【光學(xué)鍍膜的目的】: &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用:中性分光、變色分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &色光顯示、色光反射、偽chao及有價證券之防止 &光波...
【真空鍍膜機詳細資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理...
【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化...
【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】:帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片:選定特定波段的光通過,通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),中心波長透過率(Tp),截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶,通常按帶...
【光學(xué)鍍膜為什么需要鍍減反射膜之鏡面反射和“鬼影”】1)鏡面反射:光線通過鏡片的前后表面時,不但會產(chǎn)生折射,還會產(chǎn)生反射。這種在鏡片前表面產(chǎn)生的反射光會使別人看戴鏡者眼睛時,看到的卻是鏡片表面一片白光。拍照時,這種反光還會嚴(yán)重影響戴鏡者的美觀。 2)"鬼影":...
【真空鍍膜真空的基本概念】: 真空的劃分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導(dǎo)(導(dǎo)通量):表示真空管道通過氣體的能...
【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理:是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是,機械打磨,化學(xué)處理,表面熱處理,噴涂表面,表面處...
【真空鍍膜設(shè)備之渦輪分子泵】: 渦輪分子泵:渦輪分子泵是利用高速旋轉(zhuǎn)的動葉輪將動量傳給氣體分子,使氣體產(chǎn)生定向流動而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,極限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可從50L/S~35...
【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】:電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓電流通過,對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價便宜、使用可靠,可...
【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】:帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片:選定特定波段的光通過,通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),中心波長透過率(Tp),截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶,通常按帶...
【濺射鍍膜定義】:定義:所謂濺射,就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下,形成氣體等離子體(輝光放電),其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊,陽離子和靶材進行能量交換,使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出(其中逸出的還可能包含靶材離子)。這一整個的動力...
【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學(xué)過程,其中浸沒在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子,并由于電流的通過而從表面移除,從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。適用材料:1.da多數(shù)金屬都可以被電解拋光,其中常用于不銹鋼的表面拋光(尤其適用于奧氏體核級...
【光學(xué)鍍膜的好處】光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?,F(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣fan用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。...
【炫彩的搬運工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上,在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復(fù)制模具,即可開始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下: ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座,模座上根據(jù)不同復(fù)制模具尺寸固...
【真空鍍膜機電控柜的操作】1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源2、開總電源3、開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進入下一步操作。約需5分鐘。4、開機械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動,真空計開關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分...
從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用普遍,和生活息息相關(guān),比喻平時戴的眼鏡、各式家電用品,數(shù)碼相機,或者是鈔票上的防偽技術(shù),皆能被稱之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工,干式就是沒有液體出現(xiàn)在整個加工過程...
【炫彩的搬運工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上,在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復(fù)制模具,即可開始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下: ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座,模座上根據(jù)不同復(fù)制模具尺寸固...
【真空鍍膜對環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M入鍍膜室前均應(yīng)進行認(rèn)真的鍍前清潔處理,達到工件去油、去污和脫水的目的?;砻嫖廴緛碜粤慵诩庸ぁ鬏?、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面...
【真空鍍膜機之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝,從而起到防止金屬氧化,提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用,不少硬幣的外層亦為電鍍。適用材料:1.da多數(shù)金屬可以進行電鍍但是不同的金屬具有不同等級的純度和電鍍效率。其中常見的...
多弧離子鍍原理是利用真空弧光放電計數(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù),即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源(陰極),與陽極之間形成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點放出陰極物質(zhì)的離子。由于電流局部的集中,產(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料局部的爆發(fā)性地等離子化,在工作偏壓的作用下與反應(yīng)氣體化合,而沉積在...
【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】: 活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化;依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是:基板溫升小,要對基板加熱,蒸鍍效率高,能獲得三氧化鋁( AL...
【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級),濺射速度可達0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前實用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機設(shè)備與工藝...
【射頻離子源簡介】:國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23,主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等,是公司技術(shù)團隊全自主研發(fā)近3年時間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源,屬于國內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產(chǎn)鍍膜行...
【真空鍍膜設(shè)備的分類】:這個問題如果在十年之前,其實是很容易回答的,就是兩個大類,物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備?,F(xiàn)在這樣回答也是沒錯的,但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了,所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類:傳統(tǒng)光學(xué)器件(鏡片,濾光片)所用的鍍膜設(shè)備:單腔體或...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜強度】:膜強度時鏡片鍍膜的一項重要指標(biāo),也是鍍膜工序Zui常見的不良項。膜強度的不良(膜弱)主要表現(xiàn)為:1.擦拭專yong膠帶拉撕,產(chǎn)生成片脫落2.擦拭專yong膠帶拉撕,產(chǎn)生點狀脫落3.水煮15分鐘后用專yong膠帶拉...
【離子鍍膜法之射頻離子鍍】: 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應(yīng)氣體氧氣、氮氣、乙炔等離化。這種方法的特點是:基板溫升小,不純氣體少,成膜好,適合鍍化合物膜,但匹配較困難??蓱?yīng)用于鍍...
【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度:10~30℃2、相對濕度:不da于70%3、冷卻水進水溫度:不高于25℃4、冷卻水質(zhì):城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波動范圍342~3...
【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高,水轉(zhuǎn)印的用途越來越廣fan。適用材料:所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印,適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。常見的為注塑件和金屬件。工藝成本:無...
【真空鍍膜機清洗工藝之氮氣沖洗】氮氣在材料表面吸附時,由于吸附能小,因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng),可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入da氣之前,先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入da氣...
【真空鍍膜之真空的概念】: “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài),也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài),就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)(STP:即0℃,101325Pa,也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,760...