氣氛環(huán)境是影響薄膜質(zhì)量的重要因素之一。在磁控濺射過程中,應嚴格控制鍍膜室內(nèi)的氧氣、水分、雜質(zhì)等含量,以減少薄膜中的雜質(zhì)和缺陷。同時,通過優(yōu)化...
復合靶材技術(shù)是將兩種或多種材料復合在一起制成靶材,通過磁控濺射技術(shù)實現(xiàn)多種材料的共濺射。該技術(shù)可以制備出具有復雜成分和結(jié)構(gòu)的薄膜,滿足特殊應...
磁控濺射是一種常用的薄膜制備技術(shù),其優(yōu)點主要包括以下幾個方面:1.高質(zhì)量薄膜:磁控濺射可以制備高質(zhì)量、均勻、致密的薄膜,具有良好的化學穩(wěn)定性...
磁控濺射是一種利用磁場控制離子軌跡的表面處理技術(shù)。在磁控濺射過程中,磁場的控制是通過在濺射室中放置磁鐵來實現(xiàn)的。這些磁鐵會產(chǎn)生一個強磁場,使...
廣東省科學院半導體研究所微納加工平臺,面向半導體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備,建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務,面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供技術(shù)支持。