通常對(duì)蒸發(fā)源應(yīng)考慮蒸發(fā)源的材料和形狀,一般對(duì)蒸發(fā)源材料的要求是:1.熔點(diǎn)高因?yàn)檎舭l(fā)材料的蒸發(fā)溫度(平衡蒸汽壓為)多數(shù)在1000~2000℃之間,因此,蒸發(fā)源材料的熔點(diǎn)應(yīng)高于此溫度.2.平衡蒸汽壓低主要是防止或減少高溫下蒸發(fā)源材料隨蒸發(fā)材料蒸發(fā)而成為雜質(zhì),進(jìn)入蒸鍍膜層中.只有在蒸發(fā)源材料的平衡氣壓足夠低時(shí),才能保證在蒸發(fā)時(shí)具有**小的自蒸發(fā)量,才不致影響系統(tǒng)真空度和污染膜層,為了使蒸發(fā)源材料所蒸發(fā)的數(shù)量非常少,在選擇蒸發(fā)溫度、蒸發(fā)源材料時(shí),應(yīng)使材料的蒸發(fā)溫度低于蒸發(fā)源材料,在平衡氣壓為×10-6Pa時(shí)的制備高質(zhì)量的薄膜可采用與×10-3Pa所對(duì)應(yīng)的溫度.3.化學(xué)性能穩(wěn)定在高溫下不應(yīng)與蒸發(fā)材料發(fā)生...
CVD直接生長技術(shù)高效碳納米管鎳氫電池的研究采用熱化學(xué)氣相沉積技術(shù)(CVD),在泡沫鎳表面直接生長多壁碳納米管(MWNT),以此MWNT-泡沫鎳基底為電池集流體,并使用該基底、通過大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗(yàn)分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對(duì)象,利用有限容積法的仿真方法,對(duì)影響基體溫度場的多個(gè)工藝參數(shù)進(jìn)行仿真大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗(yàn)分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對(duì)象,利用有限容積法的仿真方法,對(duì)影響基體溫度場的多個(gè)工藝參數(shù)進(jìn)行仿真正交電磁場離子源及其在PVD法制備硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用本文介紹幾種不...
真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支,在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分***的應(yīng)用。真空鍍膜應(yīng)用,簡單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜,它的主要方法包括以下幾種:真空蒸鍍其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰...
卷繞鍍膜機(jī)的主要特點(diǎn):1、卷饒系統(tǒng)采用高精度支流或交流變頻調(diào)速,具有運(yùn)行平穩(wěn)、速度高、對(duì)原卷材不劃傷、不折皺,收卷端面整齊等特點(diǎn);2、張力控制采用進(jìn)口數(shù)字張力控制系統(tǒng),具有張力、線速度恒定,動(dòng)作快速的特點(diǎn);3、各組送絲由微機(jī)電機(jī)控制,可總調(diào)或單獨(dú)調(diào)速,并有速度顯示;4、真空系統(tǒng)配置精良,抽氣速度快,采用PLC控制;5、配備大功率電源,鍍膜效率高,膜層均勻性好。蒸發(fā)、磁控系列卷繞鍍膜設(shè)備主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面鍍制金屬膜。產(chǎn)品用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業(yè)和建材行業(yè)等領(lǐng)域。本系列設(shè)備具有運(yùn)行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護(hù)方便。卷繞鍍膜機(jī)要怎么...
電鍍油污處理劑在UV真空鍍膜工藝中適用于電鍍前處理除油,同時(shí)對(duì)油漆具有增強(qiáng)附著力的用途。在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域,手機(jī)殼、化妝品瓶蓋、塑膠玩具、手機(jī)中框等在成型時(shí),主要工藝為注塑成型,難以避免脫模劑以及其他油污粘附在基材上,導(dǎo)致噴UV漆之后起油窩,所以除油需要好用且適合電鍍噴涂線體的除油方法。ABS、PC、ABS+PC、TPU等塑膠基材,傳統(tǒng)的白電油等除油方法,工藝繁雜、安全性低、線體生產(chǎn)效率不高,二次清洗、浸泡等還是會(huì)帶來油污在工件上的粘附,難以高效穩(wěn)定的除油。電鍍油污處理劑通過底涂的方式,適用于電鍍噴涂線體,遮蓋油污,具有良好的蓋油污能力以及流平,我們通過以下實(shí)例來看看電鍍油污處理劑的應(yīng)用效果。1....
