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本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法，請(qǐng)參閱圖5，圖5為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法的流程示意圖，該方法包括：步驟110、將多級(jí)腔室順序排列，按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級(jí)向剝離基板提供剝離液；步驟120、將來自于當(dāng)前級(jí)腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中，所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑；步驟130、使用當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級(jí)腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級(jí)腔室；步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)；步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個(gè)并列排布的子...

隨著電子元器件制作要求的提高，相關(guān)行業(yè)應(yīng)用對(duì)濕電子化學(xué)品純度的要求也 不斷提高。為了適應(yīng)電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術(shù)水平不斷提高的趨勢，并規(guī)范世 界超凈高純?cè)噭┑臉?biāo)準(zhǔn)，國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織（SEMI）將濕電子化學(xué)品按金 屬雜質(zhì)、控制粒徑、顆粒個(gè)數(shù)和應(yīng)用范圍等指標(biāo)制定國際等級(jí)分類標(biāo)準(zhǔn)。濕電子化 學(xué)品在各應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)有所不同，光伏太陽能電池領(lǐng)域一般只需要 G1 級(jí)水平；平板顯示和 LED 領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的等級(jí)要求為 G2、G3 水平；半導(dǎo)體領(lǐng)域中， 集成電路用濕電子化學(xué)品的純度要求較高，基本集中在 G3、G4 水平，分立器件對(duì) 濕電子化學(xué)品純度的要求低于集成電路，基本集中在 G2 級(jí)水...

每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通，所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道301上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的，閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上，在此不做贅述。在一些實(shí)施例中，請(qǐng)參閱圖4，圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503，每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301，且每一所述第三子管道503與所述下一級(jí)腔室...

如遇水，圖案則隨著背膠的脫落而脫落。這種印刷方法是通過滾筒式膠質(zhì)印模把沾在膠面上的油墨轉(zhuǎn)印到紙面上。由于膠面是平的，沒有凹下的花紋，所以印出的紙面上的圖案和花紋也是平的，沒有立體感，防偽性較差。膠版印刷所需的油墨較少，模具的制造成本也比凹版低。目前我國汽車尾氣直接排入空氣中，并未進(jìn)行回收處理，對(duì)空氣造成了巨大污染，同時(shí)會(huì)對(duì)人體造成傷害。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路本**技術(shù)的目的就在于為了解決上述問題而提供一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置。本**技術(shù)通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的：一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu)，...

在生產(chǎn)方面，剝離液的純度對(duì)于應(yīng)用領(lǐng)域有所限制，高純度剝離液生產(chǎn)工藝復(fù)雜，且對(duì)于生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)環(huán)境控制均有較高的要求，整體技術(shù)門檻較高。在資金方面，為取得競爭優(yōu)勢，剝離液生產(chǎn)企業(yè)需要在研發(fā)、技術(shù)、設(shè)備方面投入大量資金，因此為實(shí)現(xiàn)剝離液產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)所需的資金門檻相對(duì)較高。新思界產(chǎn)業(yè)分析人士表示，剝離液作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵性濕電子化學(xué)品，在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展背景下，剝離液市場需求攀升。就總體來看，剝離液雖然是一種關(guān)鍵化工原料，但由于需求量較少，因此市場規(guī)模偏小，生產(chǎn)企業(yè)由大型濕電子化學(xué)品主導(dǎo)，新進(jìn)入企業(yè)難以尋求發(fā)展機(jī)遇。剝離液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好？安徽天馬用的蝕刻液剝離液銷售廠 所述膠面剝離結(jié)構(gòu)...

