【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之軟X射線多層膜】意大利、英國、法國、美國和俄羅斯等國對軟X射線多層膜開展了廣fan研究,軟X射線的光譜區(qū)為1~30nm,據(jù)報(bào)道,不同波長的各種軟X射線多層膜都取得了可喜的成績。 采用離子束濺射和磁控濺射等鍍膜技術(shù)制備的軟X射線多層膜,在X光激光器、X射線望遠(yuǎn)鏡等高技術(shù)方面得到應(yīng)用;近年來,X射線天文學(xué)、軟X射線顯微術(shù)、軟X射線投影光刻以及軟X射線激光均取得了很好的發(fā)展,其中軟X射線多層膜起著關(guān)鍵作用。意大利和荷蘭聯(lián)合研制并成功發(fā)射了探測X射線的衛(wèi)星以及發(fā)射了“多面鏡X射線觀測衛(wèi)星”,均使用了軟X射線多層膜;美國已多次發(fā)射帶有正入射的X射線多層膜系統(tǒng)的衛(wèi)星,得到了4.4~...
【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之軟X射線多層膜】意大利、英國、法國、美國和俄羅斯等國對軟X射線多層膜開展了廣fan研究,軟X射線的光譜區(qū)為1~30nm,據(jù)報(bào)道,不同波長的各種軟X射線多層膜都取得了可喜的成績。 采用離子束濺射和磁控濺射等鍍膜技術(shù)制備的軟X射線多層膜,在X光激光器、X射線望遠(yuǎn)鏡等高技術(shù)方面得到應(yīng)用;近年來,X射線天文學(xué)、軟X射線顯微術(shù)、軟X射線投影光刻以及軟X射線激光均取得了很好的發(fā)展,其中軟X射線多層膜起著關(guān)鍵作用。意大利和荷蘭聯(lián)合研制并成功發(fā)射了探測X射線的衛(wèi)星以及發(fā)射了“多面鏡X射線觀測衛(wèi)星”,均使用了軟X射線多層膜;美國已多次發(fā)射帶有正入射的X射線多層膜系統(tǒng)的衛(wèi)星,得到了4.4~...
【光學(xué)鍍膜之反射膜】反射膜一般可分為兩類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜,功能是增加光學(xué)表面的反射率。 一般金屬都具有較大的消光系數(shù)。當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí),進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減,使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少,而反射光能增加。消光系數(shù)越大,光振幅衰減越迅速,進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大,光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁,在可見光區(qū)常用鋁和銀,在紅外區(qū)常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質(zhì)膜...
【光學(xué)鍍膜機(jī)基本原理】光的干涉在薄膜光學(xué)中廣fan應(yīng)用:光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在材料基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩se分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強(qiáng)度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。光學(xué)鍍膜機(jī)的生...
【光學(xué)薄膜的應(yīng)用前景】光電信息產(chǎn)業(yè)中*有發(fā)展前景的通訊、顯示和存儲(chǔ)三大類產(chǎn)品都離不開光學(xué)薄膜,如投影機(jī)、背投影電視機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、攝像機(jī)、DVD,以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等,光學(xué)薄膜的性能在很大程度上決定了這些產(chǎn)品的*終性能。光學(xué)薄膜正在突破傳統(tǒng)的范疇,越來越廣fan地滲透到從空間探測器、集成電路、生物芯片、激光器件、液晶顯示到集成光學(xué)等各學(xué)科領(lǐng)域中,對科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和全球經(jīng)濟(jì)的發(fā)展都起著重要的作用,研究光學(xué)薄膜物理特性及其技術(shù)已構(gòu)成現(xiàn)代科技的一個(gè)分支——薄膜光學(xué)。光學(xué)薄膜技術(shù)水平已成為衡量一個(gè)國家光電信息等高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)科技發(fā)展水平的關(guān)鍵技術(shù)之一。 增透減反AR膜,主要也是...