離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用,使膜層附著強(qiáng)度**提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn),并有很好的...
產(chǎn)品放置24小時(shí)后拿出,在常溫條件放置24小時(shí)后觀察外觀并做附著力測試.測試工具:高低溫試驗(yàn)箱測試結(jié)果:涂層表面無異常,附著力OK測試項(xiàng)目九:高溫保存測試程式;在溫度66度,90%RH的條件下,放置88小時(shí),在常溫條件恢復(fù)24小時(shí),觀察外觀并做附著力測試.測試結(jié)果:涂層外觀無異常,附著力OK測試項(xiàng)目十:冷熱沖擊測試程式:將產(chǎn)品放在溫度沖擊箱中,先在-20度的低溫環(huán)境下保存24小時(shí),在1分鐘內(nèi)將溫度切換到70度的高溫環(huán)境并保存24小時(shí),接著將溫度下調(diào)到-20度低溫,保存24小時(shí).***在1分鐘內(nèi)將溫度切換到70度的高溫環(huán)境保存48小時(shí),時(shí)間共120小時(shí).將產(chǎn)品常溫環(huán)境放置24小時(shí)觀察涂層外觀并做...
高頻感應(yīng)蒸發(fā)源蒸鍍法高頻感應(yīng)蒸發(fā)源是將裝有蒸發(fā)材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈**,使蒸發(fā)材料在高頻帶內(nèi)磁場的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失(對(duì)鐵磁體),致使蒸發(fā)材料升溫,直至氣化蒸發(fā)。膜材的體積越小,感應(yīng)的頻率就越高。在鋼帶上連續(xù)真空鍍鋁的大型設(shè)備中,高頻感應(yīng)加熱蒸鍍工藝已經(jīng)取得令人滿意的結(jié)果。高頻感應(yīng)蒸發(fā)源的特點(diǎn):1)蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右;2)蒸發(fā)源的溫度均勻穩(wěn)定,不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象;3)蒸發(fā)材料是金屬時(shí),蒸發(fā)材料可產(chǎn)生熱量;4)蒸發(fā)源一次裝料,無需送料機(jī)構(gòu),溫度控制比較容易,操作比較簡單。它的缺點(diǎn)是:1)必須采用抗熱震性好,高溫化學(xué)性能穩(wěn)定的氮化硼坩鍋;2)...
TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。Q9:請(qǐng)問PVD鍍膜膜層的厚度是多少?A9:PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工。Q10:請(qǐng)問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些?A10:我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù),可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用...
許多人在使用真空鍍膜設(shè)備的時(shí)候,不重視真空鍍膜設(shè)備的清洗,導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備出現(xiàn)很多問題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析清潔方案。1.油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)是使用的真空系統(tǒng),其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類真空鍍膜設(shè)備,常見的故障是真空度抽不上去或真空度抽不到原來的極限壓力水平。真空度抽不上去的原因需要仔細(xì)分析,可能是活動(dòng)密封處松動(dòng)、焊縫漏氣、真空泵或真空閥門等元件損壞等原因所導(dǎo)致。此外,真空室內(nèi)壁的油蒸汽污染,真空工藝過程各種污染物的污染也可能是主要原因。防止的方法是:定期清洗真空室。定期對(duì)油封機(jī)械真空泵和油金屬擴(kuò)散泵進(jìn)行清理。2.真空鍍膜器材由許多不...
