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企業(yè)商機(jī)-岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司
  • 西藏GEMINI鍵合機(jī)
    西藏GEMINI鍵合機(jī)

    引線鍵合主要用于幾乎所有類(lèi)型的半導(dǎo)體中,這是因?yàn)槠涑杀拘矢咔乙子趹?yīng)用。在ZUI佳環(huán)境中,每秒ZUI多可以創(chuàng)建10個(gè)鍵。該方法因所用每種金屬的元素性質(zhì)不同而略有不同。通常使用的兩種引線鍵合是球形鍵合和楔形鍵合。盡管球形鍵合的ZUI佳選擇是純金,但由于銅的相對(duì)成...

    2023-02-01
  • 晶片鍵合機(jī)學(xué)校會(huì)用嗎
    晶片鍵合機(jī)學(xué)校會(huì)用嗎

    EVG?501鍵合機(jī)特征:獨(dú)特的壓力和溫度均勻性;兼容EVG機(jī)械和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)器;靈活的研究設(shè)計(jì)和配置;從單芯片到晶圓;各種工藝(共晶,焊料,TLP,直接鍵合);可選的渦輪泵(<1E-5mbar);可升級(jí)用于陽(yáng)極鍵合;開(kāi)室設(shè)計(jì),易于轉(zhuǎn)換和維護(hù);兼容試生產(chǎn),適合于學(xué)...

    2023-01-31
  • 美元價(jià)鍵合機(jī)微流控應(yīng)用
    美元價(jià)鍵合機(jī)微流控應(yīng)用

    EVG?810LT LowTemp?等離子基活系統(tǒng) 適用于SOI,MEMS,化合物半導(dǎo)體和先進(jìn)基板鍵合的低溫等離子體活化系統(tǒng) 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG810LTLowTemp?等離子活化系統(tǒng)是具有手動(dòng)操作的單腔獨(dú)力單元。處理室允許進(jìn)行異位處理(晶圓被一一基活并結(jié)...

    2023-01-30
  • 山西鍵合機(jī)服務(wù)為先
    山西鍵合機(jī)服務(wù)為先

    BONDSCALE與EVG的行業(yè)基準(zhǔn)GEMINIFBXT自動(dòng)熔融系統(tǒng)一起出售,每個(gè)平臺(tái)針對(duì)不同的應(yīng)用。雖然BONDSCALE將主要專(zhuān)注于工程化的基板鍵合和層轉(zhuǎn)移處理,但GEMINIFBXT將支持要求更高對(duì)準(zhǔn)精度的應(yīng)用,例如存儲(chǔ)器堆疊,3D片上系統(tǒng)(SoC),背...

    2023-01-30
  • EVG301鍵合機(jī)推薦廠家
    EVG301鍵合機(jī)推薦廠家

    EVG?540自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng)全自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng),適用于蕞/大300mm的基板技術(shù)數(shù)據(jù)EVG540自動(dòng)化晶圓鍵合系統(tǒng)是一種自動(dòng)化的單腔室生產(chǎn)鍵合機(jī),設(shè)計(jì)用于中試線生產(chǎn)以及用于晶圓級(jí)封裝,3D互連和MEMS應(yīng)用的大批量生產(chǎn)的研發(fā)。EVG540鍵合機(jī)基于模塊化設(shè)...

    2023-01-29
  • SUSS鍵合機(jī)供應(yīng)商家
    SUSS鍵合機(jī)供應(yīng)商家

    EVG?820層壓系統(tǒng) 將任何類(lèi)型的干膠膜(膠帶)自動(dòng)無(wú)應(yīng)力層壓到晶圓上 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG820層壓站用于將任何類(lèi)型的干膠膜自動(dòng),無(wú)應(yīng)力地層壓到載體晶片上。這項(xiàng)獨(dú)特的層壓技術(shù)可對(duì)卷筒上的膠帶進(jìn)行打孔,然后將其對(duì)齊并層壓到晶圓上。該材料通常是雙面膠帶。利用...

