據(jù)統(tǒng)計，2021年我國PTA將迎來投產(chǎn)前端期，基本都是行業(yè)前端企業(yè)配套上下游的規(guī)劃項目，其中恒力石化2021年在廣東惠州設(shè)計產(chǎn)能達(dá)到500萬噸，預(yù)計2021年我國PTA計劃投產(chǎn)PTA產(chǎn)能1650萬噸（保底1160萬噸），預(yù)計2022年我國PTA計劃投產(chǎn)PTA產(chǎn)能570萬噸。CPS高精度納米粒度分析儀CPS高精度納米粒度分析儀有三種型號：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS納米粒度分析儀是目前世界上分析速度快、分辨率較高以及靈敏度較好的離心沉降式納米粒度分析儀，它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之間的顆粒。馳光機(jī)電真誠希望與您攜手、共創(chuàng)輝煌。新疆二氧化鈦粒度分析儀價格

一般離心式分析儀的動態(tài)范圍為40，但是CPS系統(tǒng)的動態(tài)范圍可以超過1000。過去很多需要消耗整夜時間而且低精度的測量，現(xiàn)在可以使用示差沉降法快速測量，而得到高精度的結(jié)果。低噪聲光源/檢測頭：CPS納米粒度分析儀的光學(xué)系統(tǒng)和電路經(jīng)過精心設(shè)計以降低信號中的噪聲，信噪比通常為50000左右，低噪聲使得系統(tǒng)具有很高的靈敏度，可檢測窄峰的重量通常小于0.01微克，這使得對于微克樣品的常規(guī)高精度分析變得可行。CPS系統(tǒng)以合理的價格提供高精度、高動態(tài)范圍和高靈敏度的粒度分析解決方案。貴州高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀廠家馳光機(jī)電科技和客戶攜手誠信合作，共創(chuàng)輝煌！

測量低密度顆粒：示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質(zhì)液體密度的顆粒，CPS開發(fā)了一項新的技術(shù)技術(shù)(US Patent5,786,898)。很多用常規(guī)示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質(zhì)體)，現(xiàn)在可以方便地使用CPS進(jìn)行分析，而且精度很高。速度調(diào)節(jié)：CPS開發(fā)了一種特殊的圓盤設(shè)計使得在分析過程中可以調(diào)節(jié)圓盤的轉(zhuǎn)速，而不會對沉降液體產(chǎn)生擾動，轉(zhuǎn)速可以在20倍范圍內(nèi)升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態(tài)范圍幾乎增大了20倍。

這個關(guān)系可以用散點圖顯示，用以觀察樣品粒徑和形狀之間的關(guān)系。形狀過濾功能可以根據(jù)粒徑或形狀特性放大觀察樣品的特定部分。可以根據(jù)數(shù)據(jù)挖掘，對比分析粒度粒型數(shù)據(jù)分析，給除對比圖與表格。圖像分析軟件的特征：測量過程中可觀察顆粒；對已存圖片或錄像可重新分析；可根據(jù)粒徑或形狀對顆粒分類和過濾；對非球形顆粒可以提供多種形狀參數(shù)；可提供纖維測量模塊；驗證工具－較大程度減少樣品預(yù)處理對測量結(jié)果的影響，顆粒形狀信息是很重要的。馳光機(jī)電科技以精良的產(chǎn)品品質(zhì)和優(yōu)先的售后服務(wù)，全過程滿足客戶的需求。

各種金屬粉體：如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。其它粉體：如催化劑、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、熒光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各種乳濁液等。在現(xiàn)代裝備制造業(yè)中的各種潤滑油、液壓油、燃料油、超導(dǎo)體、絕緣材料、無線電技術(shù)等行業(yè)越來越離不開激光粒度檢測技術(shù)，在這些領(lǐng)域，激光粒度儀發(fā)揮著越來越大的作用。粒度測量儀可用于建筑材料生產(chǎn)種，建筑業(yè)大量使用的水泥，產(chǎn)品的粒度分布是影響質(zhì)量的非常重要的因素之一。馳光機(jī)電嚴(yán)格控制原材料的選取與生產(chǎn)工藝的每個環(huán)節(jié)，保證產(chǎn)品質(zhì)量不出問題。天津納米粒度分析儀哪家好

公司生產(chǎn)工藝得到了長足的發(fā)展，優(yōu)良的品質(zhì)使我們的產(chǎn)品銷往全國各地。新疆二氧化鈦粒度分析儀價格

對于粒徑分布范圍很寬的樣品，通過可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤，只需常規(guī)圓盤分析時間的1/20。經(jīng)過CPS納米粒度儀對裂解后炭黑進(jìn)行粒徑測試后的結(jié)果所示：與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致，裂解后的炭黑較小粒徑為3um，較大可至50多微米，并且出現(xiàn)很多峰值，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級。作為芯片制造不可或缺的一環(huán)，CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來是受歡迎的。新疆二氧化鈦粒度分析儀價格