對(duì)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料,需要與膜層結(jié)合性高,放氣量小,受熱穩(wěn)定,同時(shí)滿足這三個(gè)條件的塑料材料是非常少的,但塑料材料在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用卻非常***,所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來,為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中,常常通過各種方法改進(jìn)?,F(xiàn)在介紹幾種真空鍍膜中常用的塑料,ABS是**早使用的,是同時(shí)滿足三個(gè)條件的塑料,A**丙烯腈,B**丁二烯,S**苯乙烯,塑料中含有以上三種物質(zhì)的就是ABS塑料了,ABS鍍上膜層后,可以很好的發(fā)揮其機(jī)械性能、抗沖擊性,依靠其硬度大,耐磨損,成本不高,常常被用于代替某些金屬機(jī)械零部件,也用于生產(chǎn)家用電器的外殼,但由于含有丁二烯,ABS不能在室外使用,...
真空鍍膜機(jī)鍍膜是指在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。無錫光潤為您介紹真空鍍膜機(jī)的原理。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機(jī)鍍膜方法有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜:通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜?,F(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)源有三種類型:①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高頻感應(yīng)加熱源源:用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝...
6)漆面拋光后,用純棉毛巾將整車清潔干凈。4、鍍膜***遍鍍膜:將產(chǎn)品充分搖動(dòng)均勻,直接將產(chǎn)品倒在車身上,常溫工作,不要在陽光直射下,發(fā)動(dòng)機(jī)罩降溫后比較好。用干凈的鍍膜條,輕快而有力地“十字形式打擦”,直到均勻涂擦。干成結(jié)晶體,漆面就越光澤,附著力越強(qiáng),選擇鍍膜效果比較好。第二遍鍍膜:重復(fù)***遍,10至20分鐘干燥后,鏡靚鍍膜效果立即呈現(xiàn)。顯著一層玻璃體的光亮保護(hù)漆面。5、如何判斷鍍膜施工的質(zhì)量?(1)車漆的漆面色澤要一致,和拋光前相比,亮度有明顯改善,比新車還要有亮度;出現(xiàn)玻璃境面,用報(bào)紙?jiān)谄崦嫔峡吹褂扒逦?2)換拋光劑的同時(shí)更換海綿輪,不可混用海綿輪。(3)要在陰涼、光線好的專業(yè)美容車...
卷繞鍍膜機(jī)是對(duì)薄膜進(jìn)行收卷鍍膜的一種鍍膜裝置,在鍍膜之前是先將需要鍍膜的薄膜卷放在鍍膜機(jī)處的安裝座處,通過鋁導(dǎo)輥的導(dǎo)向,可將薄膜從薄膜卷上拉出,并將薄膜通過蒸發(fā)源上方經(jīng)過,便可對(duì)薄膜進(jìn)行鍍膜處理,在鍍膜冷卻后,收卷即可。但是現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī),在多薄膜鍍膜的過程中,存在如下問題;1、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī),在對(duì)薄膜進(jìn)行放卷時(shí),易造成薄膜的褶皺,導(dǎo)致薄膜的不平整,不利于對(duì)薄膜的鍍膜處理;2、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī),在薄膜通過蒸發(fā)源進(jìn)行鍍膜時(shí),由于溫度過高,易造成薄膜的收縮,不利于薄膜后續(xù)的收卷處理。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于卷繞鍍膜機(jī)展平的結(jié)構(gòu),以解決上述背景技術(shù)提出的目前市場上的現(xiàn)有的卷...
附著性好,膜結(jié)構(gòu)及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板;可用于鍍耐腐蝕潤滑機(jī)械制品。2)多陰極型。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠熱電子,陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,有時(shí)需要對(duì)基板加熱可用于鍍精密機(jī)械制品,電子器件裝飾品。3)活性反應(yīng)蒸鍍法(ARE)。利用電子束加熱使膜材氣化;依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣,氮?dú)獾确磻?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加熱,蒸鍍效率高,能獲得氧化鋁,氮化鈦,碳化鈦等薄膜;可用于鍍機(jī)械制品,電子器件,裝飾品。4)空心陰極離子鍍(HCD)。利用等離子...
蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。濺射鍍膜:用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上?;糜谡龑?duì)靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。卷繞鍍膜機(jī)在購買時(shí)有什么注意事項(xiàng)?現(xiàn)貨卷繞鍍膜機(jī)推薦咨詢可靈活變化可搭載各種陰極(DC,U...