    2023-01-29
  • 全域納米壓印高性?xún)r(jià)比選擇
    全域納米壓印高性?xún)r(jià)比選擇

    該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶(hù)的專(zhuān)門(mén)需求,公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整,使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世...

    2023-01-14
  • HVM光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)力怎么樣
    HVM光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)力怎么樣

    EVG120光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng):智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺(tái))用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能設(shè)備和過(guò)程性能根蹤功能智能處理功能:事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和根蹤晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)200毫米模塊數(shù):工藝模塊:2...

    2023-01-13
  • 官方光刻機(jī)推薦產(chǎn)品
    官方光刻機(jī)推薦產(chǎn)品

    EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速:蕞高10krpm加速速度:蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴;開(kāi)發(fā)模塊-分配選項(xiàng)水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng);附加模塊的選項(xiàng):預(yù)對(duì)準(zhǔn):機(jī)械系統(tǒng)控制參數(shù):操作系統(tǒng)...

    2023-01-13
  • EVG620光刻機(jī)保修期多久
    EVG620光刻機(jī)保修期多久

    我們的研發(fā)實(shí)力:EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和*大的靈活性,使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開(kāi)發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目。此外,研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺(tái)無(wú)縫集成,這些平臺(tái)涵蓋...

    2023-01-12
  • 湖南EVG6200光刻機(jī)
    湖南EVG6200光刻機(jī)

    我們的研發(fā)實(shí)力:EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和*大的靈活性,使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開(kāi)發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目。此外,研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺(tái)無(wú)縫集成,這些平臺(tái)涵蓋...

    2023-01-12
  • 西藏掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
    西藏掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

    我們的研發(fā)實(shí)力:EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和ZUI大的靈活性,使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開(kāi)發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目。此外,研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺(tái)無(wú)縫集成,這些平臺(tái)...

    2023-01-11
  • 進(jìn)口光刻機(jī)價(jià)格怎么樣
    進(jìn)口光刻機(jī)價(jià)格怎么樣

    EVG?620NT掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))特色:EVG?620NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在ZUI小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。技術(shù)數(shù)據(jù):EVG620NT以其多功能性和可靠性而著稱(chēng),在ZUI小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和ZUI優(yōu)化的...

    2023-01-11
  • 江西IQ Aligner NT光刻機(jī)
    江西IQ Aligner NT光刻機(jī)

    EVG?610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補(bǔ)償全自動(dòng)軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達(dá)100/150/200毫米;曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證手動(dòng)交叉校正...

    2023-01-11
  • 云南鍵合機(jī)美元價(jià)格
    云南鍵合機(jī)美元價(jià)格

    EVG?610BA鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的晶圓對(duì)晶圓對(duì)準(zhǔn)的手動(dòng)鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。EVG610鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于蕞大200mm晶圓尺寸的晶圓間對(duì)準(zhǔn)。EVGroup的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可通過(guò)底側(cè)顯微鏡提供手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)平臺(tái)。EVG的鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿(mǎn)足MEMS生...

    2023-01-10
  • 掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)高級(jí)封裝應(yīng)用
    掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)高級(jí)封裝應(yīng)用

    EVG?610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補(bǔ)償全自動(dòng)軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達(dá)100/150/200毫米;曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證手動(dòng)交叉校正...

    2023-01-10
  • 浙江光刻機(jī)中芯在用嗎
    浙江光刻機(jī)中芯在用嗎

    EVG?150特征:晶圓尺寸可達(dá)300毫米多達(dá)6個(gè)過(guò)程模塊可自定義的數(shù)量-多達(dá)20個(gè)烘烤/冷卻/汽化堆多達(dá)四個(gè)FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載可用的模塊包括旋轉(zhuǎn)涂層,噴涂,NanoCoat?,顯影,烘烤/冷卻/蒸氣/上等EV集團(tuán)專(zhuān)有的OmniSpray?超聲波霧...