【光學(xué)鍍膜在jun事上的運(yùn)用】在jun事上,寬帶增透膜和寬帶高反射膜廣fan用于jun用光學(xué)儀器。用具有一定工作波長的濾光片和其它部件組成的紅外探測器和紅外器件,可探測發(fā)出大量熱能的導(dǎo)彈和飛機(jī)等jun事目標(biāo)的行蹤。這些器件也用于紅外制導(dǎo)導(dǎo)彈,熱成像儀光學(xué)器件上鍍制的硬碳膜和金剛石膜,耐風(fēng)沙和雨水。坦克用激光測距儀的鏡頭,需鍍增透膜和防霜導(dǎo)電金屬膜。透明的導(dǎo)電薄膜用于戰(zhàn)斗機(jī)上防雷達(dá)。 光學(xué)鍍膜可應(yīng)用于jun用光學(xué)系統(tǒng),鍍膜技術(shù)可通過特殊的鍍膜保護(hù)傳感器在風(fēng)沙雨雪等惡劣的環(huán)境下不受外界影響或沒有明顯的損耗。具有優(yōu)良的多光譜和低能見度探測、在700℃工作溫度下耐氧化、速度大于4馬赫時(shí)仍能工作、抗電...
【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同,波長相同的光波疊加,那么光波的振幅增強(qiáng);如果二個(gè)光波原由相同,波程相差,如果這二個(gè)光波疊加,那么互相抵消了。 1)振幅條件:膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2)位相條件:膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長。d=λ/4 λ=555nm時(shí),d=555/4=139nm 對于減反射膜層,許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波(波長為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過薄(〈139nm),反射光會(huì)顯出淺棕黃色,如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過厚( 〉139nm)。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射,但并不可能做到?jīng)]有反...
【光學(xué)鍍膜的好處】光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣fan用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。 主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們在國民經(jīng)濟(jì)和**建設(shè)中得到了廣 fan的應(yīng)用,獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小,采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高,利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。 光學(xué)鍍膜機(jī)的培訓(xùn)資料。安徽光學(xué)鍍膜機(jī)廠家直銷【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之固體噴涂法】噴涂鍍膜技術(shù)是將一種...
【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之軟X射線多層膜】意大利、英國、法國、美國和俄羅斯等國對軟X射線多層膜開展了廣fan研究,軟X射線的光譜區(qū)為1~30nm,據(jù)報(bào)道,不同波長的各種軟X射線多層膜都取得了可喜的成績。 采用離子束濺射和磁控濺射等鍍膜技術(shù)制備的軟X射線多層膜,在X光激光器、X射線望遠(yuǎn)鏡等高技術(shù)方面得到應(yīng)用;近年來,X射線天文學(xué)、軟X射線顯微術(shù)、軟X射線投影光刻以及軟X射線激光均取得了很好的發(fā)展,其中軟X射線多層膜起著關(guān)鍵作用。意大利和荷蘭聯(lián)合研制并成功發(fā)射了探測X射線的衛(wèi)星以及發(fā)射了“多面鏡X射線觀測衛(wèi)星”,均使用了軟X射線多層膜;美國已多次發(fā)射帶有正入射的X射線多層膜系統(tǒng)的衛(wèi)星,得到了4.4~...
【光學(xué)鍍膜之反射膜】反射膜一般可分為兩類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜,功能是增加光學(xué)表面的反射率。 一般金屬都具有較大的消光系數(shù)。當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí),進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減,使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少,而反射光能增加。消光系數(shù)越大,光振幅衰減越迅速,進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大,光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁,在可見光區(qū)常用鋁和銀,在紅外區(qū)常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質(zhì)膜...