真空鍍膜一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)先用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片,如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色,機(jī)械刀具鍍膜,改變加工紅硬性。簡介在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代,四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用,工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代,在電子、宇航、包裝、裝...
許多人在使用真空鍍膜設(shè)備的時(shí)候,不重視真空鍍膜設(shè)備的清洗,導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備出現(xiàn)很多問題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析清潔方案。1.油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)是使用的真空系統(tǒng),其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類真空鍍膜設(shè)備,常見的故障是真空度抽不上去或真空度抽不到原來的極限壓力水平。真空度抽不上去的原因需要仔細(xì)分析,可能是活動(dòng)密封處松動(dòng)、焊縫漏氣、真空泵或真空閥門等元件損壞等原因所導(dǎo)致。此外,真空室內(nèi)壁的油蒸汽污染,真空工藝過程各種污染物的污染也可能是主要原因。防止的方法是:定期清洗真空室。定期對(duì)油封機(jī)械真空泵和油金屬擴(kuò)散泵進(jìn)行清理。2.真空鍍膜器材由許多不...
可靈活變化可搭載各種陰極(DC,UBM,DMS,旋轉(zhuǎn)磁石)前處理機(jī)能(改善密著性)2.面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)(W50/60S系列)面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)維護(hù)性基膜寬:1,300mm、1,600mm(~2,000mm)磁控濺射區(qū)數(shù):1鍍膜滾筒4個(gè)區(qū),分割區(qū)域排氣充實(shí)的脫氣機(jī)能應(yīng)用例1.透明導(dǎo)電膜(ITO,ZnO等)1)高抵抗ITO膜:面向觸摸屏100~300Ωsq.高方阻ITO的高穩(wěn)定性95℃,1000Hr試驗(yàn)同時(shí)具備柔性和低方阻的高穩(wěn)定性(經(jīng)時(shí)變化?。┑姆蔷з|(zhì)ITO膜的鍍膜2)低方阻ITO膜:液晶,有機(jī)EL10Ωsq.以下低溫鍍膜所形成的優(yōu)越的方阻率(UBM/BM比較)BM:通常的...
濾光片原理:濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的,紅色濾光片只能讓紅光通過,如此類推,玻璃片的透射率原本與空氣差不多,所有色光都可以通過,所以是透明的,但是染了染料后,分子結(jié)構(gòu)變化,折射率也發(fā)生變化,對(duì)某些色光的通過就有變化了,比如一束白光通過藍(lán)色濾光片,射出的是一束藍(lán)光,而綠光、紅光極少,大多數(shù)被濾光片吸收了。濾光片特點(diǎn):其主要特點(diǎn)是尺寸可做得相當(dāng)大,薄膜濾光片,一般透過的波長較長,多用做紅外濾光片,后者是在一定片基,用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜,或全介質(zhì)膜,構(gòu)成一種低級(jí)次的﹑多級(jí)串聯(lián)實(shí)心法布里-珀**涉儀,膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方式的選擇,由...
通帶以外的光截止,其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),分為窄帶和寬帶,比如窄帶濾光片短波通型(又叫低波通):短于選定波長的光通過,長于該波長的光截止,比如紅外截止濾光片長波通型(又叫高波通):長于選定波長的光通過,短于該波長的光截止,比如紅外透過濾光片四、IR-CUT雙濾光片的使用可以有效解決雙峰濾光片產(chǎn)生問題,IR-CUT雙濾光片由一個(gè)紅外截止濾光片和一個(gè)全光譜光學(xué)玻璃構(gòu)成,當(dāng)白天的光線充分時(shí)紅外截止濾光片工作,CCD還原出真實(shí)彩色,當(dāng)夜間光線不足時(shí),紅外截止濾光片自動(dòng)移開,全光譜光學(xué)玻璃開始工作,使CCD充分利用到所有光線,從而**提高了低照性能,IRCUT雙濾光片專為...
