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主要是操作麻煩還影響生產(chǎn)效率。測試炅盛電鍍油污處理劑的辦法來解決油污問題，測試結(jié)果成功，在底漆柜前端加兩把***噴處理劑，直接濕噴濕，緊接就噴UV底，不影響生產(chǎn)效率，并且還能提高生產(chǎn)效率和良率。ABS化妝品瓶蓋UV真空鍍膜除油方法：PC料蘋果手機(jī)保護(hù)套工藝是工件表面噴涂UV底漆然后真空電鍍，再中涂之后鐳雕***噴UV面漆。問題是噴UV底漆之后表面起油點(diǎn)，簡單好用的處理方式是噴炅盛處理劑研發(fā)的電鍍油污處理劑蓋住素材上的油污，然后噴UV底，不起霧不發(fā)白。PC料手機(jī)套UV真空鍍膜除油方法塑膠成型工藝時，素材從模具中脫模出來多少都會殘留些脫模劑，另外有些油污是外部造成的，泡白電油、泡某些溶劑、超聲波清...

CVD直接生長技術(shù)高效碳納米管鎳氫電池的研究采用熱化學(xué)氣相沉積技術(shù)(CVD)，在泡沫鎳表面直接生長多壁碳納米管(MWNT)，以此MWNT-泡沫鎳基底為電池集流體，并使用該基底、通過大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗(yàn)分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對象，利用有限容積法的仿真方法，對影響基體溫度場的多個工藝參數(shù)進(jìn)行仿真大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗(yàn)分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對象，利用有限容積法的仿真方法，對影響基體溫度場的多個工藝參數(shù)進(jìn)行仿真正交電磁場離子源及其在PVD法制備硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用本文介紹幾種不...

在大面積基板上可制取均勻薄膜，放電電流隨壓強(qiáng)和電壓的改變而變化；2）三極或四極濺射?？蓪?shí)現(xiàn)低氣壓，低電壓濺射，可**控制放電電流和轟擊靶的離子能量。可控制靶電流，也可進(jìn)行射頻濺射；3）磁控濺射（或高速，低溫濺射）。在與靶表面平行的方向上施加磁場，利用電場與磁場正交的磁控管原理，減少電子對基板的轟擊，實(shí)現(xiàn)高速低溫濺射；4）對向靶濺射。兩個靶對向放置，在垂直于靶的表面方向加磁場，可以對磁性材料等進(jìn)行高速低溫濺射；5）射頻濺射。為制取絕緣薄膜，如氧化硅，氧化鋁，玻璃膜等而研制，也可濺射金屬；6）反應(yīng)濺射?？芍谱麝帢O物質(zhì)的化合物薄膜，如氮化鈦，碳化硅，氮化鋁，氧化鋁等；7）偏壓濺射。鍍膜過程中同時**...

近年逐漸擴(kuò)大至激光防偽膜、導(dǎo)電等功能薄膜方面，是未來柔性電子等行業(yè)的主流技術(shù)之一。目前，國際前沿是研究不同制備工藝下功能薄膜特性并完善復(fù)合膜層制備。卷繞鍍膜機(jī)有向大型工業(yè)化和小型科研化方向發(fā)展的兩種趨勢，真空卷對卷設(shè)備由抽真空、卷繞、鍍膜和電氣控制等系統(tǒng)組成。據(jù)真空室有無擋板，可分單室、雙室和多室結(jié)構(gòu)。單室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結(jié)構(gòu)簡單但開卷時放氣會污染真空環(huán)境。雙室結(jié)構(gòu)將系統(tǒng)用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約，避免了類似開卷放氣問題。多室常用于制備復(fù)合薄膜，在雙室基礎(chǔ)上將相鄰鍍膜區(qū)用擋板隔開避免干擾。如Krebs等將SkultunaFlexiblesAB的開普頓擋板固定于兩磁控...

電鍍油污處理劑在UV真空鍍膜工藝中適用于電鍍前處理除油，同時對油漆具有增強(qiáng)附著力的用途。在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域，手機(jī)殼、化妝品瓶蓋、塑膠玩具、手機(jī)中框等在成型時，主要工藝為注塑成型，難以避免脫模劑以及其他油污粘附在基材上，導(dǎo)致噴UV漆之后起油窩，所以除油需要好用且適合電鍍噴涂線體的除油方法。ABS、PC、ABS+PC、TPU等塑膠基材，傳統(tǒng)的白電油等除油方法，工藝繁雜、安全性低、線體生產(chǎn)效率不高，二次清洗、浸泡等還是會帶來油污在工件上的粘附，難以高效穩(wěn)定的除油。電鍍油污處理劑通過底涂的方式，適用于電鍍噴涂線體，遮蓋油污，具有良好的蓋油污能力以及流平，我們通過以下實(shí)例來看看電鍍油污處理劑的應(yīng)用效果。1....

