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【真空鍍膜對(duì)環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的?；砻嫖廴緛?lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在da氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，...

【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候，機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。真空鍍膜機(jī)類型推薦。寧夏真空鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學(xué)過(guò)程，其中浸沒(méi)在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子，并由于電流...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝要求】真空工藝進(jìn)行前應(yīng)清洗真空材料，從工件或系統(tǒng)材料表面qing除污染物；真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的，因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源不僅會(huì)使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時(shí)也會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。污染物可以定義為“任何一種無(wú)用的物質(zhì)或能量”，根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學(xué)特征來(lái)看，它可以處于離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，可以是無(wú)機(jī)物或有機(jī)物。暴露在空氣中的表面易受到污染，污染的來(lái)源有很多種，初的污染通常是表面本身形成過(guò)程中的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸析和干燥過(guò)程、機(jī)械處理以及擴(kuò)散和...

【真空鍍膜機(jī)的鍍層與鍍膜原理】A、原材料與基本原理：原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調(diào)和，乳化出來(lái)的狀態(tài)就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實(shí)現(xiàn)。這些物質(zhì)經(jīng)乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。B、它們的特點(diǎn)和區(qū)別：鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒da小)，表面光滑度更優(yōu)，對(duì)漆面較多“毛細(xì)孔”、粗糙、重噴過(guò)漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。鍍膜：而鍍膜產(chǎn)品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質(zhì)相應(yīng)的發(fā)生了改變。例如硬度比封釉更高，對(duì)需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較適用。防護(hù)層的主要性能...

【真空鍍膜對(duì)環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來(lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在da氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。紅外真空鍍膜機(jī)制造商。北京真空鍍膜空心陰極霍爾離子源多少錢【真空鍍膜機(jī)常見故障】:一、當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降1.蒸發(fā)源水路膠...

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純?cè)?電鍍級(jí)別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對(duì)基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發(fā)的結(jié)果，VM膜層可導(dǎo)電，NCVM鍍層不導(dǎo)電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時(shí)對(duì)真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚！真空鍍膜機(jī)品牌排行。北京塑膠鍍膜空心陰極霍爾離子源【不同類型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介...

【真空鍍膜機(jī)檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣)，充氣壓力的高低視零部件的強(qiáng)度而定，一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發(fā)出明顯的嘶嘶聲，音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺(jué)漏孔，則用皂液涂于零部件可疑表面處，有氣泡出現(xiàn)處便是漏孔位置。用這種方法較小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中，氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔，方便可靠，并能同時(shí)全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)，則為×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續(xù)時(shí)間短...

【真空鍍膜之陽(yáng)極氧化】陽(yáng)極氧化：主要是鋁的陽(yáng)極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性適用材料：鋁、鋁合金等鋁制品工藝成本：生產(chǎn)過(guò)程中，水、電的消耗是相當(dāng)da的，特別是在氧化工序。機(jī)器本身的熱耗，需要不停地用循環(huán)水進(jìn)行降溫，噸電耗往往在1000度左右。環(huán)境影響：陽(yáng)極氧化在能效方面不算出色，同時(shí)在鋁電解生產(chǎn)中，陽(yáng)極效應(yīng)還會(huì)產(chǎn)生對(duì)da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體?？招年帢O霍爾離子源可用于制備高質(zhì)量的單晶材料。成都玻璃鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選【常見的真空材料表面上的污染物類型】1、油脂：加工、裝配、操作時(shí)沾...

【真空鍍膜機(jī)有哪些污染源】真空鍍膜機(jī)是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經(jīng)過(guò)許多機(jī)械加工流程而制作出來(lái)，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因?yàn)橛辛诉@些工作，導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來(lái)的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發(fā)，從而對(duì)設(shè)備的極限真空造成影響。此外，這些機(jī)械加工帶來(lái)的真空污染物在da氣壓環(huán)境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態(tài)下，這些原先吸附的氣體也會(huì)被再次釋放出來(lái)，成為限制真空系統(tǒng)的極限真空的一da主要因素。1、真空規(guī)管的燈絲在高溫條件下蒸發(fā)，將導(dǎo)致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對(duì)其絕緣強(qiáng)度有一定的損壞，對(duì)其測(cè)量的準(zhǔn)確性也...

【真空鍍膜機(jī)的鍍層與鍍膜原理】A、原材料與基本原理：原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調(diào)和，乳化出來(lái)的狀態(tài)就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實(shí)現(xiàn)。這些物質(zhì)經(jīng)乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。B、它們的特點(diǎn)和區(qū)別：鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒da小)，表面光滑度更優(yōu)，對(duì)漆面較多“毛細(xì)孔”、粗糙、重噴過(guò)漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。鍍膜：而鍍膜產(chǎn)品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質(zhì)相應(yīng)的發(fā)生了改變。例如硬度比封釉更高，對(duì)需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較適用。防護(hù)層的主要性能...