近年逐漸擴(kuò)大至激光防偽膜、導(dǎo)電等功能薄膜方面,是未來柔性電子等行業(yè)的主流技術(shù)之一。目前,國際前沿是研究不同制備工藝下功能薄膜特性并完善復(fù)合膜層制備。卷繞鍍膜機(jī)有向大型工業(yè)化和小型科研化方向發(fā)展的兩種趨勢,真空卷對(duì)卷設(shè)備由抽真空、卷繞、鍍膜和電氣控制等系統(tǒng)組成。據(jù)真空室有無擋板,可分單室、雙室和多室結(jié)構(gòu)。單室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中,結(jié)構(gòu)簡單但開卷時(shí)放氣會(huì)污染真空環(huán)境。雙室結(jié)構(gòu)將系統(tǒng)用擋板隔成卷繞和鍍膜室,卷輥與擋板間隙約,避免了類似開卷放氣問題。多室常用于制備復(fù)合薄膜,在雙室基礎(chǔ)上將相鄰鍍膜區(qū)用擋板隔開避免干擾。如Krebs等將SkultunaFlexiblesAB的開普頓擋板固定于兩磁控...
離子源(英文名稱:Ionsource)是使中性原子或分子電離,并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對(duì)氣體原子(或分子)的碰撞,帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過程都能產(chǎn)生離子,并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途,已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎(chǔ)的,常被籠統(tǒng)地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產(chǎn)生離子的,也有很廣的用途。新型重離子源的出現(xiàn),使...
目前市場上的真空鍍膜設(shè)備廠家是非常多的,所以競爭就非常激烈了,消費(fèi)者在選擇真空鍍膜設(shè)備廠家的時(shí)候,是需要通過一些方面來鑒別真空鍍膜設(shè)備廠家的實(shí)力。一、經(jīng)驗(yàn)。真空鍍膜設(shè)備維修和很多其他的技能是一樣的,具有豐富的經(jīng)驗(yàn)才能應(yīng)對(duì)多種狀況的出現(xiàn),才能保障好結(jié)果。二、成功案例。真空鍍膜設(shè)備維修案例是直接的實(shí)力見證之一,真空鍍膜設(shè)備維修要的還是實(shí)際的操作,這不僅*包括了真空鍍膜設(shè)備本身,還包括了像真空鍍膜設(shè)備這樣的專業(yè)配置,畢竟配置是真空鍍膜設(shè)備維修的重要前提。三、售后服務(wù)。售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修后的一個(gè)重要保障之一,完善的售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個(gè)公司很難在每...
按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。3、氧化鋯材料特點(diǎn)白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點(diǎn)影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會(huì)造成入射光的漫射,降低鏡片的透光率。此外材質(zhì)的吸旋光性,也會(huì)造成某些入射光源的其中部分頻率消散的特別嚴(yán)重。例如會(huì)吸收紅色光的材質(zhì)看起來就呈現(xiàn)綠色。不過這些加工不良的因素都可以盡可能地去除。很可惜的是大自然里本來就存在的缺陷。當(dāng)入射光穿過不同的介質(zhì)時(shí),就一定會(huì)發(fā)生反射與折射的問題。若是我們垂直入射材質(zhì)的話,我們可以定義出反射率與穿透率。很多人會(huì)好奇地問:一片完美且無鍍膜玻璃的透光度應(yīng)該有多少?既...
高純鎳柱,高純鉭,高純鉭片,高純鉭絲,高純鉭粒,高純鎳鉻絲,高純鎳鉻粒,高純鑭,高純釓,高純釓,高純鈰,高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩,高純錸,高純銠,高純鈀,高純銥等.混合料氧化鋯氧化鈦混合料,氧化鋯氧化鉭混合料,氧化鈦氧化鉭混合料,氧化鋯氧化釔混合料,氧化鈦氧化鈮混合料,氧化鋯氧化鋁混合料,氧化鎂氧化鋁混合料,氧化銦氧化錫混合料,氧化錫氧化銦混合料,氟化鈰氟化鈣混合料等混合料其他化合物鈦酸鋇,BaTiO3,鈦酸鐠,PrTiO3,鈦酸鍶,SrTiO3,鈦酸鑭,LaTiO3,硫化鋅,ZnS,冰晶石,Na3AlF6,硒化鋅,ZnSe,硫化鎘,硫化鉬,硫化銅,二硅化鉬。輔料鉬片,鉬舟、鉭片...