濾光片原理：濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的，紅色濾光片只能讓紅光通過，如此類推，玻璃片的透射率原本與空氣差不多，所有色光都可以通過，所以是透明的，但是染了染料后，分子結(jié)構(gòu)變化，折射率也發(fā)生變化，對某些色光的通過就有變化了，比如一束白光通過藍(lán)色濾光片，射出的是一束藍(lán)光，而綠光、紅光極少，大多數(shù)被濾光片吸收了。濾光片特點(diǎn)：其主要特點(diǎn)是尺寸可做得相當(dāng)大，薄膜濾光片，一般透過的波長較長，多用做紅外濾光片，后者是在一定片基，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜，或全介質(zhì)膜，構(gòu)成一種低級次的﹑多級串聯(lián)實(shí)心法布里-珀**涉儀，膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方式的選擇，由...

利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M(jìn)行“閃光蒸發(fā)”。這對于保證膜的成分，防止膜的分餾或分解也是及其有用的。但是，由于制作大功率連續(xù)式激光器的成本較高，所以它的應(yīng)用范圍有一定的限制，目前尚不能在工業(yè)中***應(yīng)用。2.濺射鍍膜1842年格羅夫在實(shí)驗(yàn)室中發(fā)現(xiàn)了陰極濺射現(xiàn)象。他是在研究電子管的陰極腐蝕問題時發(fā)現(xiàn)陰極材料會遷移到真空管壁上面去的現(xiàn)象。從1870開始，就已經(jīng)將濺射原理應(yīng)用于薄膜的制備，但是，在過去的100多年中濺射工藝的發(fā)展很緩慢。1940年以后，發(fā)現(xiàn)了濺射膜層具有極其優(yōu)良的性能，同時改善濺射裝置，提高濺射速率的各種新工藝相繼出現(xiàn)并到達(dá)實(shí)用化的程度，這才使濺射技術(shù)迅速的發(fā)展，并在工業(yè)上*...

離子源（英文名稱：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過程都能產(chǎn)生離子，并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途，已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎(chǔ)的,常被籠統(tǒng)地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產(chǎn)生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現(xiàn)，使...

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分***的應(yīng)用。真空鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰...

凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍膜又可以分為下列幾種：電阻蒸發(fā)源蒸鍍法采用鉭，鉬，鎢等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓氣流通過，對蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁，氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā)，這就是電阻加熱蒸發(fā)法。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，造價便宜，使用可靠，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中，迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是：加熱所能達(dá)到的**高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合...

真空鍍膜機(jī)主要分類主要分類有兩個大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率，速率4.真空度5.鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1。晶格匹配度2?；瑴囟?。蒸發(fā)速率濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參...

可能會出現(xiàn)表面應(yīng)力裂紋的缺陷，有了底漆過渡，涂層的厚度約10-20um，是完全可以掩蓋塑膠粗糙的表面。而涂層自身的光滑度一般在，幾乎視為鏡面的效果。涂層填充性影響因素：油漆配方：固體量，生產(chǎn)工藝：膜厚3.獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的電鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學(xué)性能.4.附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得電鍍層附著性.5.耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護(hù)塑膠免遭熱變形.6.流平性7.耐熱性真空電鍍金屬層一般只有數(shù)十至數(shù)百納米，耐磨抗劃傷性能較差，同時真空電鍍金屬層暴露在空氣中很容易氧化，從而失...

高頻感應(yīng)蒸發(fā)源蒸鍍法高頻感應(yīng)蒸發(fā)源是將裝有蒸發(fā)材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈**，使蒸發(fā)材料在高頻帶內(nèi)磁場的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失（對鐵磁體），致使蒸發(fā)材料升溫，直至氣化蒸發(fā)。膜材的體積越小，感應(yīng)的頻率就越高。在鋼帶上連續(xù)真空鍍鋁的大型設(shè)備中，高頻感應(yīng)加熱蒸鍍工藝已經(jīng)取得令人滿意的結(jié)果。高頻感應(yīng)蒸發(fā)源的特點(diǎn)：1）蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右；2）蒸發(fā)源的溫度均勻穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象；3）蒸發(fā)材料是金屬時，蒸發(fā)材料可產(chǎn)生熱量；4）蒸發(fā)源一次裝料，無需送料機(jī)構(gòu)，溫度控制比較容易，操作比較簡單。它的缺點(diǎn)是：1）必須采用抗熱震性好，高溫化學(xué)性能穩(wěn)定的氮化硼坩鍋；2）...

