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它們通過不同的制備工藝,如蒸發(fā)磁控濺射、多弧離子鍍等,被加熱至高溫后原子從表面蒸發(fā)并沉積在襯底上,形成所需的薄膜。靶材的純度和制備工藝對其質(zhì)量有著至關(guān)重要的影響,高純度的靶材材料能夠保證制備出的薄膜成分純度更高,從而得到性能更穩(wěn)定、更可靠的器件。此外,靶材的應(yīng)...
ITO(Indium Tin Oxide,錫摻雜氧化銦)是一種應(yīng)用***的透明導(dǎo)電材料。其具有優(yōu)異的光學(xué)透過率和電導(dǎo)率,因此在液晶顯示器(LCD)、觸摸屏、光伏電池和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)等領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。作為靶材,ITO用于濺射鍍膜過程中,通過物**...
化學(xué)特性化學(xué)穩(wěn)定性:碳化硅在多數(shù)酸性和堿性環(huán)境中都顯示出極好的化學(xué)穩(wěn)定性,這一特性是制造過程中重要的考量因素,確保了長期運(yùn)行的可靠性和穩(wěn)定性。耐腐蝕性:碳化硅能夠抵抗多種化學(xué)物質(zhì)的腐蝕,包括酸、堿和鹽。這使得碳化硅靶材在化學(xué)蝕刻和清潔過程中,能夠保持其完整性和...
其常見的靶材及其應(yīng)用:如碲化銦(IndiumSelenide,InSe)靶材:碲化銦是一種半導(dǎo)體材料,具有優(yōu)異的光電性能和可調(diào)諧的能帶結(jié)構(gòu)。它被廣泛應(yīng)用于太陽能電池、光電二極管、光伏探測器、紅外光電探測器等器件的制備中。如碲化鎘(CadmiumSelenide...
此外密切關(guān)注靶材在濺射過程中的行為,如溫度變化、靶材消耗速率等,可以幫助進(jìn)一步提升薄膜的質(zhì)量和性能。五、存儲與保養(yǎng):1.存儲條件:-ITO靶材應(yīng)存放在干燥、清潔、溫度穩(wěn)定的環(huán)境中,以防止因濕度和溫度變化導(dǎo)致的物理結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分的變化。-應(yīng)避免靶材與腐蝕性氣體和...
四、應(yīng)用建議:1.觸摸屏和顯示器:-在制備觸摸屏和液晶顯示器(LCD)、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)等顯示設(shè)備的透明導(dǎo)電膜(TCF)時,建議使用高純度、粒度細(xì)小的ITO靶材以獲得良好的透明度和電導(dǎo)率。-控制濺射功率和基板溫度,可以優(yōu)化膜層的均勻性和附著力。2.光...
三、性能參數(shù):純度:高質(zhì)量的ITO靶材通常要求有99.99%(4N)至99.999%(5N)的高純度。純度越高,雜質(zhì)越少,靶材產(chǎn)生的薄膜缺陷也相應(yīng)減少。晶體結(jié)構(gòu):ITO靶材一般具有立方晶系的結(jié)構(gòu),晶格參數(shù)通常在10.118?左右。晶體結(jié)構(gòu)的完整性會直接影響到薄...
眾所周知,靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān),隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn),靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如Ic制造商.近段時間致力于低電阻率銅布線的開發(fā),預(yù)計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜,這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻...
純度:一般在99.99%,可做4N5。純度是影響材料電導(dǎo)性、磁性以及化學(xué)穩(wěn)定性的重要因素。晶體結(jié)構(gòu): 通常為面心立方晶格(FCC)。有利于提供良好的機(jī)械性能和高度的熱穩(wěn)定性。熱導(dǎo)率: 一般在90-100 W/mK左右。高熱導(dǎo)率有利于在濺射過程中的熱量快速分散,...
若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,如今,常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺...