所述膠面剝離結(jié)構(gòu)8上方安裝有收卷調(diào)速器801，所述收卷調(diào)速器801一側(cè)安裝有收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)802，所述收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)802一側(cè)安裝有輥固定架803，所述輥固定架803一側(cè)安裝有膠水盛放箱804，所述膠水盛放箱804下方安裝有點(diǎn)膠頭805，所述點(diǎn)膠頭805下方安裝有卷邊輥806，所述卷邊輥806一側(cè)安裝有膠面收卷輥807，所述膠面剝離結(jié)構(gòu)8一側(cè)安裝有電加熱箱9，所述電加熱箱9下方安裝有熱風(fēng)噴頭10，所述熱風(fēng)噴頭10下方安裝有干燥度感應(yīng)器11,所述干燥度感應(yīng)器11下方安裝有電氣控制箱12，所述電氣控制箱12上方安裝有液晶操作面板13。本實(shí)施例中，所述主支撐架1與所述橫向支架2通過螺栓連接，所述...

本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域：，更具體的說是涉及一種光刻膠剝離液再生方法。背景技術(shù)：：電子行業(yè)飛速發(fā)展，光刻膠應(yīng)用也越來越***。在半導(dǎo)體元器件制造過程中，經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程，在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后，必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材，才能再進(jìn)行下道工序。因此，光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。而隨著電子行業(yè)的發(fā)展以及高世代面板的面世，光刻膠剝離液的使用越來越多。剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質(zhì)，而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收，其大量的使用但不能夠有效地回收，對(duì)環(huán)境、資源等都造成了比較大的影響。有鑒于此，申請(qǐng)人研發(fā)出以下的對(duì)使用...

剝離液是一種通用濕電子化學(xué)品，主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì)，同時(shí)防止對(duì)襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關(guān)鍵性電子化工材料，下游應(yīng)用領(lǐng)域***，但整體應(yīng)用需求較低，因此市場規(guī)模偏小。 剝離液應(yīng)用在太陽能電池中，對(duì)于剝離液的潔凈度要求較低，*需達(dá)到G1等級(jí)，下游客戶主要要天合、韓華、通威等；應(yīng)用到面板中，通常要達(dá)到G2、G3等級(jí)，且高世代線對(duì)于剝離液的要求要高于低世代線，下游客戶有京東方、中星光電；在半導(dǎo)體中的應(yīng)用可分等級(jí)，在8英寸及以下的晶圓制造中，對(duì)于剝離液的要求達(dá)到G3、G4水平，大硅片、12英寸晶元等...

在生產(chǎn)方面，剝離液的純度對(duì)于應(yīng)用領(lǐng)域有所限制，高純度剝離液生產(chǎn)工藝復(fù)雜，且對(duì)于生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)環(huán)境控制均有較高的要求，整體技術(shù)門檻較高。在資金方面，為取得競爭優(yōu)勢，剝離液生產(chǎn)企業(yè)需要在研發(fā)、技術(shù)、設(shè)備方面投入大量資金，因此為實(shí)現(xiàn)剝離液產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)所需的資金門檻相對(duì)較高。新思界產(chǎn)業(yè)分析人士表示，剝離液作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵性濕電子化學(xué)品，在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展背景下，剝離液市場需求攀升。就總體來看，剝離液雖然是一種關(guān)鍵化工原料，但由于需求量較少，因此市場規(guī)模偏小，生產(chǎn)企業(yè)由大型濕電子化學(xué)品主導(dǎo)，新進(jìn)入企業(yè)難以尋求發(fā)展機(jī)遇。剝離液應(yīng)用于什么樣的場合？銅陵什么剝離液私人定做 本發(fā)明采用一種選擇性剝離制...

所述卷邊輥與所述膠面收卷輥通過皮帶連接，所述收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)與所述膠面收卷輥通過導(dǎo)線連接。進(jìn)一步的，所述電加熱箱與所述干燥度感應(yīng)器通過導(dǎo)線連接，所述電氣控制箱與所述液晶操作面板通過導(dǎo)線連接。進(jìn)一步的，所述主支撐架由合金鋼壓制而成，厚度為5mm。進(jìn)一步的，所述干燥度感應(yīng)器與所述電氣控制箱通過導(dǎo)線連接。進(jìn)一步的，所述防濺射擋板共有兩塊，傾斜角度為45°。進(jìn)一步的，所述電氣控制箱與所述表面印刷結(jié)構(gòu)通過導(dǎo)線連接，所述電氣控制箱與所述膠面剝離結(jié)構(gòu)通過導(dǎo)線連接。本**技術(shù)的有益效果在于：采用黏合方式對(duì)印刷品膠面印刷進(jìn)行剝離，同時(shí)能夠?qū)τ∷⑵纺z面進(jìn)行回收，節(jié)約了大量材料，降低了生產(chǎn)成本。附圖說明圖1是本...

