薄膜是一種物質(zhì)形態(tài),它所使用的膜材料非常***,可以是單質(zhì)元素或化合物,也可以是無機材料或有機材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣,可以是單晶態(tài)的,多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來功能材料薄膜和復合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應用非常***,尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領域中占有及其重要的地位。鍍膜方法可以分為氣相生成法,氧化法,離子注入法,擴散法,電鍍法,涂布法,液相生長法等。氣相生成法又可分為物***相沉積法,化學氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發(fā),濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物***相沉積法,是基本的薄膜制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以,真空技術是薄膜制作技...
缺點是電子***要求較高的真空度,并需要使用負高壓,這些造成了設備結(jié)構復雜,安全性差,不易維護,造價也較高??招年帢O電子***是利用低電壓,大電流的空心陰極放電產(chǎn)生的等離子電子束作為加熱源??招年帢O電子***用空心的鉭管作為陰極,坩鍋作為陽極,鉭管附近裝有輔**極。利用空心陰極電子***蒸鍍時,產(chǎn)生的蒸發(fā)離子能量高,離化率也高,因此,成膜質(zhì)量好??招年帢O電子***對真空室的真空度要求比e型電子***低,而且是使用低電壓工作,相對來說,設備較簡單和安全,造價也低。目前,在我國e型電子***和空心陰極電子***都已成功地應用于蒸鍍及離子鍍的設備中。***的功率可達10幾萬千瓦,已經(jīng)為機械,...
在離子源推進器實驗中,人們發(fā)現(xiàn)有推進器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應用。離子源的另一個重要應用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產(chǎn)生某種材料的離子,這個離子就在磁性環(huán)路上加速,從而轟擊一個靶,產(chǎn)生新的物質(zhì)或揭示新的物理規(guī)律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽極層離子源,感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結(jié)合強度,...
2)由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[4××(1+)2]×[4××()2]=可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式,我們可以計算光線穿透鏡片的兩面,發(fā)現(xiàn)即使一片完美的透鏡(折射率),其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜(折射率),則透光度可達91%??梢姽鈱W鍍膜的重要性。鍍膜的厚度**后我們要探討的是鍍膜厚度的不同,會有什么影響?我們已經(jīng)知道透光度與鍍膜的折射率有關,但是卻無關于它的厚度。可是我們?nèi)裟茉阱兡さ暮穸壬舷曼c功夫,會發(fā)現(xiàn)反射光A與反射光B相差nc×2D的光程差。如果nc×2D=(N+1/2)λ其中N=0,1,2,3,4,5.....λ為光在空氣中的波長則會造成該特定波...
缺點是電子***要求較高的真空度,并需要使用負高壓,這些造成了設備結(jié)構復雜,安全性差,不易維護,造價也較高??招年帢O電子***是利用低電壓,大電流的空心陰極放電產(chǎn)生的等離子電子束作為加熱源??招年帢O電子***用空心的鉭管作為陰極,坩鍋作為陽極,鉭管附近裝有輔**極。利用空心陰極電子***蒸鍍時,產(chǎn)生的蒸發(fā)離子能量高,離化率也高,因此,成膜質(zhì)量好。空心陰極電子***對真空室的真空度要求比e型電子***低,而且是使用低電壓工作,相對來說,設備較簡單和安全,造價也低。目前,在我國e型電子***和空心陰極電子***都已成功地應用于蒸鍍及離子鍍的設備中。***的功率可達10幾萬千瓦,已經(jīng)為機械,...
特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。依靠電子束轟擊蒸發(fā)的真空蒸鍍技術,根據(jù)電子束蒸發(fā)源的形式不同,又可分為環(huán)形***,直***,e型***和空心陰極電子***等幾種。環(huán)形***是由環(huán)形的陰極來發(fā)射電子束,經(jīng)聚焦和偏轉(zhuǎn)后打在坩鍋內(nèi)使金屬材料蒸發(fā)。它的結(jié)構較簡單,但是功率和效率都不高,基本上只是一種實驗室用的設備,目前在生產(chǎn)型的裝置中已經(jīng)不再使用。直***是一種軸對稱的直線加速***,電子從燈絲陰極發(fā)射,聚成細束,經(jīng)陽極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發(fā)。直***的功率從幾百瓦至幾百千瓦的都有,有的可用于真空蒸發(fā),有的可用于真空冶煉。直***的缺點是蒸鍍的材料會污染***體結(jié)構,給運...
