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【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜色差異】：膜色差異有兩種（不含色斑），一種時整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致。改善對策：1.調整修正版，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有兩個蒸發(fā)源，可能的條件下，獨li使用各自的...

【磁控濺射鍍膜的歷史】： 磁控濺射技術作為一種十分有效的薄膜沉積方法,被普遍地應用于許多方面，特別是在微電子、光學薄膜和材料表面處理等領域。1852年Grove首ci描述濺射這種物理現(xiàn)象,20世紀40年代濺射技術作為一種沉積鍍膜方法開始得到應用和發(fā)展。60年代...

【真空鍍膜設備】主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加...

【光譜分光不良的補救處理】1.對于第（yi）種情況，比較好處理，只要確認前面鍍的沒錯，程序沒有用錯，就可以繼續(xù)原來的程序，要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時，交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少，一般是)，如果該層剩下的膜...

薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量約0.1eV。IAD沉積導致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能，通常為50eV量級。離子源將束流從離子指向基底表面和正在...

【光譜分光不良的補救處理】1.對于第（yi）種情況，比較好處理，只要確認前面鍍的沒錯，程序沒有用錯，就可以繼續(xù)原來的程序，要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時，交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少，一般是)，如果該層剩下的膜...

【光學鍍膜工藝】光學鍍膜所涉及的制造工藝是勞動和資本密集型的，并且十分耗時。影響鍍膜成本的因素包括被鍍膜的光學件的數(shù)量，類型，尺寸，需要鍍多少層膜以及光學件上需要鍍膜的表面數(shù)量。鍍膜采用的沉積工藝對鍍膜成本以及鍍膜性能方面的影響也十分巨大。此外，在...

【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過反射量的公式進行計算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：鏡片的單面反射量 n：鏡片材料的折射率 例如普通樹脂材料的折射率為1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（...

二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺...

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預抽閥→關預抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關轟擊→開真空計→當真空到，關粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當真空達到7x10-3pa，開轉架→開始鍍膜操作...

【真空鍍膜之水轉印】水轉印是利用水壓將轉印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉印的用途越來越廣fan。適用材料：所有的硬材料都適合水轉印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉印。常見的為注塑件和金屬件。工藝成本:無...

【真空鍍膜機真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是簡單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因為它不需要用額外特殊的儀器或者特殊物質，通過測量規(guī)管就可以檢測真空系統(tǒng)的總漏率，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單，但也存在局限。如果真...

【真空鍍膜機之真空泵的維護和保養(yǎng)】1、經(jīng)常檢查油位位置，不符合規(guī)定時須調整使之符合要求。以泵運轉時，油位到油標中心為準。2、經(jīng)常檢查油質情況，發(fā)現(xiàn)油變質應及時更換新油，確保泵工作正常。3、換油期限按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮，由用戶酌情決定。一般...

【真空鍍膜機真空系統(tǒng)檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導真空計法與電離真空計法。以熱傳導真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導能力差異與壓力的關系來分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時，要保證被檢系統(tǒng)處于一個壓力不變的動態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體...

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預抽閥→關預抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關轟擊→開真空計→當真空到，關粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當真空達到7x10-3pa，開轉架→開始鍍膜操作...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處...

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結構一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導電與否，可分為導電真空鍍膜（VM）和不導電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類...

【真空鍍膜設備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應，反應后膜層脫落，...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當?shù)脑黾迎h(huán)...

【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內由惰性氣體(通常為氬)產(chǎn)生具有較高能量的離子轟擊靶材料，把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點是基片相對于離子源和靶是du立的，它的溫度可以單獨控制?；ǔ＝拥匚?，它和靶與高頻電路無關，...

【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導】真空泵安裝指導1、泵應安裝在地面結實堅固的場所，周圍應留有充分的余地，便于檢查、維護、保養(yǎng)。2、泵底座下應保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運轉平穩(wěn)，振動小。3、泵與系統(tǒng)的連接管道應密封可靠，對小泵...

【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質蒸發(fā)來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化...

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子...

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中...

【真空鍍膜機概述】：真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機構造的五da系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)...

【機械泵分類】機械泵有很多種，常用的有滑閥式、活塞往復式、定片式和旋片式四種類型。機械泵是從da氣開始工作的，它的主要參數(shù)有極限真空，抽氣速率，此為設計與選用機械泵的重要依據(jù)。單級泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空，雙級機械泵可以將容器從d...

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子...

【真空鍍膜機有哪些污染源】真空鍍膜機是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經(jīng)過許多機械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因為有了這些工作，導致設備零部件表面不可避免地會沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。...

【射頻離子源簡介】：國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術團隊全自主研發(fā)近3年時間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源，屬于國內大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產(chǎn)鍍膜行...

【真空鍍膜的膜層結構分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加...