測試結(jié)果：涂層表面無明顯破壞的痕跡．測試項(xiàng)目五：耐化妝品測試測試程式：先用棉布將產(chǎn)品的表面檫拭干凈，將凡士林護(hù)手霜涂在產(chǎn)品的表面上，將產(chǎn)品防在恒溫箱中（溫度５５－６５，９０－９８％ＲＨ），保持２４小時，將產(chǎn)品取出，用棉布將化妝品檫拭干凈，觀察外表，２４小時后做附著力測試．測試工具：棉布，凡士林，高低試驗(yàn)箱測試結(jié)果：涂層表面無異常現(xiàn)象，附著力ＯＫ．測試項(xiàng)目六：耐手汗測試測試程式：將手汗（主要的成分：氨水１.０７％，NaCl０.４８％，其余為水）浸泡后的無紡布貼在產(chǎn)品的表面，用塑料袋密封后，在常溫的環(huán)境放置１２小時，將產(chǎn)品表面的汗液檫拭干凈，檢查涂層的外觀，２４小時后做附著力測試．測試工具：高低溫...

車燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求車燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求由于輻射固化涂料的綠色環(huán)保與高效率，使得該技術(shù)在世界范圍內(nèi)獲得了重視和快速增長，其應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度，很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，在塑料基材上可獲得十分光亮的金屬外觀。隨著汽車工業(yè)的發(fā)展，許多金屬替代工藝得到了應(yīng)用，目前在汽車車燈反射罩應(yīng)用領(lǐng)域，已經(jīng)完全采用在PC、BMC等塑料表面通過真空鍍鋁膜來提高反射效果，用于這一領(lǐng)域的UV涂料要求具有良好的流平性，高耐溫性（用于PC基材要求120°C以上，BMC基材高達(dá)180°C以上）。在設(shè)計(jì)PC車燈反射罩用UV底漆時，要注意提高涂層的交聯(lián)密度來保證涂層有良好...

3、拋光以及拋光過程基本工具：拋光機(jī)、黃色拋光球、羊毛拋光盤、封邊膠布、大毛巾、噴壺、純棉毛巾用品：A、可使用舊板三個步驟產(chǎn)品：強(qiáng)力拋光劑、還原拋光劑、增光劑時間要求：2~3小時，1人。B、使用升級板卡拉特三合一快速拋光劑，一步到位時間要求：1-2小時，1人(1)海綿拋光盤浸濕，安裝在研磨機(jī)上，空轉(zhuǎn)5秒鐘，將多余水分甩凈。(2)把研磨劑搖勻，倒在海面拋光盤上少許，用拋光盤在漆面上涂抹均勻。(3)調(diào)整研磨機(jī)轉(zhuǎn)速到1800—2200r/轉(zhuǎn)，啟動研磨拋光機(jī)，沿車身方向直線來回移動，拋光盤經(jīng)過的長條軌跡之間相互覆蓋三分之一，不漏大面積漆。拋光部位順序：按右車頂—右前機(jī)蓋—左前機(jī)蓋—右前翼子板—右前車門...

通帶以外的光截止，其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長（CWL），半帶寬（FWHM)，分為窄帶和寬帶，比如窄帶濾光片短波通型(又叫低波通)：短于選定波長的光通過，長于該波長的光截止，比如紅外截止濾光片長波通型(又叫高波通)：長于選定波長的光通過，短于該波長的光截止，比如紅外透過濾光片四、IR-CUT雙濾光片的使用可以有效解決雙峰濾光片產(chǎn)生問題，IR-CUT雙濾光片由一個紅外截止濾光片和一個全光譜光學(xué)玻璃構(gòu)成，當(dāng)白天的光線充分時紅外截止濾光片工作，CCD還原出真實(shí)彩色，當(dāng)夜間光線不足時，紅外截止濾光片自動移開，全光譜光學(xué)玻璃開始工作，使CCD充分利用到所有光線，從而**提高了低照性能，IRCUT雙濾光片專為...

電鍍油污處理劑在UV真空鍍膜工藝中適用于電鍍前處理除油，同時對油漆具有增強(qiáng)附著力的用途。在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域，手機(jī)殼、化妝品瓶蓋、塑膠玩具、手機(jī)中框等在成型時，主要工藝為注塑成型，難以避免脫模劑以及其他油污粘附在基材上，導(dǎo)致噴UV漆之后起油窩，所以除油需要好用且適合電鍍噴涂線體的除油方法。ABS、PC、ABS+PC、TPU等塑膠基材，傳統(tǒng)的白電油等除油方法，工藝繁雜、安全性低、線體生產(chǎn)效率不高，二次清洗、浸泡等還是會帶來油污在工件上的粘附，難以高效穩(wěn)定的除油。電鍍油污處理劑通過底涂的方式，適用于電鍍噴涂線體，遮蓋油污，具有良好的蓋油污能力以及流平，我們通過以下實(shí)例來看看電鍍油污處理劑的應(yīng)用效果。1....