【光學(xué)鍍膜之鍍腱反射膜技術(shù)】有機(jī)鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫,而有機(jī)鏡片在超過100°C時(shí)便會(huì)發(fā)黃,隨后很快分解。 可以用于玻璃鏡片的減反射膜材料通常采用氟化鎂(MgF2),但由于氟化鎂的鍍膜工藝必須在高于200°C的環(huán)境下進(jìn)行,否則不能附著于鏡片的表面,所以有機(jī)鏡片并不采用它。 20世紀(jì)90年代以后,隨著真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展,利用離子束轟擊技術(shù),使得膜層與鏡片的結(jié)合,膜層間的結(jié)合得到了改良。而且提煉出的象氧化鈦,氧化鋯等高純度金屬氧化物材料可以通過蒸發(fā)工藝鍍于樹脂鏡片的表面,達(dá)到良好的減反射效果。 ling先的真空鍍膜設(shè)備及工藝解決方案供應(yīng)商-??翟垂鈱W(xué)...
【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之軟X射線多層膜】意大利、英國、法國、美國和俄羅斯等國對軟X射線多層膜開展了廣fan研究,軟X射線的光譜區(qū)為1~30nm,據(jù)報(bào)道,不同波長的各種軟X射線多層膜都取得了可喜的成績。 采用離子束濺射和磁控濺射等鍍膜技術(shù)制備的軟X射線多層膜,在X光激光器、X射線望遠(yuǎn)鏡等高技術(shù)方面得到應(yīng)用;近年來,X射線天文學(xué)、軟X射線顯微術(shù)、軟X射線投影光刻以及軟X射線激光均取得了很好的發(fā)展,其中軟X射線多層膜起著關(guān)鍵作用。意大利和荷蘭聯(lián)合研制并成功發(fā)射了探測X射線的衛(wèi)星以及發(fā)射了“多面鏡X射線觀測衛(wèi)星”,均使用了軟X射線多層膜;美國已多次發(fā)射帶有正入射的X射線多層膜系統(tǒng)的衛(wèi)星,得到了4.4~...
【光學(xué)薄膜新進(jìn)展之太陽能選擇性吸收膜和高功率激光膜】 太陽能選擇性吸收膜:根據(jù)黑體輻射通用曲線可以求得太陽約有98%的輻射能分布在0.17~2.5Lm的光譜范圍,其中有90%的輻射能位于0.4~2.0Lm的可見光、近紅外范圍。隨著人們對太陽能的充分利用,用于太陽能光熱轉(zhuǎn)換的太陽能選擇性吸收膜具有很大的研究價(jià)值和廣fan的應(yīng)用前景,引起科研人員的極大興趣。 高功率激光膜:準(zhǔn)分子激光正在廣fan應(yīng)用于分析化學(xué)、光譜學(xué)、半導(dǎo)體工藝、激光泵浦、激光聚變、光化學(xué)、醫(yī)學(xué)和空間技術(shù)等領(lǐng)域。紫外反射鏡是準(zhǔn)分子激光器的重要光學(xué)元件,但所選用的膜料比可見光區(qū)和近紅外區(qū)膜料非常有限,制備工藝特別復(fù)雜。而金屬反射鏡...
【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實(shí)際應(yīng)用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測量得出只有85%了,那就可以把這個(gè)濾光片的光學(xué)透過率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡單說就是*高透過率的1/2處所對應(yīng)的波長,左右波長值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對應(yīng)的左右波長是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區(qū)所對應(yīng)的透過率.由于要想透過率達(dá)到零,那是非常...
【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā),然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā),又是在真空中進(jìn)行,故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個(gè)步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動(dòng)一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測方法有哪些呢, 大致上可分為原位量測、離位量測兩類:原位星測系指鍍膜進(jìn)行中量測,普遍使用在物理qi相沉積,如微天平、光學(xué)、電阻量測。 離位量測系指鍍膜完成后量測,對電鍍膜的行使較為普遍,具有了解電鍍效率的目的,如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。 光學(xué)鍍膜機(jī)抽真空步驟。上海光學(xué)鍍膜機(jī) 采購【光...
【光學(xué)鍍膜機(jī)基本原理】光的干涉在薄膜光學(xué)中廣fan應(yīng)用:光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在材料基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩se分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強(qiáng)度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。PVD光學(xué)鍍膜...