所述印刷品傳送帶(5)一側(cè)安裝有所述印刷品放置箱(6)，所述印刷品放置箱(6)一側(cè)安裝有所述表面印刷結(jié)構(gòu)(7)，所述表面印刷結(jié)構(gòu)(7)上方設(shè)置有油墨放置箱(701),所述油墨放置箱(701)下方安裝有油墨加壓器(702)，所述油墨加壓器(702)下方安裝有高壓噴頭(703)，所述高壓噴頭(703)一側(cè)安裝有防濺射擋板(704)，所述防濺射擋板(704)下方安裝有印刷輥(705),所述表面印刷結(jié)構(gòu)(7)一側(cè)安裝有所述膠面剝離結(jié)構(gòu)(8)，所述膠面剝離結(jié)構(gòu)(8)上方安裝有收卷調(diào)速器(801)，所述收卷調(diào)速器(801)一側(cè)安裝有收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)(802)，所述收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)(802)一側(cè)安裝有輥固定...

每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通，所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道301上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的，閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上，在此不做贅述。在一些實(shí)施例中，請(qǐng)參閱圖4，圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503，每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301，且每一所述第三子管道503與所述下一級(jí)腔室...

根據(jù)對(duì)華新光電、日東集團(tuán)的剝離液成分進(jìn)行分析得知，剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA)，二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG)，其中市場上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大，由以下幾種組分構(gòu)成：（1）、1～20%重量的醇胺或者酰胺，以伯胺和腫胺為主。（2）、10～60%重量的醇；（3）、10～50%重量的水；（4）、5～50%重量的極性有機(jī)溶劑，如；N-甲基吡咯烷酮（NMP），環(huán)丁基砜、二甲基亞砜（DMSO）、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。（5）、0.001～3%重量的金屬抗蝕劑，如2-氨基環(huán)己醇、2-氨基環(huán)戊醇等。根據(jù)上述分析可以看出，剝離液中大部分是有機(jī)溶劑，...

701、油墨放置箱；702、油墨加壓器；703、高壓噴頭；704、防濺射擋板；705、印刷輥；8、膠面剝離結(jié)構(gòu)；801、收卷調(diào)速器；802、收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)；803、輥固定架；804、膠水盛放箱；805、點(diǎn)膠頭；806、卷邊輥；807、膠面收卷輥；9、電加熱箱；10、熱風(fēng)噴頭；11、干燥度感應(yīng)器；12、電氣控制箱；13、液晶操作面板。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖對(duì)本**技術(shù)作進(jìn)一步說明：如圖1-圖4所示，一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架1、橫向支架2、伺服變頻電機(jī)3、電機(jī)減速箱4、印刷品放置箱6、表面印刷結(jié)構(gòu)7、膠面剝離結(jié)構(gòu)8，所述主支撐架1上方設(shè)置有所述橫向支架2，所述橫向支架2...

含有的胺化合物的質(zhì)量分為：1％-2％。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的添加劑中含有醇醚化合物的質(zhì)量分為：30％-50％；含有胺化合物的質(zhì)量分為：35％-55％；含有緩蝕劑的質(zhì)量分為：6％-12％；含有潤濕劑的質(zhì)量分為：1％-7％。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的步驟s1中剝離液廢液所含的酰胺化合物以及步驟s2中添加劑所含的酰胺化合物均為n-甲基甲酰胺(nmf)、n-甲基乙酰胺、n，n-二甲基甲酰胺中的一種或者多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的步驟s1中剝離液廢液所含的醇醚化合物以及步驟s2中添加劑所含的醇醚化合物均為二乙二醇丁醚(bdg)、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的一種或多種。進(jìn)一步技術(shù)方案...

