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福建高靈敏度納米粒度分析儀報價

來源: 發(fā)布時間:2023-10-20

為了實現(xiàn)較佳過程控制,樣品測量時間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀,專為化工廠的惡劣環(huán)境而設(shè)計。分析儀配置和操作簡單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議。C-Quand在線 XRF分析儀可以連續(xù)測量多達(dá)四個流路,每個流都有自己的校準(zhǔn)曲線。此外,C-Quand在線XRF分析儀有各種方法來檢查和確??煽康臄?shù)據(jù)。每小時分析一次內(nèi)置的固體參考。有了這個內(nèi)置的自動參考,您將能夠在一年內(nèi)實現(xiàn)無漂移過程測量。馳光機(jī)電科技有限公司重信譽(yù)、守合同,嚴(yán)把產(chǎn)品質(zhì)量關(guān),熱誠歡迎廣大用戶前來咨詢考察,洽談業(yè)務(wù)!福建高靈敏度納米粒度分析儀報價

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CPS納米粒度分析儀測量參數(shù):粒徑、粒形和濃度;粒徑范圍:0.1-3600μm;濃度范圍:高達(dá)109顆粒/cm3(對1μm顆粒);供樣方式:液體、干粉、表面;系統(tǒng)規(guī)格/重量電源:665L×280W×183H(mm);14Kg;100-130V,205-240V,50/60Hz,100VA;2mW He-Ne,632.8nm,硅PIN二極管檢測器;全量程的0.3%,小可達(dá)0.2μm;同步頻閃光源,亮度和持續(xù)時間可調(diào);頻閃率;可達(dá)30次/秒。分辨率B&W CCD攝像機(jī)。NTSC 840×640像素;PAL768×572像素。Windows XP操作系統(tǒng),檢測報告自動生成,符合FDA 21 CFRPART11標(biāo)準(zhǔn)。ISO標(biāo)準(zhǔn);符合多項ISO方法標(biāo)準(zhǔn);測量池模塊:液體、乳液/不透明液體、干粉、纖維、磁性顆粒、加熱液體及氣溶膠。福建高靈敏度納米粒度分析儀報價馳光機(jī)電科技有限公司品牌價值不斷提升。

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高靈敏度:即使只有1微克樣品,CPS也能得到一個準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果??焖?、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換:可用信號分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實現(xiàn)在每秒31次取樣時保持20位以上的精度,即百萬分之一的誤差??焖贆z測頭響應(yīng):CPS系統(tǒng)的檢測頭和電路設(shè)計允許在95%精度下0.1秒的響應(yīng)速度,而同類產(chǎn)品的響應(yīng)時間為1-4秒。這一出眾的快速移動峰值檢測能力較大地擴(kuò)展了測量的動態(tài)范圍,比同類型產(chǎn)品提供高出4倍多的分析速度。

CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑:金剛石微粉是指顆粒度細(xì)于36/54微米的金剛石顆粒,金剛石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于機(jī)械、航天、光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門,用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復(fù)合片)、陶瓷結(jié)合劑、金屬結(jié)合劑、電鍍產(chǎn)品;制作拉絲模、電鍍磨具,陶瓷、金屬結(jié)合劑磨具等;制造金剛石樹脂結(jié)合劑彈性磨塊等;用于精密機(jī)械、光學(xué)玻璃、精細(xì)陶瓷、寶石及半導(dǎo)體等產(chǎn)品的研磨拋光。CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑。馳光機(jī)電科技有限公司創(chuàng)新發(fā)展,努力拼搏。

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EyeTec濃度測量:除了顆粒大小,激光和顆粒交互產(chǎn)生的信號可以提供非常有用的顆粒濃度信息。EyeTech記錄全部的交互信號。因為旋轉(zhuǎn)的激光的檢測范圍是一定的,所以顆粒濃度可以計算出來。了解顆粒數(shù)據(jù)庫系統(tǒng):可通過鼠標(biāo)點擊調(diào)出每個已檢測顆粒的詳細(xì)數(shù)據(jù)信息,包括圖像、圖形和參數(shù);顆粒數(shù)量無限制;顆粒信息易于輸出至Excel進(jìn)行進(jìn)一步處理;提供顆粒信息數(shù)據(jù)庫,數(shù)據(jù)挖掘便于分析對比和統(tǒng)計。動態(tài)粒形分析的形狀和粒徑相關(guān)數(shù)據(jù)可提供關(guān)于單個顆粒豐富的信息。選擇馳光,就是選擇質(zhì)量、真誠和未來。CPS高精度納米粒度分析儀價格

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激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度,根據(jù)米氏散射理論,得出不同尺寸顆粒的相對含量,從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數(shù):測量范圍:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋轉(zhuǎn)速度:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤:CR-39聚合物(耐有機(jī)溶劑和水溶液),可選 配:低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤;自動密度梯度液生成器(型號AG300);自動進(jìn)樣器(型號AS200);標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。半導(dǎo)體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。福建高靈敏度納米粒度分析儀報價

標(biāo)簽: 實驗室分析儀 在線分析