真空鍍膜技術(shù)是氣相物理沉積的方法之一,也叫真空電鍍.是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱鍍膜材料使之升華,蒸發(fā)粒子流直接射向基體,在基體表面沉積形成固體薄膜.真空鍍膜的應(yīng)用***,如真空鍍鋁,在塑料等基體上進(jìn)行真空鍍,再經(jīng)過不同顏色的染色處理,可以應(yīng)用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產(chǎn)品制造中,裝飾效果十分出色.真空鍍膜技術(shù)基本原理真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片.氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜.但在實(shí)際輝光放電直流濺...

特別適合制作熔點(diǎn)薄膜材料和高純薄膜材料。依靠電子束轟擊蒸發(fā)的真空蒸鍍技術(shù)，根據(jù)電子束蒸發(fā)源的形式不同，又可分為環(huán)形***，直***，e型***和空心陰極電子***等幾種。環(huán)形***是由環(huán)形的陰極來發(fā)射電子束，經(jīng)聚焦和偏轉(zhuǎn)后打在坩鍋內(nèi)使金屬材料蒸發(fā)。它的結(jié)構(gòu)較簡單，但是功率和效率都不高，基本上只是一種實(shí)驗(yàn)室用的設(shè)備，目前在生產(chǎn)型的裝置中已經(jīng)不再使用。直***是一種軸對稱的直線加速***，電子從燈絲陰極發(fā)射，聚成細(xì)束，經(jīng)陽極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發(fā)。直***的功率從幾百瓦至幾百千瓦的都有，有的可用于真空蒸發(fā)，有的可用于真空冶煉。直***的缺點(diǎn)是蒸鍍的材料會污染***體結(jié)構(gòu)，給運(yùn)行的穩(wěn)定...

許多人在使用真空鍍膜設(shè)備的時候，不重視真空鍍膜設(shè)備的清洗，導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備出現(xiàn)很多問題，下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析清潔方案。1.油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)是使用的真空系統(tǒng)，其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類真空鍍膜設(shè)備，常見的故障是真空度抽不上去或真空度抽不到原來的極限壓力水平。真空度抽不上去的原因需要仔細(xì)分析，可能是活動密封處松動、焊縫漏氣、真空泵或真空閥門等元件損壞等原因所導(dǎo)致。此外，真空室內(nèi)壁的油蒸汽污染，真空工藝過程各種污染物的污染也可能是主要原因。防止的方法是：定期清洗真空室。定期對油封機(jī)械真空泵和油金屬擴(kuò)散泵進(jìn)行清理。2.真空鍍膜器材由許多不...

簡介真空鍍膜在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法**早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)如圖1。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃...

凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍膜又可以分為下列幾種：電阻蒸發(fā)源蒸鍍法采用鉭，鉬，鎢等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓氣流通過，對蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁，氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā)，這就是電阻加熱蒸發(fā)法。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，造價便宜，使用可靠，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中，迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是：加熱所能達(dá)到的**高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合...

使CCD不能充分利用所有光線，其低照性能難以令人滿意。五、濾光片術(shù)語入射角度：入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當(dāng)光線正入射時，入射角為0°。光譜特性：濾光片光譜參數(shù)(透過率T，反射率R，光密度OD，位相，偏振狀態(tài)s，p等相對于波長變化的特性)。中心波長：帶通濾光片的中心稱為中心波長（CWL）。通帶寬度用**大透過率一半處的寬度表示（FWHM），通常稱為半寬。有效孔徑：光學(xué)系統(tǒng)中有效利用的物理區(qū)域。通常于濾光片的外觀尺寸相似，同心，尺寸略小些。截止位置/前-后：cut-on對應(yīng)光譜特性從衰減到透過的50%點(diǎn)，cut-off對應(yīng)光譜特性從透過到衰減的50%點(diǎn)。有時也可定義為峰值透過率的5%或者...

塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料,大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域.但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可**增加材料表面耐磨性能,**拓寬了塑料的裝飾性和應(yīng)用范圍.真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富.總體來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果.二、有哪幾款節(jié)能鍍膜玻璃陽光控制玻璃在線陽光控...