技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法，可用于微納制造，光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)，生物領(lǐng)域，mems領(lǐng)域，nems領(lǐng)域。技術(shù)背景：微納制造技術(shù)是衡量一個(gè)國家制造水平的重要標(biāo)志，對(duì)提高人們的生活水平，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展與經(jīng)濟(jì)增長，保障**安全等方法發(fā)揮著重要作用，微納制造技術(shù)是微傳感器、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ)。基于半導(dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù)是**常用的手段之一。對(duì)于納米孔的加工，常用的手段是先利用曝光負(fù)性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結(jié)構(gòu)，再通過金屬的沉積和溶膠實(shí)現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)從而得到所需要的納米孔。然而傳統(tǒng)的方法由于光刻過程中的散焦及臨近效應(yīng)等會(huì)造成曝光...

本發(fā)明采用一種選擇性剝離制備微納結(jié)構(gòu)的新方法，可制備出任意負(fù)性光刻膠所能制備的任意圖形且加工效率比傳統(tǒng)的加工方法提高了上萬倍(以直徑為105nm的結(jié)構(gòu)為例),特別是為跨尺度結(jié)構(gòu)的加工，為光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)領(lǐng)域，聲學(xué)領(lǐng)域，生物領(lǐng)域，mem制造，nems制造，集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的解決方案。本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法，包括以下步驟：步驟一、提供襯底，并清洗；步驟二、對(duì)襯底進(jìn)行修飾降低光刻膠與襯底的粘附力；步驟三、襯底上旋涂光刻膠得到薄膜；步驟四、在光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓；所述所需結(jié)構(gòu)包括若干**單元，**單元外周形成有閉合的縫隙；步驟五、在光刻膠上...

本發(fā)明采用一種選擇性剝離制備微納結(jié)構(gòu)的新方法，可制備出任意負(fù)性光刻膠所能制備的任意圖形且加工效率比傳統(tǒng)的加工方法提高了上萬倍(以直徑為105nm的結(jié)構(gòu)為例),特別是為跨尺度結(jié)構(gòu)的加工，為光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)領(lǐng)域，聲學(xué)領(lǐng)域，生物領(lǐng)域，mem制造，nems制造，集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的解決方案。本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法，包括以下步驟：步驟一、提供襯底，并清洗；步驟二、對(duì)襯底進(jìn)行修飾降低光刻膠與襯底的粘附力；步驟三、襯底上旋涂光刻膠得到薄膜；步驟四、在光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓；所述所需結(jié)構(gòu)包括若干**單元，**單元外周形成有閉合的縫隙；步驟五、在光刻膠上...

按照組成成分和應(yīng)用工藝不同，濕電子化學(xué)品可分為通用性和功能性濕電子化 學(xué)品。通用濕電子化學(xué)品以超凈高純?cè)噭橹鳎话銥閱谓M份、單功能、被大量使 用的液體化學(xué)品，按照性質(zhì)劃分可分為：酸類、堿類、有機(jī)溶劑類和其他類。酸類 包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等；堿類包括氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀等；有機(jī)溶劑類包括甲醇、乙醇、異丙醇、**、乙酸乙酯等；其他類包括雙氧水等。功能濕電子化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的復(fù)配 類化學(xué)品，即在單一的超凈高純?cè)噭ɑ蚨喾N超凈高純?cè)噭┑呐浜希┗A(chǔ)上，加入 水、有機(jī)溶劑、螯合劑、表面活性劑混合而成的化學(xué)品。例如剝離液、顯影液、蝕 刻液、清洗液等...

具體實(shí)施方式現(xiàn)有技術(shù)中剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質(zhì)，而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收，其大量的使用但不能夠有效地回收，或者回收后需要通過大量的時(shí)間分析其含量以及花大量時(shí)間進(jìn)行再生處理，影響了剝離液廢液的利用率。本發(fā)明對(duì)于已知的剝離液的含量以及比例有預(yù)先的了解，通過預(yù)先制定添加劑的方法，將添加劑以及某些原材料加入后重新制備剝離液新液。本發(fā)明中對(duì)于回收的剝離液廢液的進(jìn)一步處理加工，是采用現(xiàn)有技術(shù)中加壓、蒸餾等方式，可以是采用階段性變壓精餾塔進(jìn)行加壓、蒸餾處理。表1：已知的剝離液新液的組分：表二：添加劑的組分組分比例：純化液體的組分表四：制備剝離液新液在對(duì)純化液...