金屬靶材應(yīng)用主要包括平板顯示器、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄媒體等領(lǐng)域。其中平板顯示器占,半導(dǎo)體占,太陽能電池占,記錄媒體占。半導(dǎo)體芯片用金屬濺射靶材的作用,就是給芯片上制作傳遞信息的金屬導(dǎo)線。具體的濺射過程:首先利用高速離子流,在高真空條件下分別去轟擊不...
(3)濺射鍍膜:在濺射鍍膜過程中,濺射靶材需要安裝在機(jī)臺中完成濺射反應(yīng),濺射機(jī)臺**性強(qiáng)、精密度高,市場長期被美國、日本跨國集團(tuán)壟斷。(4)終端應(yīng)用:1)半導(dǎo)體芯片:單元器件中的介質(zhì)層、導(dǎo)體層與保護(hù)層需要鉭、鎢、銅、鋁、鈦等金屬。2)平板顯示器件:為了保證大面...
電子行業(yè): 在半導(dǎo)體制造和集成電路制作中,利用鎳靶材的高純度和良好的電導(dǎo)性能,可以生產(chǎn)高質(zhì)量的導(dǎo)電層。建議在控制良好的環(huán)境下使用,以維持材料的純凈和穩(wěn)定。磁性材料應(yīng)用: 由于其獨(dú)特的鐵磁性質(zhì),鎳靶材適合用于磁性材料的制備,如硬盤驅(qū)動器和磁性存儲設(shè)備。使用時應(yīng)注...
5.真空封裝:-未使用的ITO靶材應(yīng)真空封裝儲存,避免空氣中的濕氣和氧化作用影響靶材品質(zhì)。6.清潔工具:-應(yīng)準(zhǔn)備**的無塵布、高純度溶劑和其他清潔工具,用于靶材的清潔和維護(hù)。7.磨損監(jiān)測工具:-定期使用厚度計等測量工具來監(jiān)測靶材磨損情況,以評估靶材的剩余壽命。...
4.性能參數(shù)a.純度鎢靶材的純度通常達(dá)到99.95%或更高。純度是影響靶材性能的關(guān)鍵因素,它決定了材料的均勻性和應(yīng)用性能,尤其在半導(dǎo)體制造和高精度科學(xué)實(shí)驗(yàn)中極為重要。b.晶體結(jié)構(gòu)鎢靶材的晶體結(jié)構(gòu)通常為體心立方(BCC)結(jié)構(gòu)。晶體尺寸可以通過制備過程中的溫度和壓...
金屬靶材應(yīng)用主要包括平板顯示器、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄媒體等領(lǐng)域。其中平板顯示器占,半導(dǎo)體占,太陽能電池占,記錄媒體占。半導(dǎo)體芯片用金屬濺射靶材的作用,就是給芯片上制作傳遞信息的金屬導(dǎo)線。具體的濺射過程:首先利用高速離子流,在高真空條件下分別去轟擊不...
四、應(yīng)用建議:1.觸摸屏和顯示器:-在制備觸摸屏和液晶顯示器(LCD)、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)等顯示設(shè)備的透明導(dǎo)電膜(TCF)時,建議使用高純度、粒度細(xì)小的ITO靶材以獲得良好的透明度和電導(dǎo)率。-控制濺射功率和基板溫度,可以優(yōu)化膜層的均勻性和附著力。2.光...
靶材的選擇和使用注意事項(xiàng)選擇靶材時的考慮因素:物理和化學(xué)屬性:包括靶材的熔點(diǎn)、導(dǎo)電性、化學(xué)穩(wěn)定性等。例如,高溫應(yīng)用通常需要選擇高熔點(diǎn)、化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)的陶瓷靶材。成本效益:在保證性能的前提下,考慮靶材的經(jīng)濟(jì)性是重要的。一些高性能材料可能成本較高,需要平衡性能和成本...