主要為在裝飾產(chǎn)品設(shè)計(jì)。例如大型板材管材、家具裝飾品上鍍保護(hù)膜，真空手套箱設(shè)備手套箱后的產(chǎn)品能夠展現(xiàn)出雍容華貴、光彩奪目等各種各樣的美麗效果，并且膜層耐磨損不褪色。1.裝飾件材料(底材)(1)金屬。不銹鋼、鋼基合金、鋅基合金等。(2)玻璃、陶瓷。(3)塑料。ABS、PVC、PC、SHEET、尼龍、水晶等。(4)柔性材料。滌綸膜、PC、紙張、布、泡沫塑料、鋼帶等。2.裝飾膜種類(1)金屬基材裝飾膜層：TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、Ti02、Al等。(2)玻璃、陶瓷裝飾膜層：TiO2、Cr2O3、MgF2、ZnS等。(3)塑料基材裝飾膜層：AI、Cu、Ni、Si02、Ti02...

本文從系統(tǒng)結(jié)構(gòu)、參數(shù)控制和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術(shù)研究進(jìn)展。按結(jié)構(gòu)可分為單室、雙室和多室真空卷繞系統(tǒng)，后兩者可解決開卷放氣問題并分別控制卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控制分錐度、間接和直接控制模型，錐度控制模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的問題；間接張力控制無需傳感器，可用內(nèi)置張力控制模塊的矢量變頻器代替；直接張力控制通過張力傳感器精確測量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數(shù)。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發(fā)、磁控濺射等方式，可用于制備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽能電池等半導(dǎo)體器件。針對真空卷繞鍍膜技術(shù)研究現(xiàn)狀及向產(chǎn)業(yè)化過渡存在的問題，作了簡要分析與展望。真空卷繞鍍膜(卷...

磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)磁控濺射的構(gòu)成例（W35系列）對樹脂基膜等基材以卷到卷方式采用磁控濺射方法形成透明導(dǎo)電膜（ITO，ZnO等）?光學(xué)膜（SiO2,SiOx,NbOx等）鍍膜的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)。磁控濺射法，采用各種陰極（DC,UBM,DMS，旋轉(zhuǎn)磁石），進(jìn)行觸摸屏?FPD?太陽能電池?窗膜等所必須的透明導(dǎo)電膜（TCO）?光學(xué)膜?氧化膜?金屬膜的鍍膜。聚集了從面向R&D?實(shí)驗(yàn)性生產(chǎn)的小型裝置到面向?qū)挿?大型卷繞鍍膜機(jī)，對應(yīng)柔性電子?能源領(lǐng)域的研究開發(fā)直到量產(chǎn)的需求。特征1.可搭載各種陰極1）UBMS（非平衡磁控濺射）根據(jù)非平衡磁場增大基材附近的等離子密度。膜表面的能量輔助效果使得薄膜特性提高。B...

提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量.電子的歸宿不**是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿,因?yàn)橐话慊c真空室及陽極在同一電勢.磁場與電場的交互作用(EXBdrift)使單個電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是**在靶面圓周運(yùn)動.真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)1、鍍覆材料***:可作為真空鍍蒸發(fā)材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬.真空鍍膜加工還可以像多層電鍍一樣,加工出多層結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜,滿足對涂層各種不同性能的需求.2、真空鍍膜技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)不能通過電沉積方法形成鍍層的涂覆:如鋁、鈦、鋯等鍍層,甚至陶瓷和金剛石涂層,這是十分難能可貴的.3、真空鍍膜性能優(yōu)良:真空鍍膜厚度遠(yuǎn)小于電鍍層,但涂層的耐摩擦和耐腐...

成膜好，適合鍍化合物膜。但匹配較困難。可應(yīng)用于鍍光學(xué)，半導(dǎo)體器件，裝飾品，汽車零件等。6）增強(qiáng)ARE型。利用電子束進(jìn)行加熱；充入Ar，其它惰性氣體，反應(yīng)氣體氧氣，氮?dú)獾?；離化方式：探極除吸引電子束的一次電子，二次電子外，增強(qiáng)極發(fā)出的低能電子也可促進(jìn)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對基板加；可用于鍍機(jī)械制品，電子器件，裝飾品。7）低壓等離子體離子鍍（LPPD）。利用電子束進(jìn)行加熱；依靠等離子體使充入的惰性氣體，反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對基板加熱，結(jié)構(gòu)簡單，能獲得氧化鋁，氮化鈦，碳化鈦等離子化合物鍍層；可用于鍍機(jī)械制品，電子器件，裝飾品。8）電場蒸發(fā)。利用電子束進(jìn)行...