特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。依靠電子束轟擊蒸發(fā)的真空蒸鍍技術,根據(jù)電子束蒸發(fā)源的形式不同,又可分為環(huán)形***,直***,e型***和空心陰極電子***等幾種。環(huán)形***是由環(huán)形的陰極來發(fā)射電子束,經(jīng)聚焦和偏轉(zhuǎn)后打在坩鍋內(nèi)使金屬材料蒸發(fā)。它的結(jié)構較簡單,但是功率和效率都不高,基本上只是一種實驗室用的設備,目前在生產(chǎn)型的裝置中已經(jīng)不再使用。直***是一種軸對稱的直線加速***,電子從燈絲陰極發(fā)射,聚成細束,經(jīng)陽極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發(fā)。直***的功率從幾百瓦至幾百千瓦的都有,有的可用于真空蒸發(fā),有的可用于真空冶煉。直***的缺點是蒸鍍的材料會污染***體結(jié)構,給運...
通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?;糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同,濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應濺射法,即將反應氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應氣體及其離子與靶原子或濺射原子發(fā)生反應生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在...
使CCD不能充分利用所有光線,其低照性能難以令人滿意。五、濾光片術語入射角度:入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當光線正入射時,入射角為0°。光譜特性:濾光片光譜參數(shù)(透過率T,反射率R,光密度OD,位相,偏振狀態(tài)s,p等相對于波長變化的特性)。中心波長:帶通濾光片的中心稱為中心波長(CWL)。通帶寬度用**大透過率一半處的寬度表示(FWHM),通常稱為半寬。有效孔徑:光學系統(tǒng)中有效利用的物理區(qū)域。通常于濾光片的外觀尺寸相似,同心,尺寸略小些。截止位置/前-后:cut-on對應光譜特性從衰減到透過的50%點,cut-off對應光譜特性從透過到衰減的50%點。有時也可定義為峰值透過率的...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā), 磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成 蒸發(fā)和 濺射兩種。 中文名 真空鍍膜機 主要思路 蒸發(fā) 適用范圍 衛(wèi)浴五金 主要分類 溶膠凝膠法 目錄 1 簡介 2 使用步驟 ? 電控柜操作 ? DEF-6B操作 ? 關機順序 3 適用范圍 4 化學成分 ? 薄膜均勻性概念 ? 主要分類 5 操作程序 真空鍍膜機簡介 編輯 需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。 蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過...
使CCD不能充分利用所有光線,其低照性能難以令人滿意。五、濾光片術語入射角度:入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當光線正入射時,入射角為0°。光譜特性:濾光片光譜參數(shù)(透過率T,反射率R,光密度OD,位相,偏振狀態(tài)s,p等相對于波長變化的特性)。中心波長:帶通濾光片的中心稱為中心波長(CWL)。通帶寬度用**大透過率一半處的寬度表示(FWHM),通常稱為半寬。有效孔徑:光學系統(tǒng)中有效利用的物理區(qū)域。通常于濾光片的外觀尺寸相似,同心,尺寸略小些。截止位置/前-后:cut-on對應光譜特性從衰減到透過的50%點,cut-off對應光譜特性從透過到衰減的50%點。有時也可定義為峰值透過率的...
ALtimax中文名:白金鋁鈦_納米晶體;顏色:銀白色;硬度:4300HV;摩擦系數(shù):??寡趸瘻囟龋?200℃;優(yōu)點:高熱穩(wěn)定性;通用於高速鋼與硬質(zhì)合金刀具高速、干式、連續(xù)性切削;可加工高硬度模具鋼50HRC。MedicaWC/C涂層顏色:黑色;硬度硬度>17000HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:450℃;優(yōu)點:磨擦力低,干式金屬潤滑膜;適合醫(yī)療、藥品行業(yè)無油環(huán)境。CrN-WC/C涂層顏色:黑色;硬度>2000HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:650℃;優(yōu)點:解決射出成型脫膜、腐蝕問題;適合汽車、機械零件降低磨擦損耗;適合無油軸承,干式金屬潤滑膜。鍍膜技術真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加...
(1)成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì),而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。(2)蒸發(fā)源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制,可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。(3)不使用有害氣體、液體,對環(huán)境無不利影響。在當前越來越重視環(huán)保的大趨勢下,這點極其可貴。(4)帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。(5)工藝靈活,改變品種方便。可鍍單面、雙面...
(1)成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì),而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。(2)蒸發(fā)源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制,可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。(3)不使用有害氣體、液體,對環(huán)境無不利影響。在當前越來越重視環(huán)保的大趨勢下,這點極其可貴。(4)帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。(5)工藝靈活,改變品種方便。可鍍單面、雙面...