5.真空封裝:-未使用的ITO靶材應(yīng)真空封裝儲存,避免空氣中的濕氣和氧化作用影響靶材品質(zhì)。6.清潔工具:-應(yīng)準(zhǔn)備**的無塵布、高純度溶劑和其他清潔工具,用于靶材的清潔和維護(hù)。7.磨損監(jiān)測工具:-定期使用厚度計等測量工具來監(jiān)測靶材磨損情況,以評估靶材的剩余壽命。...
a.耐腐蝕性鎢靶材表現(xiàn)出良好的耐腐蝕性,尤其是對氧化和還原環(huán)境的抵抗能力。即便在高溫和極端環(huán)境下,它也能保持穩(wěn)定,不易受到化學(xué)品、酸、堿等的侵蝕。這一特性使得鎢靶材在化學(xué)腐蝕性環(huán)境中有著廣泛的應(yīng)用。b.高純度高純度是鎢靶材的另一***特點(diǎn)。在制備過程中,通過精...
適宜的存儲環(huán)境:應(yīng)將鎳靶材存放在干燥、陰涼、通風(fēng)良好的環(huán)境中。避免高濕度和極端溫度,因?yàn)檫@些條件可能導(dǎo)致材料氧化或其他化學(xué)變化。防止污染:存儲鎳靶材時,應(yīng)避免與其他化學(xué)品或污染源直接接觸,以防止表面污染或化學(xué)反應(yīng)。防塵措施:在存儲和搬運(yùn)過程中,需保持環(huán)境的潔凈...
它們通過不同的制備工藝,如蒸發(fā)磁控濺射、多弧離子鍍等,被加熱至高溫后原子從表面蒸發(fā)并沉積在襯底上,形成所需的薄膜。靶材的純度和制備工藝對其質(zhì)量有著至關(guān)重要的影響,高純度的靶材材料能夠保證制備出的薄膜成分純度更高,從而得到性能更穩(wěn)定、更可靠的器件。此外,靶材的應(yīng)...
適宜的存儲環(huán)境:應(yīng)將鎳靶材存放在干燥、陰涼、通風(fēng)良好的環(huán)境中。避免高濕度和極端溫度,因?yàn)檫@些條件可能導(dǎo)致材料氧化或其他化學(xué)變化。防止污染:存儲鎳靶材時,應(yīng)避免與其他化學(xué)品或污染源直接接觸,以防止表面污染或化學(xué)反應(yīng)。防塵措施:在存儲和搬運(yùn)過程中,需保持環(huán)境的潔凈...
具體到應(yīng)用領(lǐng)域來說,靶材的重要性不可忽視。以集成電路產(chǎn)業(yè)為例,半導(dǎo)體器件的表面沉積過程中需要使用濺射靶材。靶材的純度、穩(wěn)定性和可靠性直接關(guān)系到半導(dǎo)體器件的性能和質(zhì)量。在濺射過程中,高純度的靶材能夠保證薄膜的質(zhì)量和均勻性,進(jìn)而提高集成電路的性能和可靠性。此外,靶...
**常用的靶材包括氧化鋁、氮化硅、氧化鈦、金屬鋁、銅等材料。對于半導(dǎo)體工業(yè)而言,精密的制備和純凈的材料質(zhì)量是非常關(guān)鍵的。靶材的影響因素主要包括靶材材料的純度和制備工藝。高純度的靶材材料能夠保證制備出的薄膜成分純度更高,由此得到的器件的性能也會更穩(wěn)定,更有可靠性...
以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設(shè)備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為***,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的...
靶材是制備薄膜的主要材料之一,主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等,對材料純度和穩(wěn)定性要求高。濺射靶材的工作原理:濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,...
但是靶材制作困難,這是因?yàn)檠趸熀脱趸a不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑,能夠獲得密度為理論值的93%~98%的靶材,這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。日本的科學(xué)家采用Bizo作為添加劑,Bi2O3在820...
在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負(fù)高壓,從靶極發(fā)出的電子...
??靶材是一種用于高能激光武器中的材料,通過高速荷能粒子的轟擊,靶材會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。?靶材的主要用途包括在?微電子、?顯示器、?存儲器以及?光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)中,用于濺射制備各種薄膜材料。這些薄膜材料在半導(dǎo)體工業(yè)中扮演著重要角色,其質(zhì)量直接影響到器件的性...