【光學(xué)鍍膜為什么需要鍍減反射膜之炫光】像所有光學(xué)系統(tǒng)一樣,眼睛并不完美,在視網(wǎng)膜上所成的像不是一個(gè)點(diǎn),而是一個(gè)模糊圈。因此,二個(gè)相鄰點(diǎn)的感覺是由二個(gè)并列的或多或少重疊的模糊圈產(chǎn)生的。只要二點(diǎn)之間的距離足夠大,在視網(wǎng)膜上的成像就會(huì)產(chǎn)生二點(diǎn)的感覺,但是如果二點(diǎn)太接近,那么二個(gè)模糊圈會(huì)趨向與重合,被誤認(rèn)為是一個(gè)點(diǎn)。 讓我們來模擬這樣一個(gè)場景產(chǎn):夜晚,一位戴眼鏡的駕車者清晰地看見對面遠(yuǎn)處有二輛自行車正沖著他的車騎過來。此時(shí),尾隨其后的汽車的前燈在駕車者鏡片后表面上產(chǎn)生反射:該反射光在視網(wǎng)膜上形成的像增加了二個(gè)被觀察點(diǎn)的強(qiáng)度(自行車車燈)。所以,a段和b段的長度增加,即然分母(a+b)增加,而分子(a-...
【新型光學(xué)薄膜的典型應(yīng)用】現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)特別是激光技術(shù)和信息光學(xué)的發(fā)展,光學(xué)薄膜不jin用于純光學(xué)器件,在光電器件、光通信器件上也得到廣fan的應(yīng)用。近代信息光學(xué)、光電子技術(shù)及光子技術(shù)的發(fā)展,對光學(xué)薄膜產(chǎn)品的長壽命、高可靠性及高qiang度的要求越來越高,從而發(fā)展了一系列新型光學(xué)薄膜及其制備技術(shù),并為解決光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)化面臨的問題提供了quan面的解決方案。包括高qiang度激光器、金剛石及類金剛石膜、軟X射線多層膜、太陽能選擇性吸收膜和光通信用光學(xué)膜等。光學(xué)鍍膜機(jī)機(jī)組是怎樣的?安徽光學(xué)鍍膜機(jī)有哪幾種【光學(xué)濾光之按光譜波段區(qū)分片】光學(xué)濾光片,簡單來說就是用來選擇性過濾所需要輻射波段的光學(xué)器件。基片...
【光學(xué)鍍膜機(jī)電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時(shí),由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線,即產(chǎn)生打火。另外,若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物,會(huì)使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設(shè)備的高壓電源都附有高壓自動(dòng)滅弧復(fù)位裝置,在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會(huì)自動(dòng)切斷高壓,然后又自動(dòng)恢復(fù),切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短,愈不會(huì)影響蒸鍍工藝。 高壓引線應(yīng)盡量短,并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住,不要追求美觀把引線彎來彎去。 qiang頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光,然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔,以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。 所有陶瓷...
【光學(xué)鍍膜機(jī)的清洗】設(shè)備使用一個(gè)星期后,因鍍料除鍍在工件表面外,亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料,并越鍍越厚,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí),應(yīng)對工作室及襯板進(jìn)行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈,襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里,氫氟酸和水的比例看需要浸泡時(shí)間長短以及不傷襯板為原則。 注:襯板必須烘干水份才能安裝,烘干前,襯板的水分盡量抹干,工作架等部件用砂紙清潔后,需要把真空室的所有灰塵清理干凈,此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時(shí),真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。 因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜,可能會(huì)造成清潔困難,可使用...
【光學(xué)鍍膜機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)之電子qiang安裝與維護(hù)】電子qiang蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅(qū)動(dòng)電源、蒸發(fā)源等組成一個(gè)電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內(nèi)含有高壓,在工作前必須保證柜門各個(gè)聯(lián)鎖裝置正常工作,非專業(yè)人員不得打開電柜門,電子qiang在工作時(shí)不得打開電柜門,整個(gè)電柜必須有良好的接地并與機(jī)臺(tái)接地連接。 電子qiang蒸發(fā)源安裝在真空室底板上,必須與底板有良好的接地效果,安裝蒸發(fā)源必須使用不銹鋼螺絲來固定,周邊200mm以內(nèi)不得有導(dǎo)磁的物體,否則會(huì)影響到電子qiang的光斑成表,造成電子性能的不良。電子qiang檔板應(yīng)盡量裝在蒸...
