顆粒的大小稱作粒度，顆粒的直徑稱做粒徑。通常用粒徑來表示粒度，粒度測量儀可以利用顆粒對激光的散射特性作等效對比，可快速有效測量粒徑，采用會聚光傅立葉變換測試技術保證在短焦距獲得大量程，有效提高儀器的分辨能力對小顆粒有的測試能力，是工廠、研究所、高等院校等機構(gòu)進行相關粒度測試的理想選擇。粒度測量儀的應用現(xiàn)狀與前景展望：基于光散射原理的激光粒度儀已經(jīng)大量應用于各領域的粒度檢測。如：各種非金屬粉體，如重鈣、輕鈣、滑石粉、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤土、硅藻土、黏土等。馳光機電科技有限公司愿與各界朋友攜手共進，共創(chuàng)未來！河南高靈敏度納米粒度分析儀報價

系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng)，減少了由于系統(tǒng)污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預處理系統(tǒng)：正確設計和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運行的關鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場經(jīng)驗針對這種復雜的工藝樣品，專門為低維護操作而設計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米，減少了維護量。先進的安全系統(tǒng)，保護分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準，無樣本回收系統(tǒng)。西藏CPS高精度納米粒度分析儀誠信是企業(yè)生存和發(fā)展的根本。

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內(nèi)拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致?lián)p害的產(chǎn)生。

升降臺式樣品池送進定位及環(huán)境光遮蔽系統(tǒng)，使光子相關譜探測系統(tǒng)不只體積小，而且具有很強的抗干擾能力。高精度的測試溫度控制系統(tǒng)：單獨的循環(huán)溫控槽可在2-95℃范圍內(nèi)任意設定，其控制精度達0.1℃。微量樣品池/標準樣品池：可以使用3.5ML的標準樣品池外，還有適應于稀有貴重樣品的0.3ML微樣池。環(huán)境溫度：在5-35℃的環(huán)境中，本儀器都能正常使用。納米粒度儀樣品池恒溫箱及恒溫DI水供應系統(tǒng)：有利于提高測試溫度控制精度同時減少等待樣品池熱平衡的時間，提高儀器的實際測試精度和工作效率。馳光機電科技有限公司的行業(yè)影響力逐年提升。

CPS納米粒度分析儀測量參數(shù)：粒徑、粒形和濃度；粒徑范圍：0.1-3600μm；濃度范圍：高達109顆粒/cm3(對1μm顆粒)；供樣方式：液體、干粉、表面；系統(tǒng)規(guī)格/重量電源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二極管檢測器；全量程的0.3%，小可達0.2μm；同步頻閃光源，亮度和持續(xù)時間可調(diào)；頻閃率；可達30次/秒。分辨率B&W CCD攝像機。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系統(tǒng)，檢測報告自動生成，符合FDA 21 CFRPART11標準。ISO標準；符合多項ISO方法標準；測量池模塊：液體、乳液/不透明液體、干粉、纖維、磁性顆粒、加熱液體及氣溶膠。馳光是多層次的團體與管理模式。廣西納米粒度分析儀價格

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CPS納米粒度分析儀操作權(quán)限和文件存取安全設置；屏顯離心轉(zhuǎn)速控制；高級數(shù)據(jù)分析功能，包括噪聲過濾和分辨率加強。樣品應用：地質(zhì)學，土壤、粘土、沙、高嶺土；環(huán)境；制藥/生化；化學，殺蟲劑、分散劑、催化劑、樹脂、乳液、防腐劑、顏料、涂料、；陶瓷和金屬，鋁、硅、磁粉、鎢、燒結(jié)制品、不銹鋼、鈷；能源，煤、燃料、漿液、頁巖油乳劑；粉煤灰；食品；重工業(yè)，聚合物、油滴、磨損顆粒、白堊、填料、調(diào)色劑、紙漿/紙、PVC、水泥；生命科學。河南高靈敏度納米粒度分析儀報價

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