圖1[蒸發(fā)鍍膜設備示意圖])電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應加熱源:用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。為沉積高純單晶膜層,可采用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[分子束外延裝置示意圖]。噴射爐中裝有分子束源,在超高真空下當它被加熱到一定溫度時,爐中元素以束狀分子流射向基片?;患訜岬揭欢囟?,沉積在基片上的分子可...
什么是光學鍍膜:光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。光學鍍膜原理:1-1真空鍍膜真空鍍膜:真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等多種涂料,所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材,將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。蒸發(fā)涂層通常是加熱目標,以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā),并通過成膜方法(散射島結(jié)構-梯形結(jié)構-層...
一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。...
~800mm)工藝?可靈活變化可搭載各種陰極(DC,UBM,DMS,旋轉(zhuǎn)磁石)前處理機能(改善密著性)2.面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機(W50/60S系列)面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機維護性基膜寬:1,300mm、1,600mm(~2,000mm)磁控濺射區(qū)數(shù):1鍍膜滾筒4個區(qū),分割區(qū)域排氣充實的脫氣機能應用例1.透明導電膜(ITO,ZnO等)1)高抵抗ITO膜:面向觸摸屏100~300Ωsq.高方阻ITO的高穩(wěn)定性95℃,1000Hr試驗同時具備柔性和低方阻的高穩(wěn)定性(經(jīng)時變化?。┑姆蔷з|(zhì)ITO膜的鍍膜2)低方阻ITO膜:液晶,有機EL10Ωsq.以下低溫鍍膜所形成的優(yōu)越的方阻率(U...
目前,市場上的真空內(nèi)鍍膜機只有一個工作室,其需要經(jīng)過物件安裝、關閉鐘罩、抽氣、蒸發(fā)、真空處置、排氣、打開鐘罩、取下物件的系列過程,才能完成鍍膜工作;而在這種真空內(nèi)鍍膜機處于工作狀態(tài)時,工作人員必須堅守崗位,注意觀察,把握好鍍膜時間,并等待下一次操作,這樣浪費了人力,工作效率不高。目的是提供工作效率高的一種真空鍍膜機。一種真空鍍膜機,本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合,實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控...
操作規(guī)程1.在真空鍍膜機運轉(zhuǎn)正常情況下,開動真空鍍膜機時。必須先開水管,工作中應隨時注意水壓。2.在離子轟擊和蒸發(fā)時,應特別注意高壓電線接頭,不得觸動,以防觸電。3.在用電子鍍膜時,應在鐘罩上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應安裝通風吸塵裝置,及時排除有害粉塵。5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。6.酸洗夾具應在通風裝置內(nèi)進行,并要戴橡皮手套。7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時,應輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。8.工作完畢應斷電、斷水。優(yōu)點TiN中文名:氮化鈦;顏色:金色;硬度:2300HV;摩擦系...
產(chǎn)品放置24小時后拿出,在常溫條件放置24小時后觀察外觀并做附著力測試.測試工具:高低溫試驗箱測試結(jié)果:涂層表面無異常,附著力OK測試項目九:高溫保存測試程式;在溫度66度,90%RH的條件下,放置88小時,在常溫條件恢復24小時,觀察外觀并做附著力測試.測試結(jié)果:涂層外觀無異常,附著力OK測試項目十:冷熱沖擊測試程式:將產(chǎn)品放在溫度沖擊箱中,先在-20度的低溫環(huán)境下保存24小時,在1分鐘內(nèi)將溫度切換到70度的高溫環(huán)境并保存24小時,接著將溫度下調(diào)到-20度低溫,保存24小時.***在1分鐘內(nèi)將溫度切換到70度的高溫環(huán)境保存48小時,時間共120小時.將產(chǎn)品常溫環(huán)境放置24小時觀察涂層...
以滿足不同的需要.為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜.隨著激光技術的發(fā)展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展.為各種應用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等.光學零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理.三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約.(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對...
可能會出現(xiàn)表面應力裂紋的缺陷,有了底漆過渡,涂層的厚度約10-20um,是完全可以掩蓋塑膠粗糙的表面。而涂層自身的光滑度一般在,幾乎視為鏡面的效果。涂層填充性影響因素:油漆配方:固體量,生產(chǎn)工藝:膜厚3.獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的電鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學性能.4.附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得電鍍層附著性.5.耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形.6.流平性7.耐熱性真空電鍍金屬層一般只有數(shù)十至數(shù)百納米,耐磨抗劃傷性能較差,同時真空電鍍金屬層暴露在空氣中很容易氧化...
在離子源推進器實驗中,人們發(fā)現(xiàn)有推進器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應用。離子源的另一個重要應用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產(chǎn)生某種材料的離子,這個離子就在磁性環(huán)路上加速,從而轟擊一個靶,產(chǎn)生新的物質(zhì)或揭示新的物理規(guī)律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽極層離子源,感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結(jié)合強度,...