【光學(xué)薄膜制備技術(shù)之物理qi相學(xué)沉積(PVD)】 物理qi相沉積法,簡單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽,蒸汽再凝結(jié)到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同,又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。 1) 熱蒸發(fā):光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造,此方法簡單、經(jīng)濟(jì)、操作方便。 2) 濺射:指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面,通過動(dòng)量傳遞,使其分子或原子獲得足夠的動(dòng)能而從靶表面逸出(濺射),在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強(qiáng),純度高,可同時(shí)濺射多種不同成分的合金膜或化合物。 3) 離子鍍:兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果,離子...
【光學(xué)鍍膜在航天上的應(yīng)用】在科學(xué)衛(wèi)星表面上鍍鋁和氧化硅膜,衛(wèi)星的溫度可控制在10~40℃范圍。空間飛行器的主要能源是硅太陽能電池,通常在太陽能電池的熔石英蓋片上淀積熱性能控制濾光片。該濾光片只允許透過可轉(zhuǎn)變成電能的太陽可見光和近紅外區(qū)的輻射,反射有害的紅外區(qū)熱量。 新一代氣象衛(wèi)星對紅外帶通濾光片的光譜控制提出了很高的要求,對濾光片片的指標(biāo)要求并非簡單的數(shù)值指標(biāo),而是一個(gè)由內(nèi)框和外框組成的框圖,氣象衛(wèi)星的光學(xué)遙感儀器通常利用多個(gè)紅外光譜通道進(jìn)行探測,3.5~4.0ptm是*為常用的光譜通道之一。為了提高儀器的光譜信噪比,提升對目標(biāo)的探測與識(shí)別能力,濾光片的光譜控制水平是一關(guān)鍵因素。對帶通膜系...
【光學(xué)真空鍍膜機(jī)之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統(tǒng)的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動(dòng)能轉(zhuǎn)為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉(zhuǎn)換效率,同時(shí)也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數(shù)目也可精密調(diào)控其蒸發(fā)速率。電子束的來源主要由電子qiang系統(tǒng)提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動(dòng)能達(dá)到30kev 以上。當(dāng)陰極燈絲被施以低壓電流而達(dá)到白熱化時(shí),電子將從燈絲表面釋出而向四方發(fā)射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。 一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場...
【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法(簡稱真空蒸鍍法,Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下,利用高溫加熱蒸鍍材料(金屬合金或金屬氧化物)到一定溫度條件下, 使其原子或分子從表面汽化逸出,形成蒸汽流,并飛行濺射到玻璃基板表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生,所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關(guān)鍵部件,大多數(shù)蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應(yīng)法和激光蒸發(fā)法等。目前,采用真空蒸鍍法生產(chǎn)鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產(chǎn)。 光學(xué)鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域...
【光學(xué)鍍膜在jun事上的運(yùn)用】在jun事上,寬帶增透膜和寬帶高反射膜廣fan用于jun用光學(xué)儀器。用具有一定工作波長的濾光片和其它部件組成的紅外探測器和紅外器件,可探測發(fā)出大量熱能的導(dǎo)彈和飛機(jī)等jun事目標(biāo)的行蹤。這些器件也用于紅外制導(dǎo)導(dǎo)彈,熱成像儀光學(xué)器件上鍍制的硬碳膜和金剛石膜,耐風(fēng)沙和雨水。坦克用激光測距儀的鏡頭,需鍍增透膜和防霜導(dǎo)電金屬膜。透明的導(dǎo)電薄膜用于戰(zhàn)斗機(jī)上防雷達(dá)。 光學(xué)鍍膜可應(yīng)用于jun用光學(xué)系統(tǒng),鍍膜技術(shù)可通過特殊的鍍膜保護(hù)傳感器在風(fēng)沙雨雪等惡劣的環(huán)境下不受外界影響或沒有明顯的損耗。具有優(yōu)良的多光譜和低能見度探測、在700℃工作溫度下耐氧化、速度大于4馬赫時(shí)仍能工作、抗電...
