而CMP工藝離不開(kāi)研磨料的發(fā)展，那么對(duì)于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機(jī)械力對(duì)加工過(guò)程中的硅晶圓或其它襯底材料進(jìn)行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤(pán)上，拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由亞微米或納米磨粒和化學(xué)溶液組成的研磨液在硅片表面和拋光墊之間流動(dòng)，然后研磨液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下，均勻分布其上，在硅片和拋光墊之間形成一層研磨液液體薄膜。馳光機(jī)電過(guò)硬的產(chǎn)品質(zhì)量、完善的售后服務(wù)、認(rèn)真嚴(yán)格的企業(yè)管理，贏得客戶的信譽(yù)。山西高靈敏度納米粒度分析儀價(jià)格

一般離心式分析儀的動(dòng)態(tài)范圍為40，但是CPS系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)范圍可以超過(guò)1000。過(guò)去很多需要消耗整夜時(shí)間而且低精度的測(cè)量，現(xiàn)在可以使用示差沉降法快速測(cè)量，而得到高精度的結(jié)果。低噪聲光源/檢測(cè)頭：CPS納米粒度分析儀的光學(xué)系統(tǒng)和電路經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)以降低信號(hào)中的噪聲，信噪比通常為50000左右，低噪聲使得系統(tǒng)具有很高的靈敏度，可檢測(cè)窄峰的重量通常小于0.01微克，這使得對(duì)于微克樣品的常規(guī)高精度分析變得可行。CPS系統(tǒng)以合理的價(jià)格提供高精度、高動(dòng)態(tài)范圍和高靈敏度的粒度分析解決方案。江西激光粒度粒形分析儀馳光是多層次的團(tuán)體與管理模式。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎(chǔ)是它先進(jìn)的示差沉降技術(shù)。高轉(zhuǎn)速：CPS可以支持的較高轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。對(duì)于超細(xì)顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調(diào)節(jié)技術(shù)，可以對(duì)粒度分布范圍較廣的樣品進(jìn)行分析。對(duì)于在其它分析儀上很多非常耗時(shí)(數(shù)小時(shí)或更長(zhǎng))的樣品，CPS可以快速得到結(jié)果。高精度標(biāo)定：CPS系統(tǒng)使用已知的標(biāo)定顆粒進(jìn)行標(biāo)定，與美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)相兼容的標(biāo)準(zhǔn)保證了分析結(jié)果的一致性和精確度。使用內(nèi)標(biāo)法，也即把已知標(biāo)定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結(jié)果可以達(dá)到±0.25%的精度。

CPS納米粒度分析儀測(cè)量參數(shù)：粒徑、粒形和濃度；粒徑范圍：0.1-3600μm；濃度范圍：高達(dá)109顆粒/cm3(對(duì)1μm顆粒)；供樣方式：液體、干粉、表面；系統(tǒng)規(guī)格/重量電源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二極管檢測(cè)器；全量程的0.3%，小可達(dá)0.2μm；同步頻閃光源，亮度和持續(xù)時(shí)間可調(diào)；頻閃率；可達(dá)30次/秒。分辨率B&W CCD攝像機(jī)。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系統(tǒng)，檢測(cè)報(bào)告自動(dòng)生成，符合FDA 21 CFRPART11標(biāo)準(zhǔn)。ISO標(biāo)準(zhǔn)；符合多項(xiàng)ISO方法標(biāo)準(zhǔn)；測(cè)量池模塊：液體、乳液/不透明液體、干粉、纖維、磁性顆粒、加熱液體及氣溶膠。公司可靠的質(zhì)量保證體系和經(jīng)營(yíng)管理體系，使產(chǎn)品質(zhì)量日趨穩(wěn)定。

系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng)，減少了由于系統(tǒng)污染引起的計(jì)劃外停機(jī)維護(hù)時(shí)間。樣品預(yù)處理系統(tǒng)：正確設(shè)計(jì)和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運(yùn)行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)針對(duì)這種復(fù)雜的工藝樣品，專(zhuān)門(mén)為低維護(hù)操作而設(shè)計(jì)。低維護(hù)的固體顆粒分離器。不帶過(guò)濾元件可將顆粒去除達(dá)到2-3微米，減少了維護(hù)量。先進(jìn)的安全系統(tǒng)，保護(hù)分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡(jiǎn)單校準(zhǔn)。標(biāo)準(zhǔn)的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準(zhǔn)，無(wú)樣本回收系統(tǒng)。馳光機(jī)電與廣大客戶攜手共創(chuàng)碧水藍(lán)天。浙江二氧化鈦粒度分析儀廠家

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CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分，其對(duì)于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過(guò)程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級(jí)顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對(duì)CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問(wèn)題！山西高靈敏度納米粒度分析儀價(jià)格

山東馳光機(jī)電科技有限公司位于南定鎮(zhèn)億達(dá)路38號(hào)工業(yè)園區(qū)1-301室，擁有一支專(zhuān)業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。致力于創(chuàng)造***的產(chǎn)品與服務(wù)，以誠(chéng)信、敬業(yè)、進(jìn)取為宗旨，以建馳光產(chǎn)品為目標(biāo)，努力打造成為同行業(yè)中具有影響力的企業(yè)。我公司擁有強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力，多年來(lái)一直專(zhuān)注于機(jī)電科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開(kāi)發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)服務(wù)；機(jī)電設(shè)備、儀器儀表設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售；閥門(mén)、換熱器設(shè)備銷(xiāo)售。公司生產(chǎn)銷(xiāo)售分析儀表，引進(jìn)德國(guó)技術(shù)和零配件完全原裝進(jìn)口，高標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)。產(chǎn)品為濁度分析儀， 色度分析儀，濃度分析儀，水中油分析儀，油中水分析儀，微量水分析儀，適用于壓力比較高 325bar，溫度比較高 240℃的場(chǎng)合。的發(fā)展和創(chuàng)新，打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù)。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的分析儀，在線監(jiān)測(cè)，在線分析，流量計(jì)。