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學(xué)過(guò)程，其中浸沒(méi)在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子，并由于電流的通過(guò)而從表面移除，從而達(dá)到工件表面除去細(xì)微毛刺和光亮度增da的效果。適用材料：1.da多數(shù)金屬都可以被電解拋光，其中常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于奧氏體核級(jí)不銹鋼）。2.不同材料不可同時(shí)進(jìn)行電解拋光，甚至不可以放在同一個(gè)電解溶劑里。工藝成本：電解拋光整個(gè)過(guò)程基本由自動(dòng)化完成，所以人工費(fèi)用很低。環(huán)境影響：電解拋光采用危害較小的化學(xué)物質(zhì)，整個(gè)過(guò)程需要少量的水且操作簡(jiǎn)單，另外可以延長(zhǎng)不銹鋼的屬性，起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。北京光學(xué)鍍膜空心陰極霍爾離子源【真空鍍膜機(jī)之真空泵...

【不同類型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介紹】不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹1.磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等2.磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等3.磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等4.AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等5.觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。6.磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。7.PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄...

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng)，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí))，濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用，須可災(zāi)弧。射頻...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問(wèn)題。3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。四川光學(xué)薄膜空心陰極霍爾離子源【真空鍍膜對(duì)環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清...

【真空鍍膜機(jī)之卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的問(wèn)題】①提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動(dòng)的線速度，它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國(guó)內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國(guó)外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國(guó)L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機(jī)已達(dá)到600m/min，可見隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因?yàn)橹挥芯砝@機(jī)構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對(duì)制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加?？招年帢O霍爾離子源具有較高的離子產(chǎn)額和較低的氣體消耗率。浙江空心陰極霍爾離子源廠家【真空鍍膜機(jī)之真空泵的安裝和指導(dǎo)】真空泵安裝...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來(lái)講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種：旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達(dá)10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM往復(fù)式活塞泵：干泵，極限真空10&2Torr，抽速6~32...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級(jí)清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時(shí)，這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果，可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^da的團(tuán)粒，并同時(shí)分解成碳渣?？招年帢O霍爾離子源可用于表面處理、材料改性、離子注入等領(lǐng)域。甘肅光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源...

【真空鍍膜機(jī)有哪些污染源】真空鍍膜機(jī)是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經(jīng)過(guò)許多機(jī)械加工流程而制作出來(lái)，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因?yàn)橛辛诉@些工作，導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來(lái)的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發(fā)，從而對(duì)設(shè)備的極限真空造成影響。此外，這些機(jī)械加工帶來(lái)的真空污染物在da氣壓環(huán)境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態(tài)下，這些原先吸附的氣體也會(huì)被再次釋放出來(lái)，成為限制真空系統(tǒng)的極限真空的一da主要因素。1、真空規(guī)管的燈絲在高溫條件下蒸發(fā)，將導(dǎo)致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對(duì)其絕緣強(qiáng)度有一定的損壞，對(duì)其測(cè)量的準(zhǔn)確性也...

【真空鍍膜機(jī)沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳?xì)浠衔镂廴?。通常對(duì)于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運(yùn)行后)，由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定，這時(shí)對(duì)它們進(jìn)行除氣處理就很困難，一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳?xì)浠衔锏奈廴?，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應(yīng)氣體工藝，可以進(jìn)行原位在線除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳?xì)?..

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純?cè)?電鍍級(jí)別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對(duì)基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發(fā)的結(jié)果，VM膜層可導(dǎo)電，NCVM鍍層不導(dǎo)電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時(shí)對(duì)真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。真空鍍膜機(jī)技術(shù)教程。廣西光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選【真空鍍膜之磁控濺射...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來(lái)分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示漏...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來(lái)分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示漏...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對(duì)于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コ?。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個(gè)適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達(dá)到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片，它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對(duì)某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來(lái)分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示漏...

【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對(duì)半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級(jí)表面處理。系統(tǒng)原理通過(guò)電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統(tǒng)配置*自動(dòng)化控制器:e-ControlPLC，是控制系統(tǒng)的硬件平臺(tái)。人機(jī)界面硬件:TPC1503工業(yè)級(jí)15寸觸摸式平板電腦，穩(wěn)定可靠。人機(jī)界面軟件:NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺(tái)，提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。空心陰極霍爾離子源采用無(wú)...

【不同類型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介紹】不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹1.磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等2.磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等3.磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等4.AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等5.觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。6.磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。7.PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄...

【真空鍍膜設(shè)備撿漏需注意】真空鍍膜設(shè)備檢漏是保證真空鍍膜設(shè)備真空度的一項(xiàng)檢查措施，簡(jiǎn)稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，所以檢漏是必不可少的。一、要確認(rèn)漏氣到底的虛漏還是實(shí)漏。因?yàn)楣ぜ牧霞訜岷蠖紩?huì)在不同程度上產(chǎn)生氣體，有可能誤以為是從外部流進(jìn)的氣體，這就是虛漏，要排除這種情況。二、測(cè)試好真空室的氣體密封性能。確保氣密性能符合要求。三、檢查漏孔的da小，形狀、位置，漏氣的速度，制備出可解決方案并實(shí)施。四、確定檢測(cè)儀器的小可檢漏率和檢漏靈敏性，以da范圍的檢測(cè)出漏氣情況，避免一些漏孔被忽略，提高檢漏的準(zhǔn)確性。五、把握檢漏儀器的反應(yīng)時(shí)間和消除時(shí)間。把時(shí)間掌握好，保證檢漏儀器工作到位，時(shí)間少...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來(lái)分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示漏...