【濺射鍍膜的特點(diǎn)】濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺鍍具有電鍍層與基材的結(jié)合力強(qiáng),電鍍層致密,均勻等優(yōu)點(diǎn)。濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜,靶材的壽命長,可長時(shí)間自動(dòng)化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀,配合機(jī)臺(tái)的特殊設(shè)計(jì)做更好的控制及*有效率的生產(chǎn) 濺鍍利用高壓電場做發(fā)生等離子鍍膜物質(zhì),使用幾乎所有高熔點(diǎn)金屬,合金和金屬氧化物,如:鉻,鉬,鎢,鈦,銀,金等.但加工成本相對較高。光學(xué)鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)?天津磁控 光學(xué)鍍膜機(jī)【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于...
【光學(xué)鍍膜機(jī)的清洗】設(shè)備使用一個(gè)星期后,因鍍料除鍍在工件表面外,亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料,并越鍍越厚,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí),應(yīng)對工作室及襯板進(jìn)行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈,襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里,氫氟酸和水的比例看需要浸泡時(shí)間長短以及不傷襯板為原則。 注:襯板必須烘干水份才能安裝,烘干前,襯板的水分盡量抹干,工作架等部件用砂紙清潔后,需要把真空室的所有灰塵清理干凈,此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時(shí),真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。 因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜,可能會(huì)造成清潔困難,可使用...
【光學(xué)鍍膜之良好的薄膜需要具備哪些特性】 通俗的定義為在正常狀況下,其應(yīng)用功能不會(huì)失效。想要達(dá)到這個(gè)目的,一般而言這層薄膜必須具有堅(jiān)牢的附著力、很低的內(nèi)應(yīng)力、針kong密度很少、夠強(qiáng)的機(jī)械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學(xué)侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成膜條件、接口層的形成和基材的影響,隨后的熱處理亦扮演重要角色。 沉積的薄膜有內(nèi)應(yīng)力的存在,其來源為: (1)薄膜和基材之間的晶格失配 (2)薄膜和基材之間的熱膨脹系數(shù)差異 (3)晶界之間的互擠 光學(xué)鍍膜機(jī)的主要應(yīng)用。山西sit2050光學(xué)鍍膜機(jī)【光學(xué)薄膜制備技術(shù)之物理qi相學(xué)沉積(PVD)】 物理qi相沉積法,簡單地說是在真空...
【光學(xué)鍍膜工藝】 光學(xué)鍍膜所涉及的制造工藝是勞動(dòng)和資本密集型的,并且十分耗時(shí)。影響鍍膜成本的因素包括被鍍膜的光學(xué)件的數(shù)量,類型,尺寸,需要鍍多少層膜以及光學(xué)件上需要鍍膜的表面數(shù)量。鍍膜采用的沉積工藝對鍍膜成本以及鍍膜性能方面的影響也十分巨大。此外,在這之前還需要做大量的準(zhǔn)備工作,以確保每個(gè)鍍膜光學(xué)件的質(zhì)量都能達(dá)到Z高水平。 在鍍膜之前,清潔和準(zhǔn)備光學(xué)件是非常重要的。光學(xué)元件必須具有適合鍍膜粘附的清潔表面。一旦鍍上膜,基片上未預(yù)先除去的污漬就很難被去除了。愛特蒙特光學(xué)?會(huì)進(jìn)行一絲不茍的清潔,從而確保Z終產(chǎn)品擁有始終如一的高質(zhì)量。 不同的鍍膜沉積技術(shù),具有各自的優(yōu)缺點(diǎn)。蒂姆(北京)新材...