測試結(jié)果:涂層表面無明顯破壞的痕跡.測試項目五:耐化妝品測試測試程式:先用棉布將產(chǎn)品的表面檫拭干凈,將凡士林護手霜涂在產(chǎn)品的表面上,將產(chǎn)品防在恒溫箱中(溫度55-65,90-98%RH),保持24小時,將產(chǎn)品取出,用棉布將化妝品檫拭干凈,觀察外表,24小時后做附著力測試.測試工具:棉布,凡士林,高低試驗箱測試結(jié)果:涂層表面無異?,F(xiàn)象,附著力OK.測試項目六:耐手汗測試測試程式:將手汗(主要的成分:氨水1.07%,NaCl0.48%,其余為水)浸泡后的無紡布貼在產(chǎn)品的表面,用塑料袋密封后,在常溫的環(huán)境放置12小時,將產(chǎn)品表面的汗液檫拭干凈,檢查涂層的外觀,24小時后做附著力測試.測試工具...
6)漆面拋光后,用純棉毛巾將整車清潔干凈。4、鍍膜***遍鍍膜:將產(chǎn)品充分搖動均勻,直接將產(chǎn)品倒在車身上,常溫工作,不要在陽光直射下,發(fā)動機罩降溫后比較好。用干凈的鍍膜條,輕快而有力地“十字形式打擦”,直到均勻涂擦。干成結(jié)晶體,漆面就越光澤,附著力越強,選擇鍍膜效果比較好。第二遍鍍膜:重復***遍,10至20分鐘干燥后,鏡靚鍍膜效果立即呈現(xiàn)。顯著一層玻璃體的光亮保護漆面。5、如何判斷鍍膜施工的質(zhì)量?(1)車漆的漆面色澤要一致,和拋光前相比,亮度有明顯改善,比新車還要有亮度;出現(xiàn)玻璃境面,用報紙在漆面上看倒影清晰。(2)換拋光劑的同時更換海綿輪,不可混用海綿輪。(3)要在陰涼、光線好的專...
限制夏季室外的二次熱輻射進入室內(nèi),南方、北方都適用。因其具有豐富的裝飾效果和室外視線遮陽作用,適用于各類建筑物。雙銀LowE玻璃雙銀LowE玻璃突出了玻璃對太陽熱輻射的遮陽效果,將玻璃的高透光性與太陽熱輻射的低透過性巧妙地結(jié)合在一起,有較高的可見光透過率,可有效地限制夏季室外的背景熱輻射進入室內(nèi)。相關概念鏡頭鏡頭在影視中有兩指,一指電影攝影機、放映機用以生成影像的光學部件,由多片透鏡組成。各種不同的鏡頭,各有不同的造型特點,它們在攝影造型上的應用,構成光學表現(xiàn)手段;二指從開機到關機所拍攝下來的一段連續(xù)的畫面,或兩個剪接點之間的片段,也叫一個鐿頭。一指和二指,是兩個完全不同的概念,為了區(qū)...
測試結(jié)果:涂層表面無明顯破壞的痕跡.測試項目五:耐化妝品測試測試程式:先用棉布將產(chǎn)品的表面檫拭干凈,將凡士林護手霜涂在產(chǎn)品的表面上,將產(chǎn)品防在恒溫箱中(溫度55-65,90-98%RH),保持24小時,將產(chǎn)品取出,用棉布將化妝品檫拭干凈,觀察外表,24小時后做附著力測試.測試工具:棉布,凡士林,高低試驗箱測試結(jié)果:涂層表面無異常現(xiàn)象,附著力OK.測試項目六:耐手汗測試測試程式:將手汗(主要的成分:氨水1.07%,NaCl0.48%,其余為水)浸泡后的無紡布貼在產(chǎn)品的表面,用塑料袋密封后,在常溫的環(huán)境放置12小時,將產(chǎn)品表面的汗液檫拭干凈,檢查涂層的外觀,24小時后做附著力測試.測試工具...
真空鍍膜機鍍膜是指在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。無錫光潤為您介紹真空鍍膜機的原理。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機鍍膜方法有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜:通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜?,F(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發(fā)源有三種類型:①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高頻感應加熱源源:用高頻感應電流加熱坩堝...
耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍?A5:在現(xiàn)階段,PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的,并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外,在很多其他材料(如鋅合金、銅、鐵等)的工件上進行PVD鍍膜前,都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較***的五金制品上,對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。Q6:請問采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么特點?A6:采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層,具...