    2023-01-10
  • EVG6200 NT光刻機(jī)國(guó)內(nèi)用戶(hù)
    EVG6200 NT光刻機(jī)國(guó)內(nèi)用戶(hù)

    EVG?150--光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng)EVG?150是全自動(dòng)化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。EVG150設(shè)計(jì)為完全模塊化的平臺(tái),可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過(guò)程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性。具有高形貌的...

    2023-01-10
  • 河南光刻機(jī)美元價(jià)格
    河南光刻機(jī)美元價(jià)格

    EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速:蕞高10krpm加速速度:蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴;開(kāi)發(fā)模塊-分配選項(xiàng)水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng);附加模塊的選項(xiàng):預(yù)對(duì)準(zhǔn):機(jī)械系統(tǒng)控制參數(shù):操作系統(tǒng)...

    2023-01-10
  • 內(nèi)蒙古EVG850 LT鍵合機(jī)
    內(nèi)蒙古EVG850 LT鍵合機(jī)

    熔融和混合鍵合系統(tǒng): 熔融或直接晶圓鍵合可通過(guò)每個(gè)晶圓表面上的介電層長(zhǎng)久連接,該介電層用于工程襯底或?qū)愚D(zhuǎn)移應(yīng)用,例如背面照明的CMOS圖像傳感器?;旌湘I合擴(kuò)展了與鍵合界面中嵌入的金屬焊盤(pán)的熔融鍵合,從而允許晶片面對(duì)面連接?;旌辖壎ǖ闹饕獞?yīng)用是高級(jí)3D...

    2023-01-09
  • 江西美元價(jià)鍵合機(jī)
    江西美元價(jià)鍵合機(jī)

    EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),可處理從單芯片到150 mm(200 mm鍵合室的情況下為200 mm)的基片。該工具支持所有常見(jiàn)的晶圓鍵合工藝,如陽(yáng)極,玻璃料,焊料,共晶,瞬態(tài)液相和直接鍵合。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì),讓用戶(hù)能快速,輕松地重新裝配...

    2023-01-09
  • 湖北絕緣體上硅鍵合機(jī)
    湖北絕緣體上硅鍵合機(jī)

    晶圓級(jí)封裝的實(shí)現(xiàn)可以帶來(lái)許多經(jīng)濟(jì)利益。它允許晶圓制造,封裝和測(cè)試的集成,從而簡(jiǎn)化制造過(guò)程。縮短的制造周期時(shí)間可提高生產(chǎn)量并降低每單位制造成本。晶圓級(jí)封裝還可以減小封裝尺寸,從而節(jié)省材料并進(jìn)一步降低生產(chǎn)成本。然而,更重要的是,減小的封裝尺寸允許組件用于更廣范的高...

    2023-01-09
  • 重慶鍵合機(jī)學(xué)校會(huì)用嗎
    重慶鍵合機(jī)學(xué)校會(huì)用嗎

    EVG?301單晶圓清洗系統(tǒng),屬于研發(fā)型單晶圓清洗系統(tǒng)。 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG301半自動(dòng)化單晶片清洗系統(tǒng)采用一個(gè)清洗站,該清洗站使用標(biāo)準(zhǔn)的去離子水沖洗以及超音速,毛刷和稀釋化學(xué)藥品作為附加清洗選項(xiàng)來(lái)清洗晶片。EVG301具有手動(dòng)加載和預(yù)對(duì)準(zhǔn)功能,是一種多功能的研...

    2023-01-09
  • 廣西鍵合機(jī)技術(shù)服務(wù)
    廣西鍵合機(jī)技術(shù)服務(wù)

    半導(dǎo)體器件的垂直堆疊已經(jīng)成為使器件密度和性能不斷提高的日益可行的方法。晶圓間鍵合是實(shí)現(xiàn)3D堆疊設(shè)備的重要工藝步驟。然而,需要晶片之間的緊密對(duì)準(zhǔn)和覆蓋精度以在鍵合晶片上的互連器件之間實(shí)現(xiàn)良好的電接觸,并蕞小化鍵合界面處的互連面積,從而可以在晶片上騰出更多空間用于...