腔室10及過濾器30可以采用與現(xiàn)有技術(shù)相同的設(shè)計(jì)。處于剝離制程中的玻璃基板，按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級(jí)由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20，在剝離液的水平面超過預(yù)設(shè)高度后流入過濾器30，再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級(jí)腔室102內(nèi)。其中，薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中，如圖2所示，圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關(guān)60設(shè)置在***管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時(shí)，關(guān)閉位于過濾器30兩側(cè)的***管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60，可以...

所述過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器，所述***管道包括多個(gè)***子管道，每一所述***子管道與一子過濾器連通，且所述多個(gè)***子管道與當(dāng)前級(jí)腔室對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱連通。在一些實(shí)施例中，所述第二管道包括公共子管道及多個(gè)第二子管道，每一所述第二子管道與一子過濾器連通，每一所述第二子管道與所述公共子管道連通，所述公共子管道與所述下一級(jí)腔室連通。在一些實(shí)施例中，所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述***子管道上。在一些實(shí)施例中，所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述第二子管道上。在一些實(shí)施例中，所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述***子管道及每一所述第二子管道上。在一些實(shí)施例中，所述第二管道包括多個(gè)第三子管道，每一所述第三子管...

所述抽真空氣體修飾法包括如下步驟：將將襯底和光刻膠抗粘劑置于密閉空間中，對(duì)密閉空間抽真空至光刻膠抗粘層氣化，保持1分鐘以上，直接取出襯底。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述襯底為硅、氧化硅、石英、玻璃、氮化硅、碳化硅、鈮酸鋰、金剛石、藍(lán)寶石或ito制成。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述步驟(2)對(duì)襯底修飾的試劑包括hmds和十三氟正辛基硅烷；對(duì)襯底修飾的試劑鍍?cè)谝r底表面。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述所述光刻膠包括pmma,zep，瑞紅膠，az膠，納米壓印膠和光固化膠。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述光刻膠厚度為1nm-100mm進(jìn)一步的改進(jìn)，所述光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓的方法為電子束曝光，離子束曝光，聚焦離子束曝光，重離子曝光，x射線...

剝離液是一種通用濕電子化學(xué)品，主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì)，同時(shí)防止對(duì)襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關(guān)鍵性電子化工材料，下游應(yīng)用領(lǐng)域***，但整體應(yīng)用需求較低，因此市場規(guī)模偏小。 剝離液應(yīng)用在太陽能電池中，對(duì)于剝離液的潔凈度要求較低，*需達(dá)到G1等級(jí)，下游客戶主要要天合、韓華、通威等；應(yīng)用到面板中，通常要達(dá)到G2、G3等級(jí)，且高世代線對(duì)于剝離液的要求要高于低世代線，下游客戶有京東方、中星光電；在半導(dǎo)體中的應(yīng)用可分等級(jí)，在8英寸及以下的晶圓制造中，對(duì)于剝離液的要求達(dá)到G3、G4水平，大硅片、12英寸晶元等...

本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法，請(qǐng)參閱圖5，圖5為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法的流程示意圖，該方法包括：步驟110、將多級(jí)腔室順序排列，按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級(jí)向剝離基板提供剝離液；步驟120、將來自于當(dāng)前級(jí)腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中，所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑；步驟130、使用當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級(jí)腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級(jí)腔室；步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)；步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個(gè)并列排布的子...

