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磁控濺射的工作原理簡單說就是利用磁場與電場交互作用，氬離子轟擊靶材表面，同時也把動能傳導進去，隨后靶材表面的原子就被轟擊出來，從不同角度飛向基片，在其表面凝集沉積形成一層薄膜。“這層薄膜非常薄，往往都在納米量級，是人類肉眼看不見的，而一支10毫米厚的靶材所鍍的...

制備一種同質(zhì)雙層氧化鉿減反膜，屬于光學薄膜技術領域。本發(fā)明在透明或半透明基底上依次沉積高折射率的致密氧化鉿層和低折射率的多孔氧化鉿層。兩層氧化鉿的折射率由電子束蒸鍍的入射角度控制，厚度根據(jù)基底不同而調(diào)節(jié)。本發(fā)明采用電子束蒸鍍方法，并且雙層減反膜由同種材料制成，...

靶材相對密度對大面積鍍膜的影響靶材的相對密度是靶材的實際密度與理論密度之比。單組分靶的理論密度為晶體密度。合金或混合物靶材的理論密度由各組分的理論密度及其在合金或混合物中的比例計算得出。熱噴涂的靶材結構疏松多孔，含氧量高（即使在真空噴涂中，也很難避免合金靶材中...

氧化鋅(ZnO)屬于第三代半導體材料,室溫下禁帶寬度約為3.37eV，其激子束縛能高達60mev，比室溫熱離化能(26mev)大得多。第三代半導體材料是指寬禁帶半導體材料，它們的發(fā)光波長短(近紫外)，具有耐高溫、抗輻照、制備方法多、毒性小等特點。自1997 年...

氧化鈮靶材根據(jù)其鍍膜工藝的不同分為平面靶材和旋轉靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達到99.95%,但對氧化鈮的物理性能指標要求不同。平面靶材的生產(chǎn)使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細且均勻,成形性能好;旋轉靶材采用熱噴涂法生產(chǎn),要求氧化鈮具有良好的流動性及嚴格的粒...

ITO靶材生產(chǎn)過程包括金屬提純和靶材制造兩個主要環(huán)節(jié)。因高純金屬原料的品質(zhì)影響靶材的導電性能等性狀，對成膜的質(zhì)量有較大影響，且靶材種類繁多，客戶需求非標，定制屬性明顯。故而金屬提純環(huán)節(jié)技術壁壘及附加值均較高。其中銦屬于稀散金屬，因其具有可塑性、延展性、光滲透性...

靶材開裂影響因素裂紋形成通常發(fā)生在陶瓷濺射靶材（如氧化物、碳化物、氮化物等）和脆性材料濺射靶材（如鉻、銻、鉍等）中。陶瓷或脆性材料目標始終包含固有應力。這些內(nèi)應力是在靶材制造過程中產(chǎn)生的。此外，這些應力不能通過退火過程完全消除，因為它是這些材料的固有特性。在濺...

主要PVD方法的特點：半導體、顯示面板使用濺射鍍膜法（1）金屬提純：靶材純度要求高。金屬提純的主要方式有化學提純與物理提純，化學提純主要分為濕法提純與火法提純，通過電解、熱分解等方式析出主金屬。物理提純則是通過蒸發(fā)結晶、電遷移、真空熔融法等步驟提純得到主金屬。...

IGZO由In2O3、Ga2O3和ZnO相互摻雜得到，是一種透明金屬氧化物半導體材料。IGZO為n型半導體材料，存在3.5 eV左右的帶隙，電子遷移率比非晶硅高1~2個數(shù)量級，其比較大特點是在非晶狀態(tài)下依然具有較高的電子遷移率。由于沒有晶界的影響，非晶結構材料...

濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。磁控...

研究直流磁控反應濺射ITO膜過程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA、LECO測氧儀等手段對毒化發(fā)生的機理進行分析,并對若干誘導因素進行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導毒化發(fā)生....

光伏領域?qū)Π胁牡氖褂弥饕潜∧る姵睾虷JT光伏電池。以HJT電池片為例，在HJT電池片結構中具有TCO薄膜層，該薄膜承擔著透光以及導電的重要作用。應用PVD技術，使離子和靶材表面的原子離開靶材，在基底上形成透明導電薄膜。以鈣鈦礦電池結構為例，鈣鈦礦電池是由多層...

鍍膜的主要工藝有PVD和化學氣相沉積（CVD）。（1）PVD技術是目前主流鍍膜方法，其中的濺射工藝在半導體、顯示面板應用廣。PVD技術分為真空蒸鍍法、濺鍍法和離子鍍法。三種方法各有優(yōu)劣勢：真空蒸鍍法對于基板材質(zhì)沒有限制；濺鍍法薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好；...

氧化鈮靶材根據(jù)其鍍膜工藝的不同分為平面靶材和旋轉靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達到99.95%,但對氧化鈮的物理性能指標要求不同。平面靶材的生產(chǎn)使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細且均勻,成形性能好;旋轉靶材采用熱噴涂法生產(chǎn),要求氧化鈮具有良好的流動性及嚴格的粒...

ITO（氧化銦錫）靶材是濺射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一種，在顯示靶材中占比將近60%。ITO靶材就是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經(jīng)過一系列的生產(chǎn)工藝加工成型，再高溫氣氛燒結（1600度，通氧氣燒結）形成的黑灰色陶瓷半導體。中低端ITO靶材有玻...

