及對流撞擊等 機械力作用和相應的熱效應, 由此引發(fā)的機械力學效應可誘導物料大分子的物理、化學及 結(jié)構(gòu)性質(zhì)發(fā)生變化,較終達到均質(zhì)的效果。高壓微射流均質(zhì)機是一種用于實現(xiàn)流體均質(zhì)混合的裝置,其原理是通過高壓氣體將液體原料細化成微小射流,然后利用高速運動的射流來達到混合的目的。微射流均質(zhì)機的操作簡單,維護成本低。深圳實驗微射流均質(zhì)機型號
微射流均質(zhì)機提升產(chǎn)品均質(zhì)性和質(zhì)量。深圳小型微射流均質(zhì)機作用
高壓微射流在CMP拋光液中的應用,化學機械拋光(CMP)技術(shù)具有獨特的化學和機械相結(jié)合的效應,是在機械拋光的基礎上,根據(jù)所要拋光的表面,加入相應的化學試劑,從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果?;瘜W機械拋光技術(shù)是迄今獨一可以提供整體平面化的表面精加工技術(shù),它是從原子水平上進行材料去除,從而獲得超光滑和較低損傷表面,該技術(shù)普遍應用于光學元件、計算機硬盤、微機電系統(tǒng)、集成電路等領域。拋光液是化學機械拋光技術(shù)的關(guān)鍵之一,其性能直接影響著被拋光工件的表面質(zhì)量。深圳小型微射流均質(zhì)機作用