CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電科技有限公司不懈追求產(chǎn)品質(zhì)量，精益求精不斷升級。山西高靈敏度納米粒度分析儀

這個關系可以用散點圖顯示，用以觀察樣品粒徑和形狀之間的關系。形狀過濾功能可以根據(jù)粒徑或形狀特性放大觀察樣品的特定部分?？梢愿鶕?jù)數(shù)據(jù)挖掘，對比分析粒度粒型數(shù)據(jù)分析，給除對比圖與表格。圖像分析軟件的特征：測量過程中可觀察顆粒；對已存圖片或錄像可重新分析；可根據(jù)粒徑或形狀對顆粒分類和過濾；對非球形顆?？梢蕴峁┒喾N形狀參數(shù)；可提供纖維測量模塊；驗證工具－較大程度減少樣品預處理對測量結果的影響，顆粒形狀信息是很重要的。山西高靈敏度納米粒度分析儀馳光通過專業(yè)的知識和可靠技術為客戶提供服務。

CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據(jù)Stokes定律，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量。待測樣品從圓盤中心進入高速旋轉的圓盤，在離心力的作用下發(fā)生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設有激光檢測器，顆粒按尺寸大小依次通過探測器，儀器記錄顆粒通過探測器的時間，由于所有顆粒走過的路程都一樣，因此，顆粒運動所需的時間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度。

激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度，根據(jù)米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數(shù)：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液），可選 配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒。半導體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。馳光機電科技有限公司獲得市場的一致認可。

測量低密度顆粒：示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質(zhì)液體密度的顆粒，CPS開發(fā)了一項新的技術技術(US Patent5,786,898)。很多用常規(guī)示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質(zhì)體)，現(xiàn)在可以方便地使用CPS進行分析，而且精度很高。速度調(diào)節(jié)：CPS開發(fā)了一種特殊的圓盤設計使得在分析過程中可以調(diào)節(jié)圓盤的轉速，而不會對沉降液體產(chǎn)生擾動，轉速可以在20倍范圍內(nèi)升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態(tài)范圍幾乎增大了20倍。馳光機電科技以創(chuàng)百年企業(yè)、樹百年品牌為使命，傾力為客戶創(chuàng)造更大利益！內(nèi)蒙古二氧化鈦粒度分析儀價格

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CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑：金剛石微粉是指顆粒度細于36/54微米的金剛石顆粒，金剛石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于機械、航天、光學儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門，用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復合片)、陶瓷結合劑、金屬結合劑、電鍍產(chǎn)品；制作拉絲模、電鍍磨具，陶瓷、金屬結合劑磨具等；制造金剛石樹脂結合劑彈性磨塊等；用于精密機械、光學玻璃、精細陶瓷、寶石及半導體等產(chǎn)品的研磨拋光。CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑。山西高靈敏度納米粒度分析儀

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