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【真空鍍膜設(shè)備的分類】： 這個(gè)問題如果在十年之前，其實(shí)是很容易回答的，就是兩個(gè)大類，物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備。現(xiàn)在這樣回答也是沒錯(cuò)的，但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類： 傳統(tǒng)光學(xué)器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設(shè)備：單腔...

【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】： 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升大、繞射性好、附著性好，膜結(jié)構(gòu)及形貌差，若用電...

【光學(xué)鍍膜法的應(yīng)用之化學(xué)鍍膜法和物理鍍膜法】 浸鍍法是唯yi可以同時(shí)制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設(shè)計(jì)要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環(huán)保的負(fù)擔(dān)。 噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃...

【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】： 低溫泵：低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機(jī)低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下，抽氣面就能大量冷凝沸點(diǎn)溫度比該抽氣面溫度高...

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡單的直流二極濺射，它的優(yōu)點(diǎn)是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(Ns,則反射率會(huì)提高（Ns為基底），若Nf

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜色差異】： 膜色差異有兩種（不含色斑），一種時(shí)整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致。 改善對(duì)策： 1. 調(diào)整修正版，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有兩個(gè)蒸發(fā)源，可能的條件下，獨(dú)li使...

【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】： 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會(huì)發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)...

【真空鍍膜電子束蒸發(fā)法】： 電子束蒸發(fā)法是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面形成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點(diǎn)，特別適合制作熔點(diǎn)薄膜材料和高純薄...

【真空鍍膜之真空的概念】： “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，760...

【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】： 低溫泵：低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機(jī)低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下，抽氣面就能大量冷凝沸點(diǎn)溫度比該抽氣面溫度高...

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡單的直流二極濺射，它的優(yōu)點(diǎn)是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(Ns,則反射率會(huì)提高（Ns為基底），若Nf

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達(dá)到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)?..

【真空鍍膜機(jī)沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳?xì)浠衔镂廴?。通常對(duì)于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空...

【不同類型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介紹】不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹 1. 磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等 2. 磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等 3. 磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽能利用領(lǐng)...

【真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技術(shù)】一、當(dāng)鍍膜設(shè)備工作完成到兩百個(gè)鍍膜的時(shí)候，拆出密封圈，及時(shí)清潔設(shè)備環(huán)境（室內(nèi)環(huán)境）。如何清潔保養(yǎng)？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時(shí)釋放氫氣，清洗過程中要注意所使用到的溶液會(huì)灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹(jǐn)慎用堿飽和溶液不斷來回...

【真空鍍膜機(jī)常見故障之旋片泵故障及處理方法】 1、未做保養(yǎng)導(dǎo)致灰塵太多。真空鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中容易產(chǎn)生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時(shí)間久了容易對(duì)轉(zhuǎn)子及泵腔造成磨損及破壞。 處理方法：如果灰塵不多，可以油過濾系統(tǒng)除掉灰塵；如果灰塵過多可以用除...

【真空鍍膜機(jī)之真空泵的維護(hù)和保養(yǎng)】1、經(jīng)常檢查油位位置，不符合規(guī)定時(shí)須調(diào)整使之符合要求。以泵運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，油位到油標(biāo)中心為準(zhǔn)。2、經(jīng)常檢查油質(zhì)情況，發(fā)現(xiàn)油變質(zhì)應(yīng)及時(shí)更換新油，確保泵工作正常。3、換油期限按實(shí)際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮，由用戶酌情決定。一般...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。 表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機(jī)械打磨，化學(xué)處理，表面熱處理，噴涂表面，表面...

【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。...

【真空鍍膜機(jī)之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 適用材料： 1、很多材料可以進(jìn)行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復(fù)合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍...

【光學(xué)鍍膜的好處】光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?，F(xiàn)代，光學(xué)薄膜已廣fan用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。 主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等...

【光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)】光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng) （一）定期更換擴(kuò)散泵油 擴(kuò)散泵油使用一段時(shí)間，約二個(gè)月（兩班），因在長期高溫環(huán)境，雖然較高真空時(shí)才啟動(dòng)擴(kuò)散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng)，擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解，使其品質(zhì)下降，而延長抽氣時(shí)間。在我們...

【光學(xué)鍍膜機(jī)的清洗】設(shè)備使用一個(gè)星期后，因鍍料除鍍?cè)诠ぜ砻嫱?，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍?cè)胶瘢搶幽ず褚蚪M織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí)，應(yīng)對(duì)工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸...

【光學(xué)鍍膜的理論】 　　鍍膜控制穿過光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí)，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位(180°位移)時(shí)，其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱...

【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化：主要是鋁的陽極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料： 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本：生產(chǎn)過程中，水、電的消耗是相當(dāng)da的，特別...

【真空鍍膜設(shè)備撿漏需注意】真空鍍膜設(shè)備檢漏是保證真空鍍膜設(shè)備真空度的一項(xiàng)檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，所以檢漏是必不可少的。 一、要確認(rèn)漏氣到底的虛漏還是實(shí)漏。因?yàn)楣ぜ牧霞訜岷蠖紩?huì)在不同程度上產(chǎn)生氣體，有可能誤以為是從外部流進(jìn)的氣體...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應(yīng)氣體由陽極底部進(jìn)入放電區(qū)內(nèi)參與放電，放電區(qū)內(nèi)由磁鐵產(chǎn)生如圖所示的錐形磁場，在放電區(qū)的上部安裝有補(bǔ)償或中和陰極。根據(jù)工作要求該型號(hào)離子源的工作氣體為氬氣，反應(yīng)氣體可以使用氮?dú)狻⒀鯕饣蛱細(xì)涞榷喾N氣體。放電區(qū)上部陰極燈絲加熱后產(chǎn)...

【真空鍍膜機(jī)之鍍鋅工藝】在鋼鐵合金材料的表面鍍一層鋅以起美觀、防銹等作用的表面處理技術(shù)，表面的鋅層是一種電化學(xué)保護(hù)層，可以防止金屬腐壞，主要采用的方法是熱鍍鋅和電鍍鋅。 適用材料： 由于鍍鋅工藝依賴于冶金結(jié)合技術(shù)，所以只適合鋼和鐵的表面處理。 工藝成本：無模具...

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】 1、環(huán)境溫度：10~30℃ 2、相對(duì)濕度：不da于70% 3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃ 4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍...

【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：鏡片的單面反射量 n：鏡片材料的折射率 例如普通樹脂材料的折射率為1.50，反射光R＝（1....