CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電科技團隊從用戶需求出發(fā)。湖北病毒顆粒分析儀報價

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對可見光具有高透過率等特點，大量用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來制作抗靜電涂層、OLED(有機電激發(fā)光二極管)、有機薄膜太陽能電池材料、電極材料、電化學生物傳感器等。PEDOT及其復合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撐二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根陰離子的化學聚合物)的粒度大小和粒度分布與其導電性能相關(guān)。CPS納米粒度分析儀可以提供確切穩(wěn)定的測量分析，有助于終產(chǎn)品導電性能的評價。CPS納米粒度分析儀測定PEDOT/PSS得到的結(jié)果，粒徑為0.022微米(儀器使用轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分鐘)。湖北病毒顆粒分析儀報價馳光機電科技有限公司產(chǎn)品適用范圍廣，產(chǎn)品規(guī)格齊全，歡迎咨詢。

印刷和涂料，涂料：水基和油基涂料，微纖維涂料粘度改性劑，打印機/復印件墨粉，噴墨打印機墨水，炭黑，磁性材料。半導體：微磨料，CMP化學機械拋光。其他：納米微球，淀粉/面粉顆粒，顆粒團聚模式分析，標準顆粒。CPS納米粒度分析儀的操作軟件集數(shù)據(jù)于一體，主要包括以下特性：后臺數(shù)據(jù)采集，允許測量時瀏覽數(shù)據(jù)；重量，表面積，數(shù)量和吸收分布圖；可以在同一張圖表上顯示20個不同的分布結(jié)果；可定制的分布統(tǒng)計輸出結(jié)果；完整的粒度分布統(tǒng)計。

標定CPS使用的標定顆粒都與美國標準和技術(shù)研究院(NIST)的其它標準進行過交叉對比，確保均值、峰寬或者半峰寬等方面的誤差在±2%之內(nèi)，而且顆粒的團聚性也符合要求?？蛇x標定顆粒：直徑小于10微米的標定顆粒通常以懸液的形式保存在水中，當然也可以保存在非水基懸液中。大于10微米可以有三種形態(tài)，水基懸液，非水基懸液或者干粉狀態(tài)。每一套標定顆粒都有其粒度分析結(jié)果和分析證書。應(yīng)用實例：PEDOT及其復合材料的粒徑測量PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性。馳光機電科技有限公司具有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)力量過硬的專業(yè)技術(shù)人才管理團隊。

使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖，表明儀器的重復性較好，樣品的粒徑為0.586微米。分析氧化鋁粉末時，為防止樣品發(fā)生凝聚，需要添加入少量的乙酸。氧化鋅ZnO粉末：氧化鋅俗稱鋅白，是鋅的一種氧化物。氧化鋅是一種常用的化學添加劑，大量地應(yīng)用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑、食品、電池、阻燃劑等產(chǎn)品的制作中。氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)良的常溫發(fā)光性能，在半導體領(lǐng)域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產(chǎn)品中均有應(yīng)用。山東馳光機電科技有限公司不斷從事技術(shù)革新，改進生產(chǎn)工藝，提高技術(shù)水平。湖北病毒顆粒分析儀報價

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CMP漿料粒度分析的難點在于必須在拋光過程中全濃度條件下快速測定平均顆粒直徑和粒度分布，因為稀釋可能導致漿料穩(wěn)定性和粒度的變化(比如進一步的團聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測本來就較少量的團聚體。CPS-24000型納米粒度分析儀是較新型的納米粒度分析儀，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來。適用于稀到高濃度的樣品粒度測定，對團聚體的存在非常敏感。湖北病毒顆粒分析儀報價

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