    2023-01-09
  • 除震臺(tái)隔振臺(tái)推薦產(chǎn)品
    除震臺(tái)隔振臺(tái)推薦產(chǎn)品

    AVI-600系列(負(fù)載:1200kg)型號(hào):AVI-600SLP,AVI-600MLP,AVI-600XLP形狀:控制器與防振單元分離型主動(dòng)控制范圍:被動(dòng)隔振范圍200Hz以上確認(rèn)防振狀態(tài):使用控制器背面的BNC連接器,外部連接,前面的8個(gè)LED指示防振狀態(tài)...

    2022-11-17
  • 原裝進(jìn)口隔振臺(tái)時(shí)頻系統(tǒng)防震臺(tái)應(yīng)用
    原裝進(jìn)口隔振臺(tái)時(shí)頻系統(tǒng)防震臺(tái)應(yīng)用

    AVI-600/LP的每個(gè)單元均可調(diào)節(jié),以適應(yīng)0至600kg的負(fù)載。對(duì)于任何設(shè)置由兩個(gè)單元組成的系統(tǒng)上的負(fù)載,可在+/-90kg之間變化,而不必重設(shè)調(diào)整。手次操作系統(tǒng)時(shí),請(qǐng)將前面板隔離開(kāi)關(guān)設(shè)置為OFF(黑色旋出)。接通電源。電源指示燈現(xiàn)在將點(diǎn)亮,并且24個(gè)顯示...

    2022-11-17
  • TS-140+40/LP隔振臺(tái)電子顯微鏡STM
    TS-140+40/LP隔振臺(tái)電子顯微鏡STM

    AVI-600系列(負(fù)載:1200kg)型號(hào):AVI-600SLP,AVI-600MLP,AVI-600XLP形狀:控制器與防振單元分離型主動(dòng)控制范圍:被動(dòng)隔振范圍200Hz以上確認(rèn)防振狀態(tài):使用控制器背面的BNC連接器,外部連接,前面的8個(gè)LED指示防振狀態(tài)...

    2022-11-17
  • AVI-200XLP隔振臺(tái)電子顯微鏡STM
    AVI-200XLP隔振臺(tái)電子顯微鏡STM

    AVI-600系列(負(fù)載:1200kg)型號(hào):AVI-600SLP,AVI-600MLP,AVI-600XLP形狀:控制器與防振單元分離型主動(dòng)控制范圍:被動(dòng)隔振范圍200Hz以上確認(rèn)防振狀態(tài):使用控制器背面的BNC連接器,外部連接,前面的8個(gè)LED指示防振狀態(tài)...

    2022-11-17
  • 隔震臺(tái)隔振臺(tái)電子顯微鏡TEM
    隔震臺(tái)隔振臺(tái)電子顯微鏡TEM

    TS-150安全守則?只能將系統(tǒng)插入具有單獨(dú)接地的插座。不要斷開(kāi)此連接通過(guò)插座或使用不接地的延長(zhǎng)線接地。?在打開(kāi)本設(shè)備之前,請(qǐng)確保已將其連接到正確的電源電壓。?請(qǐng)勿卸下任何蓋子或讓任何金屬物體進(jìn)入設(shè)備的任何開(kāi)口。?請(qǐng)勿拆卸或嘗試維修系統(tǒng)。這可能會(huì)導(dǎo)致電擊或損壞...

    2022-11-17
  • 臺(tái)階儀隔振臺(tái)用途是什么
    臺(tái)階儀隔振臺(tái)用途是什么

    AVI200-SAVI200-S的基本配置包括兩個(gè)單個(gè)承載模塊和一個(gè)控制單元,蕞大可以負(fù)載400公斤。通過(guò)增加隔離模塊的數(shù)量,可以輕松承受更高的負(fù)載。為了使AVI200-M適應(yīng)用戶(hù)特定的應(yīng)用,可以按特殊順序提供不同長(zhǎng)度的單個(gè)模塊。AVI200-M的隔離始于1,...

    2022-11-16
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