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【光學(xué)鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學(xué)鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結(jié)構(gòu)的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成...

【如何改善由于設(shè)計膜系導(dǎo)致的光譜特性不良】膜系設(shè)計時的膜厚、折射率允差太小，試制時的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣，制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。膜系設(shè)計中選用膜料的折射率應(yīng)與使用膜料使用機臺吻合。膜系設(shè)計盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應(yīng)氣體由陽極底部進入放電區(qū)內(nèi)參與放電，放電區(qū)內(nèi)由磁鐵產(chǎn)生如圖所示的錐形磁場，在放電區(qū)的上部安裝有補償或中和陰極。根據(jù)工作要求該型號離子源的工作氣體為氬氣，反應(yīng)氣體可以使用氮氣、氧氣或碳?xì)涞榷喾N氣體。放電區(qū)上部陰極燈絲加熱后產(chǎn)...

【炫彩的搬運工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復(fù)制模具，即可開始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下： ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據(jù)不同復(fù)制模具尺寸...

【光譜特性不良產(chǎn)生的原因】膜系設(shè)計時的膜厚、折射率允差太小，試制時的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣，制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。設(shè)計的膜料折射率與實際的折射率有差異,或發(fā)生了變異。實被的中心波長(膜厚)與希望達到的中心波長(膜厚)有差異,或發(fā)生了変異。( tool...

【光學(xué)真空設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域】 光學(xué)真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)代光學(xué)和光電系統(tǒng)*重要的組成部分，在光通信、光顯示、激光加工、激光融合等高技術(shù)和工業(yè)領(lǐng)域，技術(shù)突破往往成為現(xiàn)代光學(xué)和光電子系統(tǒng)加速發(fā)展的主要原因。光學(xué)鍍膜的技術(shù)性能和可靠性直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性和成本...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表...

【光學(xué)鍍膜機維護與保養(yǎng)之光路的檢修與維護】光路調(diào)整的先決條件是：確保直流穩(wěn)定電源、調(diào)制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚測量儀的接地點，必須單獨歸至主機接點牢固接地。 導(dǎo)磁板及...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法，其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中，水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點...

【光學(xué)鍍膜的目的】： &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用：中性分光、變se分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &se光顯示、se光反射、偽chao及有價證券之防止 ...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法，其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中，水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點...

【常見的光學(xué)鍍膜材料】常見的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種： 1、氟化鎂材料特點：無se四方晶系粉末，純度高，用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過率，不出崩點。 2、二氧化硅材料特點：無se透明晶體，熔點高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，...

【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得第yi束光，折射光經(jīng)薄膜下表面反射，又經(jīng)上表面折射后得第二束光，這兩束光在薄膜的同側(cè)，由同一入射振動分出，是相干光，屬分振幅干涉。若光源為擴展光源(面光源)，則只能...

【光學(xué)鍍膜機的維護與保養(yǎng)之電子qiang安裝與維護】電子qiang蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅(qū)動電源、蒸發(fā)源等組成一個電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內(nèi)含有高壓，在工作前必須保證柜門各個聯(lián)鎖裝置正常工作...

【如何清洗光學(xué)鍍膜機】設(shè)備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時，應(yīng)對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表...

【光學(xué)薄膜的定義】 光學(xué)薄膜的定義是∶涉及光在傳播路徑過程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過分層介質(zhì)膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性,以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光.。 光學(xué)...

【光學(xué)鍍膜法的應(yīng)用之化學(xué)鍍膜法和物理鍍膜法】 浸鍍法是唯yi可以同時制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設(shè)計要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環(huán)保的負(fù)擔(dān)。 噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃...

【光學(xué)鍍膜之蒸發(fā)源的類型和特點】 ①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì) 。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)...

【光學(xué)鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學(xué)鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結(jié)構(gòu)的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成...

【光學(xué)真空鍍膜機的應(yīng)用】光學(xué)真空鍍膜機無論對于手機，數(shù)碼產(chǎn)品，還是衛(wèi)浴都有同樣的裝飾性要求產(chǎn)品，光學(xué)鍍膜通過底層鍍制顏se膜和透明介質(zhì)多層膜實現(xiàn)多種顏se，se調(diào)和金屬光澤，并能配有絲印，熱轉(zhuǎn)印，鐳雕和拉絲工藝，得到多種se調(diào)的炫彩光澤，光學(xué)鍍膜加強條紋和圖案...

【光學(xué)鍍膜機電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設(shè)備的高壓電源...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應(yīng)氣體由陽極底部進入放電區(qū)內(nèi)參與放電，放電區(qū)內(nèi)由磁鐵產(chǎn)生如圖所示的錐形磁場，在放電區(qū)的上部安裝有補償或中和陰極。根據(jù)工作要求該型號離子源的工作氣體為氬氣，反應(yīng)氣體可以使用氮氣、氧氣或碳?xì)涞榷喾N氣體。放電區(qū)上部陰極燈絲加熱后產(chǎn)...

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實際應(yīng)用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測量得出只有85%了,那就...

【光學(xué)鍍膜之什么是蒸發(fā)鍍】通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方...

【光學(xué)鍍膜機是什么】光學(xué)鍍膜設(shè)備可鍍制層數(shù)較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩se反射膜等各種膜系，能夠?qū)崿F(xiàn)多層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配置不同的蒸發(fā)源...

【光學(xué)薄膜的應(yīng)用前景】光電信息產(chǎn)業(yè)中*有發(fā)展前景的通訊、顯示和存儲三大類產(chǎn)品都離不開光學(xué)薄膜，如投影機、背投影電視機、數(shù)碼照相機、攝像機、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學(xué)薄膜的性能在很大程度上決定了這些產(chǎn)品的*終性能。光學(xué)薄膜正在突...

【光學(xué)薄膜的特點】表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)...

【光學(xué)鍍膜之良好的薄膜需要具備哪些特性】 通俗的定義為在正常狀況下，其應(yīng)用功能不會失效。想要達到這個目的，一般而言這層薄膜必須具有堅牢的附著力、很低的內(nèi)應(yīng)力、針kong密度很少、夠強的機械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學(xué)侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成...

【光學(xué)薄膜的研究新進展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認(rèn)為是自然界中*硬的物質(zhì)。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結(jié)構(gòu)的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導(dǎo)率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學(xué)惰...