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【真空鍍膜設(shè)備撿漏方法】:檢漏方法很多，根據(jù)被檢件所處的狀態(tài)可分為充壓檢漏法、真空檢漏法及其它檢漏法。充壓檢漏法：在被檢件內(nèi)部充入一定壓力的示漏物質(zhì)，如果被檢件上有漏孔，示漏物質(zhì)便從漏孔漏出，用一定的方法或儀器在被檢件外部檢測出從漏孔漏出的示漏物質(zhì)...

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子槍加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同...

【為什么要在真空中鍍膜】：1.鍍的過程中不會受空氣分子碰撞,有較大的動量到達待鍍件表面2.防止氣體“污染”.如：鍍金屬膜時可以防止氧化3.成膜過程不受氣體影響,致密牢固4.真空（負壓）狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點教常壓下低,易于融化蒸發(fā)（對于蒸發(fā)類型的鍍膜）真空鍍膜...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學(xué)沉積法】化學(xué)氣相沉積(chemicalvapourdeposition,CVD)是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體，供給基板，利用氣相反應(yīng)，在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù)，該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制...

【真空鍍膜設(shè)備的分類】： 這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備?，F(xiàn)在這樣回答也是沒錯的，但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類： 傳統(tǒng)光學(xué)器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設(shè)備：...

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度：10~30℃2、相對濕度：不da于70%3、冷卻水進水溫度：不高于25℃4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~3...

【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】：活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的測量】： 真空計： A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對流規(guī)： 用來測粗真空的真空計，從大氣到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應(yīng)較慢，受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī)： 用來測高真空或超高真空的真空計，熱燈絲的離子...

【真空鍍膜機真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發(fā)的有機溶劑中，使之成為飽和溶液；然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面，這一過程中，為了提升效果、縮短浸泡時間，可以在抽真空或者加壓...

【真空鍍膜機電控柜的操作】1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源2、開總電源3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4、開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分...

薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能，通常為50eV量級。離子源將束流從離子指向基底表面和正在...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對策： 1. 對減反膜，設(shè)計條件許可時，外層加以SiO2層，10nm左右即可（一般的外層膜是MgF2）。使外層趨于光...

【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化：主要是鋁的陽極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料： 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本：生產(chǎn)過程中，水、電的消耗是相當da的，...

我們已經(jīng)知道透光度與鍍膜的折射率有關(guān)，但是卻無關(guān)于它的厚度?？墒俏覀?nèi)裟茉阱兡さ暮穸壬舷曼c功夫，會發(fā)現(xiàn)反射光A與反射光B相差 nc×2D 的光程差。如果nc×2D=（N+ 1/2）λ 其中 N= 0,1,2,3,4,5..... λ為光在空氣中的波長則會造成該...

【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣)，充氣壓力的高低視零部件的強度而定，一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發(fā)出明顯的嘶嘶聲，音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔...

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類...

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度：10~30℃2、相對濕度：不da于70%3、冷卻水進水溫度：不高于25℃4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~3...

【入射光的反射定律】照射到任何表面的光遵守光的反射、折射定律。表面平整的物體（這里以可以透光的玻璃為例）放置在空氣中，有一束光照射前表面時，將在入射點O發(fā)生反射和折射。普通玻璃的反射率在8%左右，存在著眩光刺眼和透射影象的清晰度低等問題，甚至造成環(huán)境的不協(xié)調(diào)。...

【磁控濺射鍍光學(xué)膜的技術(shù)路線】陶瓷靶濺射：靶材采用金屬化合物靶材，可以直接沉積各種氧化物或者氮化物，有時候為了得到更高的膜層純度，也需要通入一定量反應(yīng)氣體）；反應(yīng)濺射：靶材采用金屬或非金屬靶，通入稀有和反應(yīng)氣體的混合氣體，進行濺射沉積各種化合物膜層。離子輔助沉...

【真空鍍膜機概述】： 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機構(gòu)造的五da系統(tǒng)：排氣...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵...

【真空鍍膜機之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用，不少硬幣的外層亦為電鍍。 適用材料： 1.da多數(shù)金屬可以進行電鍍 但是不同的金屬具有不同等級的純度和電鍍效率。其中...

真空鍍膜真空濺射法】：真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材料表面進行轟擊，把靶...

【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】： 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點是：基板溫升大、繞射性好、附著性好，膜結(jié)構(gòu)及形貌差，若用電...

【關(guān)于反射式濾光片】在手機領(lǐng)域另一個應(yīng)用較多的是紅外截止濾光片又稱IR-cutFilter。從原理分有反射式濾光片和吸收式濾光片兩種，它們采用了不同的玻璃基材。反射式濾光片原理是在普通光學(xué)玻璃上交替鍍多層高折射率光學(xué)膜，達到可見光波段的高透（400-630nm...

在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜和化學(xué)鍍膜，在現(xiàn)有的防指紋光學(xué)薄膜鍍膜設(shè)備使用過程中至少有以下弊端：1、現(xiàn)有的防指紋光學(xué)薄膜鍍膜設(shè)備使用過程中，需要對光學(xué)零件進行夾持固定，而現(xiàn)有的夾具無...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵...

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】： 電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬，做成適當形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過，對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價便宜、使用可靠，...

【卷繞真空鍍膜設(shè)備簡介】：該設(shè)備用于包裝材料及薄膜電容器的金屬化鍍膜。其中PM1300、PM1650、PM2200以及CM850真空卷繞鍍膜機是我司采用當今行業(yè)技術(shù)研發(fā)制作，集機械、真空、制冷等技術(shù)于一體的具有極高自動化控制的多功能真空卷繞鍍膜機?？蓮V泛應(yīng)用于...