IGZO由In2O3、Ga2O3和ZnO相互摻雜得到，是一種透明金屬氧化物半導體材料。IGZO為n型半導體材料，存在3.5 eV左右的帶隙，電子遷移率比非晶硅高1~2個數(shù)量級，其比較大特點是在非晶狀態(tài)下依然具有較高的電子遷移率。由于沒有晶界的影響，非晶結構材料...

ITO靶材生產(chǎn)過程包括金屬提純和靶材制造兩個主要環(huán)節(jié)。因高純金屬原料的品質(zhì)影響靶材的導電性能等性狀，對成膜的質(zhì)量有較大影響，且靶材種類繁多，客戶需求非標，定制屬性明顯。故而金屬提純環(huán)節(jié)技術壁壘及附加值均較高。其中銦屬于稀散金屬，因其具有可塑性、延展性、光滲透性...

鍍膜的主要工藝有PVD和化學氣相沉積（CVD）。（1）PVD技術是目前主流鍍膜方法，其中的濺射工藝在半導體、顯示面板應用廣。PVD技術分為真空蒸鍍法、濺鍍法和離子鍍法。三種方法各有優(yōu)劣勢：真空蒸鍍法對于基板材質(zhì)沒有限制；濺鍍法薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好；...

靶材作為半導體、顯示面板、光伏電池等的關鍵原料，預計2025年全球市場規(guī)模將達333億美元，從下游來看，能夠認為半導體靶材市場、顯示面板靶材市場以及光伏面板靶材市場未來成長空間較大，國產(chǎn)替代需求強烈。而HJT電池靶材有望快速實現(xiàn)國產(chǎn)替代國產(chǎn)靶材廠商有望在HJT...

光伏領域?qū)Π胁牡氖褂弥饕潜∧る姵睾虷JT光伏電池。以HJT電池片為例，在HJT電池片結構中具有TCO薄膜層，該薄膜承擔著透光以及導電的重要作用。應用PVD技術，使離子和靶材表面的原子離開靶材，在基底上形成透明導電薄膜。以鈣鈦礦電池結構為例，鈣鈦礦電池是由多層...

背板材料：無氧銅(OFC)–目前經(jīng)常使用的作背板的材料。因為無氧銅具有良好的導電性和導熱性，而且比較容易機械加工。如果保養(yǎng)適當，無氧銅背板可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如需要進行高溫貼合的條件下，無氧銅容易被氧化和...

濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。磁控...

光伏領域?qū)Π胁牡氖褂弥饕潜∧る姵睾虷JT光伏電池。以HJT電池片為例，在HJT電池片結構中具有TCO薄膜層，該薄膜承擔著透光以及導電的重要作用。應用PVD技術，使離子和靶材表面的原子離開靶材，在基底上形成透明導電薄膜。以鈣鈦礦電池結構為例，鈣鈦礦電池是由多層...

陶瓷靶材陶瓷靶材按化學組成,可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等.陶瓷靶材是比較脆的靶材,通常陶瓷靶材都會綁定背板一起使用,背板除了在濺射過程中可支撐陶瓷靶材,還可以在濺射過程中起到熱傳遞的作用.陶瓷靶材的種類...

濺射靶材開裂原因生產(chǎn)中使用的冷卻水溫度與鍍膜線實際水溫存在差異，導致使用過程中靶材開裂。一般來說，輕微的裂紋不會對鍍膜生產(chǎn)產(chǎn)生很大的影響。但當靶材有明顯裂紋時，電荷很容易集中在裂紋邊緣，導致靶材表面異常放電。放電會導致落渣、成膜異常、產(chǎn)品報廢增加。陶瓷或脆性材...

靶材是半導體、顯示面板、異質(zhì)結光伏領域等的關鍵材料，存在工藝不可替代性。據(jù)測算 2019年全球靶材市場規(guī)模在 160 億美元左右，而國內(nèi)總需求占比超 30%。本土廠商供給約占國內(nèi)市場的 30%，以中低端產(chǎn)品為主，先進靶材主要從美日韓進口，當前國內(nèi)頭部企業(yè)靶材合...

陶瓷靶材的制備工藝烘料:稱量前將起始原料置于烘箱中烘料3~6小時,烘料溫度為100~120℃;配料:將烘干的原料按照相應的化學計量比稱量;球磨:將稱量好的原料以某種制備方式混料,混料時間為4~12小時,制成均勻漿料;干燥:將制得的均勻漿料烘干;煅燒:將烘干的粉...

磁控濺射鍍膜是一種新型的氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速...

靶材綁定背板流程：一、什么是綁定綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來。主要有三種的方式：壓接、釬焊和導電膠。靶材綁定常用釬焊，釬料常用In、Sn、In–Sn，一般使用軟釬料的情況下，要求濺射功率小于20W/㎝2。二、為什么要綁定 1、防止靶材受熱不勻碎裂，例如I...

氧化鋁薄膜是一種重要的功能薄膜材料，由于具有較高的介電常數(shù)、高熱導率、抗輻照損傷能力強、抗堿離子滲透能力強以及在很寬的波長范圍內(nèi)透明等諸多優(yōu)異的物理、化學性能，使其在微電子器件、電致發(fā)光器件、光波導器件以及抗腐蝕涂層等眾多領域有著廣的應用。磁控濺射具有濺射鍍膜...