剝離液是用來干嘛的？簡單了解了剝離液的朋友圈，接下來，我們就展開講講剝離液是做什么的吧。剝離液通常用在蝕刻工藝完成之后，用于去除光刻膠和殘留物質(zhì)，同時(shí)防止對(duì)下層的襯底層造成損壞?？梢哉f我們現(xiàn)在正在看的手機(jī)、電腦屏幕都用到剝離液。據(jù)調(diào)研報(bào)告顯示，在LCD面板制造所需的濕電子化學(xué)品中，剝離液占比31%；在OLED面板制造所需的濕電子化學(xué)品中，剝離液占比44%；剝離液是顯示面板制造中用量比較大的濕電子化學(xué)品之一。那么，剝離液是如何應(yīng)用在顯示面板中的呢？我們以“人體的新***”——手機(jī)為例?，F(xiàn)在**常見的手機(jī)屏幕主要是LCD屏和OLED屏。蘇州口碑好的剝離液公司。合肥中芯國際用剝離液銷售電話 1.顯...

常在印刷電路板，液晶顯示面板，半導(dǎo)體集成電路等工藝制造過程中，需要通過多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路，形成微電路之后，進(jìn)一步用剝離液將涂覆在微電路保護(hù)區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去。比如光電TFT-LCD生產(chǎn)工藝主要包含光阻涂布、顯影、去光阻、相關(guān)清洗作業(yè)四大階段，其中在去光阻階段會(huì)產(chǎn)生部分剝離液。印制電路板生產(chǎn)工藝相當(dāng)復(fù)雜。不僅設(shè)備和制造工藝的科技含量高，工藝流程長，用水量大，而且所用的化學(xué)藥品（包括各種添加劑）種類多、用量大。因此，在用減成法生產(chǎn)印刷線路板的過程中，產(chǎn)污環(huán)節(jié)多，種類繁雜，物料損耗大?？煞譃楦煞庸?設(shè)計(jì)和布線、模版制作、鉆孔、貼膜、曝光...

本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)：：印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中，伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而，以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題，而避免其使用。近年來，為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點(diǎn)，還報(bào)道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻(xiàn)1)，由于剝離時(shí)的抗蝕劑沒有微細(xì)地粉碎，因此存在近年的微細(xì)的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點(diǎn)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開2002-323776號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明要解決的問題因此，本發(fā)明的課題在于，提供容易除去微細(xì)的布...

701、油墨放置箱；702、油墨加壓器；703、高壓噴頭；704、防濺射擋板；705、印刷輥；8、膠面剝離結(jié)構(gòu)；801、收卷調(diào)速器；802、收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)；803、輥固定架；804、膠水盛放箱；805、點(diǎn)膠頭；806、卷邊輥；807、膠面收卷輥；9、電加熱箱；10、熱風(fēng)噴頭；11、干燥度感應(yīng)器；12、電氣控制箱；13、液晶操作面板。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖對(duì)本**技術(shù)作進(jìn)一步說明：如圖1-圖4所示，一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架1、橫向支架2、伺服變頻電機(jī)3、電機(jī)減速箱4、印刷品放置箱6、表面印刷結(jié)構(gòu)7、膠面剝離結(jié)構(gòu)8，所述主支撐架1上方設(shè)置有所述橫向支架2，所述橫向支架2...

光刻作為IC制造的關(guān)鍵一環(huán)常常被人重視，但是光刻膠***都是作為**層被去掉的，如何快速、干凈的去除工藝后的光刻膠是一個(gè)經(jīng)常被疏忽的問題，但是很重要，直接影響了產(chǎn)品質(zhì)量。如何快速有效的去除光刻膠。筆者**近就碰到一些去膠的問題，比如正膠和負(fù)膠去除需要的工藝有差別。去膠工藝還和光刻膠受過什么樣的工藝處理有關(guān)，比如ICPRIE之后的光刻膠、還有濕法腐蝕后的光刻膠。市面上針對(duì)光刻膠去除的特殊配方的去膠液有很多種，但需要根據(jù)自身產(chǎn)品特性加以選擇。在做砷化鎵去除光阻的案例，砷化鎵是一種化合物半導(dǎo)體材料，分子式GaAs。立方晶系閃鋅礦結(jié)構(gòu)，即由As和Ga兩種原子各自組成面心立方晶格套構(gòu)而成的復(fù)式晶格，其晶...