6)漆面拋光后,用純棉毛巾將整車清潔干凈。4、鍍膜***遍鍍膜:將產(chǎn)品充分搖動(dòng)均勻,直接將產(chǎn)品倒在車身上,常溫工作,不要在陽光直射下,發(fā)動(dòng)機(jī)罩降溫后比較好。用干凈的鍍膜條,輕快而有力地“十字形式打擦”,直到均勻涂擦。干成結(jié)晶體,漆面就越光澤,附著力越強(qiáng),選擇鍍膜效果比較好。第二遍鍍膜:重復(fù)***遍,10至20分鐘干燥后,鏡靚鍍膜效果立即呈現(xiàn)。顯著一層玻璃體的光亮保護(hù)漆面。5、如何判斷鍍膜施工的質(zhì)量?(1)車漆的漆面色澤要一致,和拋光前相比,亮度有明顯改善,比新車還要有亮度;出現(xiàn)玻璃境面,用報(bào)紙?jiān)谄崦嫔峡吹褂扒逦?2)換拋光劑的同時(shí)更換海綿輪,不可混用海綿輪。(3)要在陰涼、光線好的專業(yè)美容車...
附著性好,膜結(jié)構(gòu)及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板;可用于鍍耐腐蝕潤滑機(jī)械制品。2)多陰極型。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠熱電子,陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,有時(shí)需要對(duì)基板加熱可用于鍍精密機(jī)械制品,電子器件裝飾品。3)活性反應(yīng)蒸鍍法(ARE)。利用電子束加熱使膜材氣化;依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣,氮?dú)獾确磻?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加熱,蒸鍍效率高,能獲得氧化鋁,氮化鈦,碳化鈦等薄膜;可用于鍍機(jī)械制品,電子器件,裝飾品。4)空心陰極離子鍍(HCD)。利用等離子...
通帶以外的光截止,其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),分為窄帶和寬帶,比如窄帶濾光片短波通型(又叫低波通):短于選定波長的光通過,長于該波長的光截止,比如紅外截止濾光片長波通型(又叫高波通):長于選定波長的光通過,短于該波長的光截止,比如紅外透過濾光片四、IR-CUT雙濾光片的使用可以有效解決雙峰濾光片產(chǎn)生問題,IR-CUT雙濾光片由一個(gè)紅外截止濾光片和一個(gè)全光譜光學(xué)玻璃構(gòu)成,當(dāng)白天的光線充分時(shí)紅外截止濾光片工作,CCD還原出真實(shí)彩色,當(dāng)夜間光線不足時(shí),紅外截止濾光片自動(dòng)移開,全光譜光學(xué)玻璃開始工作,使CCD充分利用到所有光線,從而**提高了低照性能,IRCUT雙濾光片專為...
特別適合制作熔點(diǎn)薄膜材料和高純薄膜材料。依靠電子束轟擊蒸發(fā)的真空蒸鍍技術(shù),根據(jù)電子束蒸發(fā)源的形式不同,又可分為環(huán)形***,直***,e型***和空心陰極電子***等幾種。環(huán)形***是由環(huán)形的陰極來發(fā)射電子束,經(jīng)聚焦和偏轉(zhuǎn)后打在坩鍋內(nèi)使金屬材料蒸發(fā)。它的結(jié)構(gòu)較簡單,但是功率和效率都不高,基本上只是一種實(shí)驗(yàn)室用的設(shè)備,目前在生產(chǎn)型的裝置中已經(jīng)不再使用。直***是一種軸對(duì)稱的直線加速***,電子從燈絲陰極發(fā)射,聚成細(xì)束,經(jīng)陽極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發(fā)。直***的功率從幾百瓦至幾百千瓦的都有,有的可用于真空蒸發(fā),有的可用于真空冶煉。直***的缺點(diǎn)是蒸鍍的材料會(huì)污染***體結(jié)構(gòu),給運(yùn)行的穩(wěn)定...